Способ изготовления заготовки фотошаблона

СОЮЗ СОВЕТСКИХСОЦИАЛИСТИЧЕСКИХРЕСПУБЛИК 9) (11) 51)5 6 03 1 7 ЕНИ инст екичева и ОТ тноси стема ью,к улуч ивно тс м с тоноч- эребыть отослоя зго- систок, ием я является повыше- ности и тиражестойтехнологического ении разрешающей достигается тем, что Щиной 0,1-0,25 мкм ной композиции при ОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕВЕДОМСТВО СССРГОСПАТЕНТ СССР) ОПИСАНИЕ И 3 С) К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬС(57) Использование: изобретение ок тонкопленочным оптическим сивысокой разрешающей способносрые могут быть использованы длнил адгезии фоторезис Изобретение относится к тонкопленым оптическим системам с высокой раша 1 ощей способностью, которые могутиспользованы для улучшения адгезии фрезистивного или термопластическогок поверхности жестких подложек при итовлении тонкопленочных оптическихтем, голографических решефотошаблонов с микронным разреше 1и других оптических элементов,Целью иэобретени ние адгезионной проч кости, упрощение процесса при сохра 1 способности. Поставленная цель адгеэионныЙ СЛОЙ тол выполнен из полимеррегистрирующего или термопластического слоя к поверхности жестких подложек при изготовлении тонкопленочных оптических систем, голографических решеток, фото- шаблонов с микронным разрешением и других оптических систем (элементов). Сущность изобретения: заготовка фотошаблона, содержащая стеклянную подложку с последовательно расположенными на ней адгезионным и регистрирующими слоями, согласно изобретению содержит адгезионный слой толщиной 0,1-0,25 мкм и выполненный иэ полимерной композиции, содержащей, мас.%: полиакрилат эмульсионный 0,5-1,0, эпоксидную смолу 0,2-0,4, полииэоцианат 0,02-0,04, тетрахлорэтан 98,56-99,28. 1 табл. следую нтов, мас,%:Лак криогенностойкий 10-20 Тетрахлорэтан 80-90 Для проверки заявляемого состава адгезионного слоя, были приготовлены пять смесей ингредиентов, три из которых показали оптимальные результаты (см.таблицу).ц качестве связующего адгеэионного слоя использовали криогенностойкий лак марки Л КС ТУ ЫУ 0,028.082, в качестве растворителя - тетрахлорэтан технический ТУ 6-01-875-74.П р и м е р 1, Брали 20% лака (вязкость по вискозиметру 133-4-18-23 с) добавляли 80%-гетрахлорэтана, предварительно перегнанного, тщательно перемешивали и отфильтровывали. Пригстовленным раствором поливали стеклянную подложку шем соотношении компоне1812546 Корректор Е,Папп Составитель ,.ьеляевТехред М.Моргентал едак Заказ 1576 Тираж Подписное ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Москва, Ж, Раушская наб., 4/5 Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина, 101 и ставили в центре вращающегося дискацентрифуги и накрывали колпаком скоро сть вращения 1000 об/мин в течение 1 мин).Стеклянную подложку с полученным тонкимслоем ( 0,25 мкм) помещали в предварительно нагретый до 80-100 С сушильныйшкаф, доводили т до 160 С, выдерживали20-30 мин и наносили регистрирующийслой, Адгезионная прочность изготовленной изложенным способом заготовки фотошаблона составляла 100 г,П р и м е р 2. По примеру 1 брали 10%лака и 90% тетрахлорэтана, Толщина адгезионного слоя 0,10 мкм. Адгезионная прочность составляла 110 г.П риме р 3. По примеру 1 брали 15%лака и 85 % тетрахлорэтана. Толщина адгеэионного слоя 0 15 мкм. Адгезионная прочность 130 г.П р и м е р 4, По примеру 1 брали 5%лака и 95% тетрахлорэтана. Толщина адгезионного слоя 0,1 мкм. Адгезионная прочность 50 г.П ример 5. По примеру 1, брали 25%лака и 75% тетрахлорэтана, Толщина адгезионного слоя 0,1 мкм. Адгезионная прочность 70%П р и м е р 6, По прототипу,В таблице представлены сравнительные данные по параметрам фотошаблонов,изготовленных из предложенных заготовоки известного. Уход в сторону превь 1 шенияили снижения оптимального соотношенияпредложенных компонентов приводит кухудшению таких основных параметров, какадгезионная прочность и тиражестойкость.Предлагаемый состав тонкого адгезионного слоя(0,1-0,25 мкм) между подложкой и регистрирующим слоем взамен существующих адгезионных слоев имеет высокую адгезионную прочность и тиражестойкость при простой технологии и сохранении раз решающей способности, Диапазон рабочихтемператур такого адгезионного слоя от С до+150 С, а стойкость к растворителям: например, спиртобензиновая смесь 1:1 в течение 24 ч не растворяет пленку.10 Композиция рекомендуется при изготовлении тонкопленочных оптических систем - голографических решеток, жестких оптических дисков и других оптических элементов.15 Использование полимерного адгезионного слоя уменьшает стоимость изготовления фотошаблона за счет сокращения технологических операций и вторичного использования стеклянной пластины.20 формула изобретенияСпособ изготовления заготовки фотошаблона, включающий последовательное нанесение на стеклянную подложку адгезионного и регистрирующего слоев и их сушку, 25 о т л и ч а ю щ и й с я тем; что, с цельюповышения адгеэионной прочности и тиражестойкости фотошаблона, при нанесении адгезионного слоя используют полимерную композицию, содержащую эмульсионный ЗО полиакрилат, эпоксидную смолу, полииэоцианат и тетрахлорэтан при следующих соотношениях компонентов, мас.%:Эмульсионный полиакрилат 0,5-1,0 Эпоксидная смола 0,2-0,4 35 Полиизоцианат 0,02-0,04Тетрахлорэтан 98,56-99,28причем толщина его составляет 0,1-0,25 мкм.