Стекло для изготовления стекловолокна

Номер патента: 769418

Опубликовано: 07.10.1980

Авторы: Глазов, Муха, Папин, Пустовалов, Туманов

МПК: G01N 27/02

Метки: активных, извести, сао

...массе содержит аналитическую термостатированную ячейку 1 с,измерительными электродами, температура в которой поддерживается блоком управления тепловым режимом, состоящего из нагревателя 2, кон тактного термометра 8, электронного устройства 4, Аналитическая ячейка 1 оборудована электромешалкой Б и блоком б подачи воды и извести, Блок 7, служащий для обеспечения работы устройства в заданных диапазонах измеренля концентрации извести и известково-песчаной массы, содержит два термостатированных сопротивления, периодически подключаемых на вход электронного усилителя 8 через цепь электропроводностл жесткой воды, выход которого подключен к входу калибратора 9.При изменении состояния поверхности ана дипической ячейви 1 вследствие...

Номер патента: 85812

Опубликовано: 01.01.1950

Автор: Бухтин

МПК: C23D 1/00

Метки: аппаратуры, внутренние, нанесении, наружные, поверхности, химической, эмали, эмальгатор

...б с двумя ручками б и слюдяным экраном 7, вставленным в стальную раму, Питание электрическим током и водой производится через комбинированный гибкий шланг 8 с резиновыми трубками для высокочастотных проводов и трубок, подводящих и отводящих воду.Работа устройства происходит следующим образом.Токи высокой частоты от лампового генератора с импульс-инвертером Р = 100 йи, 1 = 50 1 НХ по изолированному гибкому шлангу 8 поступают на индуктор 1, вокруг которого на ограниченной контактами площади стенки возбуждаются вихревые токи; благодаря скин-эффекту эти токи нагревают верхний слой (0,2 - 0,5 мм) стенки до температуры 1000 - 1100 в течение 3 сек.Пароперегреватель 3, расположенный Ь-образно по обеим сторонам индуктора и питающийся от...

Номер патента: 514219

Опубликовано: 15.05.1976

Авторы: Африканова, Кабуров, Лемешко

МПК: G01L 27/00

Метки: давления, датчиков, динамической, плотности, пульсаций, скорости, татировки, температуры

...цилиндра 4, размещенного в отсеке 5, который герметично соединен с корпусом сопла 3. Оси симметрии цилиндра 4 и сопла 3 параллельны. Цилиндр снабжен приводом 6 для вращения вокруг оси, например электродвигателем. На боковой поверхности цилиндра 4 выполнены равномерно чередующиеся пазы и выступы, профплированные по образующей. Профилирование пазов и выступов выполнено в соответствии с заданной величиной пульсаций.Сжатый воздух из источника 2 поступает в форкамеру 1 и оттуда в сверхзвуковое сопло 3. При вращении цилиндра 4 сечение рабочей камеры периодически изменяется. В поло. женин Л, когда стенкой сопла 3 является выступ, площадь поперечного сечения сопла минимальна, и в нем устанавливается режим течения с параметрами скорости 11...

Номер патента: 726041

Опубликовано: 05.04.1980

Авторы: Артамонова, Горькая, Каплина, Косарева, Половникова, Сычева

МПК: C03C 3/08

Метки: стекло

...вес.%:8 Ог 73,0 - 76,5 А 1 з Оз 2,5 - 3,5 ВзОз 4,0 - 9,8 Маг О 4,50 - 7,5 ТО 2,0 - 5,0 Сеоз 2,0 - 6,0 СаО 3,0 - 5,0 М 90 1,0 - 4,0 Присутствие модификаторов СаО и М 90 в составе стекла при указанном соотношении компонентов способствует созданию К.т.р. (4855) 10 7, при температуре размягчения не,ниже 680 С. Подобное соотношение СаО к М 90, отнесенное к основному составу, улучшает вязкостные характеристики стекла в интервале выработки, что дает возможность вести выработку массивных светотехнических изделий Таблица 1 Компоненты 4 1 573,0 76,0 73,5 74,0 75,0 73,5 Я От 3,0 2,5 3,2 А 1 аОз 3,0 25 25 4,0 В 203 4,0 4.0 6,5 50 4,5 Маз О 6,5 5,0 4,5 2,0 45 3,5 4,0 3,0 3,0 СеО 4,5 2,0 2,0 3,5 5.0 3,0 3,5 5,0 СаО 30 50 30 3,0 1,5 М 90 4,0 1,0 1,2...

Номер патента: 1321456

Опубликовано: 07.07.1987

Авторы: Александров, Михалев, Павлов, Семиколенных, Смирнов, Тюляев

МПК: B01J 10/00, B01J 19/18

Метки: открытого, реактор, типа, химический

...содержит вертикальный цилиндрический корпус 1, коаксиально установленную в нем циркуляционную 20 трубу 2, привод 3, перемешивающее устройство, состоящее из вала 4, мешалки 5, и спрямляющий узел б,соплоинжектор 7 и демпфирующую камеру 8,Реактор работает следующим образом.25Исходные .компоненты непрерывно попадают в реактор через штуцеры, расположенные на крышке, Один из компонентов дозируется в демпфирующую камеру 8. Попадая в реактор, исходные З 0 компоненты перемешиваются с реакционной массой, находящейся в реакторе и движущейся под воздействием мешалки 5 по циркуляционному контуру., образованному циркуляционной трубой 2, кор пусом 1 и крышкой, Реакционная масса движется от мешалки вниз, далее проходит через спрямляющий узел 7...