Устройство для предотвращения налипания материала на стенки бункера

Номер патента: 1351838

Опубликовано: 15.11.1987

Авторы: Азбель, Ерофеев, Прудинский

МПК: B65D 88/64

Метки: бункера, налипания, предотвращения, стенки

...вовнутрь бункера. Начинается загрузка.Под тяжестью материала желобадеформируются, при этом петли 5 проворачиваются в проушинах 4. Деформация оболочек происходит снизу вверх по мере накопления материала в бункере. После загрузки все секции деформированы по-разному, так как загрузка бу нкеров осуществляется (чаше всего) последовательными конусами разной высоты.35По мере разгрузки материала уровень его опускается и высвобождается верхняя часть секций, которая под действием внутренних упругих сил оболочки выгибается в прежнее положение. При этом налипший материал претерпевает изгибные деформа ции и обрушивается вниз. Так как края каждой секции выступают за ряды проушин 4, а проушины 4 и петли 5 образуют подвижное соединение, то края...

Номер патента: 1482872

Опубликовано: 30.05.1989

Авторы: Афлятунов, Боровинский, Леонтьев, Миронова

МПК: B65D 88/54, B65G 65/30

Метки: емкости, налипания, предотвращения, стенки, сыпучих

...положительно и отрицательно заряжены, замыкают между ними цепь постоянного электрического тока, При этом будет происходить интенсивное движение влаги, содержащейся в сыпучем материале (явление 45 электроосмоса), от положительно заряженных электродов 1 к отрица" тельно заряженным электродам 2, Поверхность электродов 2 покроется влагой, препятствующей прилипанию частиц материала на электродах 2,динамический напор сыпучего матеиала, двигающегося вдоль электроов 2, сдвигает его относительно поверхности, замазывания электродов 2 не происходит, Отложение частиц материала, т.е, образование прочных адгезионных связей, могло бы происходить на электродах 1, поскольку они положительно заряжены и от нихвся влага материала уходит по...

Номер патента: 1643373

Опубликовано: 23.04.1991

Автор: Афлятунов

МПК: B65D 88/54, B65G 65/30

Метки: емкости, налипания, предотвращения, стенки, сыпучих

...с последовательносоединенными секциями 8 - 11 источника тока, Полый электрод 7 выполнен с перфорированной рабочей поверхностью, т.е, имеетотверстия малого диаметра, 25Устройство работает следующим образом,При движении влажного сыпучего материала, склонного к налипанию, в емкостивкщочаются секции 8 - 11 источника постоянного тока и одновременно подаетсяжидкость (вода) внутрь полого перфорированного электрода 7. Влажный сыпучий материал, двигаясь по электродам 3 - 7,замыкает электрическую цепь секций 8 - 11 35источника постоянного тока. При этом происходит интенсивное движение влаги, содержа щейся в сыпучем материале(давление электроосмоса) от положительнозаряженного полого перфорированного 40электрода 7 к сплошному электроду 6....

Номер патента: 1729971

Опубликовано: 30.04.1992

Автор: Афлятунов

МПК: B65D 88/54, B65G 65/30

Метки: емкости, налипания, предотвращения, стенки, сыпучих

...емкости, содержащем расположенный продольно рабочей поверхности стенок ряд изолированных друг от друга сплошных и один крайний полый электрод, выполненный с перфорированной рабочей поверхностью для сообщения с источником рабочей жидкости, электроды выполнены из материалов, имеющих равную электроотрицательность, причем материал полого электрода имеет наименьшую электроотрицательность, и электроды установлены таким образом, что предыдущий электрод по отношению к последующему является отрицательнымым.Электроды выполнены иэ материалов, имеющих разную электроотрицательность, причем материалполого электрода имеетг наименьшую электроотрицательность и электроды установлены таким образом, что предыдущий электрод по отношению к последующему...

Номер патента: 1227574

Опубликовано: 30.04.1986

Автор: Захарян

МПК: B65G 65/30

Метки: емкости, налипания, предотвращения, стенки

...и в результате этого примерно половина заряда д (но меньше - ) с поверхности стенки 1 емЧ2кости, соприкасающейся с диэлектрическим покрытием 7 (с внутренней поверхности обкладки 1), переходит на поверхность стенки 1 емкости, с которой соприкасается материал 3, и напряженность поля на поверхности стенкиемкости, соприкасающейся с материалом 3, резко возрастает. При этом материал 3 у стенки 1 заряжается зарядом того же знака, что и стенкаи в результате этого возникают кулоновские си 5 10 15 лы, отталкивающие материал 3 от стенки 1, т. е. возникают кулоновские силы, противодействуюгцие адгезии материала 3 со стенкойемкости. Затем возвращают обкладку 4 с диэлектрическим покрытием 6 в первоначальное положение.После возвращения обкладки...