Устройство для измерения температуры

Номер патента: 1407970

Опубликовано: 07.07.1988

Автор: Титов

МПК: C21D 1/74

Метки: атмосферы, генератора, контролируемой, температуры

...необходимого номиндльного расхода смеси через генератор. Холодильники 7 предназначены для охлаждения продуктов реакции горения и контролируемой атмосферы. На линиях подачи воздуха, газа и продуктов реакции горения установлены изме 50 рители расхода - ротаметры 8 - 10 соответственно. Смесь продуктов реакции горения и природного газа с помощью ротацион 55 ного компрессора 11 подается к колонке 12 для поглощения иэ газовой смеси двуокиси углерода, затем в холодильник 7 для осушки и далее - в реакционную реторту 13 генератора.Предлагаемый способ осуществляется следующим образом.При нейтральном попожении золотника Е вентилем б устанавливается расход исходной смеси, обеспечивающий близкую к номинальной производительность при условии...

Номер патента: 1367070

Опубликовано: 15.01.1988

Авторы: Кесслер, Нартов, Полонский, Фомин, Швец, Шкляев

МПК: H01M 10/48

Метки: гальванического, емкости, малогабаритного, остаточной, элемента

...по выходу через положительную выходную клемму с контролируемым эле 35 ментом, В течение действия калиброванного импульса, поступающего со схемы 3 управления измерениями, генератор 4 тока формирует зарядный им 40 пульс тока, протекающий через контролируемый гальванический элемент с заданной величиной 1 и длительностью Н ф45С началом протекания зарядного токового импульса напряжение на эле-. менте линейно нарастает в сторону больших значений от величины ЭДС.Величина остаточной электрической 50 емкости элемента и его внутренняя диэлектрическая емкость коррелированы, т.е. зависимы, причем чем меньше остаточная электрическая емкость элемента, тем больше его диэлектрическая 55 емкость. Однако от величины остаточной электрической...

Номер патента: 633429

Опубликовано: 25.06.1979

Авторы: Привалов, Фофанов

МПК: H05H 1/00

Метки: активного, лазера, плазме, температуры, электронов, элемента

...установившееся значение тока через ак.тивный элемент;Ь - подвижность ионов при слабых поляхпри Ра 1 мм рт,ст;0; . потенциал ионизации;рдифференциальное сопротивление актив.ного элемента;й - балластное сопротивление;- постоянная БольцманаНа чертеже изображена блок-схема устройст.ва, ири помощи которого реализуется предлагае.мый способ,Анод активного элемента 1, в плазме которого определяется температура электронов, соединяетсм через балластное сопротивление 2 с источникам 3 питания. Катод активного элемента 1соединяется с источником 3 питания через катод.ное сопротивление 4 и миллиамперметр 5. Частотомер 6, измеряющий частоту реактивных колебаний, соединен с катодным сопротивлением 4.Вольтметр 7 соединен с электродами активногоэлемента...

Номер патента: 1275398

Опубликовано: 07.12.1986

Авторы: Фромберг, Ямпольский

МПК: G05D 23/00

Метки: генератора, кварцевого, температуры

...Длительности импульсов сброса и записи значительно меньше длительности импульсов на выходе делителя 3 частоты. В течение временисчета счетчик 5 считает количество импульсов с частотой Е поступающих на его счетный вход. Информация с выхода счетчика 5 в двоичном коде подается на информационные входы регистра 7 и по приходу импульса записи переписывается на его выход (например число Й ), подключенный к входам элемента 8 сравнения. Десятичный эквивалент числа я равениНа вторую группу входов Тномэлемента 8 сравнения подается двоич 75398 35 40 45 50 55 10 15 О 5 ЗО ный код чиспа Ь - десятичный эквиваГ и лент которого равен - - , гденом о Гт , - значение частоты температурной иоды при теипературе, соответствующей экстремуму...

Номер патента: 684520

Опубликовано: 05.09.1979

Авторы: Гимпельман, Маурин, Плинер, Рутман, Таксис, Торопов

МПК: G05D 23/00

Метки: нагревательного, окисного, поверхности, рабочей, температуры, элемента

...дифференциального уравнении теплопроводности для бесконечной пластины с внутренними источниками 3этой поверхности уменьшается, в сопротивление увеличивается. Это приводит ктому, что плотность тока вблизи даннойповерхности уменьшается, а вблизи рабочей поверхности - соответственно возрастает.Увеличение плотности тока вблизи рабочей поверхности окисного нагревательного элемента в свою очередь приводитк повышению ее температуры. При этоммаксимум температуры смещается к рабочей поверхности окисного нагревательного элемента, что позволяет существенноповысить максимально возможную температуру рабочей поверхности этого элемента. Подвергая охлаждению определенныеучастки противолежащей поверхности нагревательного элемента, можно...