Реактор дпя проведения гетерогенных каталитических реакций

Номер патента: 1058488

Опубликовано: 30.11.1983

Авторы: Анджей, Ежи, Збигнев, Роман, Ян

МПК: B01J 8/04

Метки: контактных, проведения, реактор, реакций

...выравниваются, становясь практически равными одна другой по всему поперечному се =.ению реакционного пространства. Затем теплоноситель проходит через реакционную камеру 9 и сквозь распределительную плиту 11 попадает в сборную камеру 10, иэ которой его выводят наружу трубопроводом 13. Циркуляцию теплоносителя осуществляют припомощи насоса (не показан) . В рабочем цикле теплоносителя может такженаходиться: теплообменник,Наиболее целесообразно употребление труб, имеющих ребра только натой части трубы, которая находитсяв реакционной камере 9. У этих трубимеются наружные ребра 14, расположенные поперек их оси, Кроме того,исполнение труб, указанное на фиг2,характеризуется, тем, что диаметрповерхности цилиндра, описанного навершинах ребер,...

Номер патента: 1553554

Опубликовано: 30.03.1990

Авторы: Кабо, Паксютов, Терехов

МПК: C10G 9/16

Метки: газа, охлаждения, реакционного

...состоящий из трубной решетки 5, Б-образных охлапдающих труб б, поперечных перегородок 7. Реакционные трубы сообщены с охлаждающим устрой-(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОХЛАЖДЕНИЯ РЕАКЦИОННОГО ГАЗА(57) Устройство для охлаждения газаотносится к химическому машиностроению и может использоваться на промышленных установках риформинга углеводородов с получением водорода, синтез- газа, метанола и утилизации тепла реакционных газов (РГ), Изобретение позволяет повысить эффективность охлаждения газа и упростить устройство за счет замены верхнего ввода РГ на боковой полости равномерно с двух сторон при сохранении расположения входной полости под охлаждающими трубами (Т), Освободившийся коридор между Т также заполнен Г, 2 ил., 1553554распределяется с помощью...

Номер патента: 1644998

Опубликовано: 30.04.1991

Авторы: Птушкин, Старостин

МПК: B02C 4/06

Метки: вальцовый, подачи, продукта, станок

...относится к мукомольному производству и может быть использовано в вальцовых станках,Целью изобретения является регулирование расхода продукта по длине питающего вальца и выравнивание его. гранулометрического состава,На чертеже изображена предлагаемаяустановка, общий вид,Для регулирования расхода продукта и 10выравнивания его гранулометрического состава заслонка разделена на несколько частей и,каждая связана посредством рычагов,и тяг с поворотным валом.Устройство подачи продукта в вальцовый станок содержит питающий 1 и дозирующий 2 валки, вал 3 с жестко укрепленнымина нем рычагами 4 и установленную надпитающим валком 1 заслонку 5, разделенную на несколько частей, каждая из которых 20связана с валом 3 посредством рычагов 4 итяг 6, Длина...

Номер патента: 1763896

Опубликовано: 23.09.1992

Авторы: Головенчиц, Кузнецов, Пашкевич, Шевелева

МПК: G01F 11/00, G01F 25/00

Метки: выдающей, качества, мерного, устройства, части

...является способ (2), выбранный авторами вкачестве прототипа, который заключается втом, что контролируемую дозу Чш жидкости,выданную дозатором, вводят в нерастворяющую ее жидкость с такой не плотностью,измеряют диаметр шарика дозы жидкости,по величине которого определяют объем дозы, причем величину контролируемой дозызадают из условия100 од О О(3 где: д - допустимая относительная погрешность измерения объема шарика;ЛО - абсолютная инструментальная погрешность измерения диаметра шарика;О - верхний предел измеряемого диаметра шарика,п ри этом фактический объем выдан ной дозы будет определяться по формулеЧш = 0,5236 О (4)Недостатком данного способа является то, что суммарная погрешность дозатора Л Ч - Чном Чш где Чном - номинальное значение...

Номер патента: 209851

Опубликовано: 01.01.1968

Авторы: Андреев, Белов, Попов

МПК: F15B 19/00, F15C 5/00

Метки: гидродинамических, испытаний, струйных, элементов

...в изометрип; 3альная схема устроисгва спытаний струйных элег. 3 в сект разрезного изометрии.ный элемент 1 заирепв коммутационной плате крышек 3, выполненных я струй из оптического ется на предметном сточасового:проектора талипа209851 10 Аюу соответствующих каналах под постоянным напором Нпи,. Нудр, определяемым как рас. стоянгие от свободной поверхности воды в соответствующем напорном бачке до плоскости отлета напоров 4.Нагрузка (подпор) на выходных приемных вентиляционных каналах регулируется высотой (Н, ) раоположения,напорных бачков э относительно плоскости столика 4. Постоянная очистка циркулирующих потоков производится фильтром 10,К,ак видно на риг. 1, в канал питания (11 ит вводится шприцевая игла 11 диаметром 0,8 л и с загнутым...