Способ обработки слитка

1 ю нтдо-т,го д 4 -,нОП ИСАН ИЕИЗОБВЕТЕН ИЯИ 110 ВСКОЫУ СВИДИТВЛЬСУВУ Союз Соеетскии Социапмстическии Республик(45) Дата опубликования описания 25.12.77(51) М. Кл.гС 21 С 5/56В 22 Р 19/00 Государстееииый комитет Сооета Мииистров СССР оо делам иэабретеиий и открытиЯ(72) Авторы изобретения Ордена Ленина и ордена Трудового Красного Знамени институт электросварки им. Е, О. Патона(54) СПОСОБ ОБРАБОТКИ СЛИТКА Известен способ обработки слитка путем оплавления поверхности . электронным лучом.Цель изобретения - получение разнородного по химическому составу и структуре слитка.Для этого в процессе оплавления образуют ванну жидкого металла между крнсталлизатором и сердцевиной слитка, установленного на затравке, имеющей возможность продольного и вращательного перемещения. Для получения одинаковой толщины слитка кристаллиэатору с затравкой и заготовкой сообщают вращательное или воЗвратно-вращательное движение вок руг продольной оси. Кроме того, для получения одинаковой толщины наплавленного металла по всему периметру плоскогослитка плазма- тронам сообщают возвратно-поступательное дьижение, сохреияя неизменное расстояние между плаэматронами и слитком, С целью из менеиия химического состава или рафинирования периферийной части слитка, на зеркало ванны подают алак и материал необходимого химсостава.Способ осуществляют следующим образом, 20 В медном водоохлаждаемом кристаллизаторе, установленном в .плавильной камере, на специальной затравке крепится металлический слиток. Перед началом процесса верхний торец затравки совмещается с верхним торцом кристаллизатора, Поверхностный слой слитка Й оплавляется в контролируемой газовой среде прн помощи плазматронов, расположенных вокруг заготовки. При этом жидкий металл образует кольцевую ванну, зеркало которой ограничено с одной стороны стенкой кристаллизатора, а с другой - сердцевиной слитка.Слиток в процессе оплавления непрерывно вытягивается из кристаллнзатора. Кольцевая ван.на постоянно поддерживается в верхней частИ кристаллизатора. Толщина дереплавленноге слоя регулируется моц 1 ностью плазматронов е скоростью вытягивания слитка.Одинаковая толщина переплавленного слоя по всему периметру слитка достигается совместным вращением слитка, кристаллизатора и затравки, либо осуществлением их возвратно- вращательного двиЖения вокруг продольной оси.С целью получения разнородного по химическому составу слитка используют составную заготовку, состоящую из центральной, частиц.но оплавляемой штаЛи и периферийных пол.постыл переплавляемых пластин илн прутков.Эта же цель достигается подачей в зову план.ления заготовки при помощи отдельного механизма их перемещения, либо равномерной подачей на зеркало кольцевой металлической ввн.ны сыпучих легнрующих добавок при помощю дозатора.1 У ф ае,4 М124863 Формила изобретения Состявнтеяь Т, МорозоваТекред О. Дуговая Корректор С. ПатрушеваРедактор Н. Вояннова Заказ 4708 г 5 Тнраж 693 Поаннсное ОНИТ 4 ПИ Госуяарстеенного коинтета Совета Мнннстрое СССР по лелем нзобретеннй н открьгтнИ13035, Москва, Ж.35, Раушская наб., д, 4/5 Фнлнвл ППП яПатентв, г. Ужгороа, ул. Проектная, 4ЭДополнительное пафинирование переплавл немого меалл,. осуществляют п ри помощи шлака, непрерывно подаваемого на зеркало кольцевой, металлической ванны через дозатор.Для получения азотнрованного слоя на слитке оплавление заготовки осуществляют в еаотсодержащей атмосфере при давлении газа в плавильной камере печи ю ниже 1 ата,С целью раскислення металла периферий. ной части слитка оплавление заготовки ведут в водородсодержащей атмосфере,В процессе оплавления плоских слитков, для получения одинаковой толщины переплавленного слоя, плазматровы совершают возврат. но-поступательное движение при неизменном расстояний между плазматронами и слитком,1 Способ обработки слитка путем оплавления его поверхностноГо сбй в влкуутне яли контролируеаой атмосфере, отличающийся тем, что, с целью получения разнорщмого по химФ- ческому составу и структуре слитка, в процессе оплавления образунгг ванну жидкого металла между кристаллизатором и сердцевиной слитка, установленного на затравке, именнцей возможность продольного поступательного и вращательного перемещения.М 2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что,с целью получении одинаковой толщины наплавленного металла по всему периметру слитка, кристаллизатору с затравкой и заготовкой сообщакзт вращательное или возвратно-вращательное движение вокруг продольной оси.1 Е 3. Способ по п. 1 отличающийся тем, что,с целью получения одинаковой толщины наплавленного мета.нна по всЕму периметру плоского слитка, плазматронам сообщает возврат.но-поступательное движение, сохраняя . неизменное рассгояние между плазматронами и слиткор 4. 4. Способ по п. 1, отличающийся тем, что, недье изменения химического состава илирафинирования периферийной части слитка, на З 3 зеркало ванны подают материал необходимогохимсостава и шлак,