153655

Номер патента: 94839

Опубликовано: 01.01.1953

Автор: Главные

МПК: B29C 55/16

Метки: пленок, растяжения

...вальца 4 окружная скорость больше, чем у вальца 3, что обеспечивает одновременное продольное растяжение пленки. Растянутая таким образом пленка, прилегающая к желобкам вальца 4, направляется гладким валиком 5 к отдельным устройствам для производства дальнейших операций: обрезки краев, разглаживания и наматывания. Валик 5 также целесообразно обрезинить.На фиг, 2 показаны сопряженные желоочатые вальцы 3 и 4. При одинаксвом продольном и поперечном растяжении пленки получается гладкий материал. При различных растяжениях пленки в продольном и поперечном направлениях получается волнистый материал,Изменяя профиль желобков и кольцеобразных выступов 7, можно получать как гладкую, так и узорную текстуру материала.В зависимости от...

Номер патента: 659459

Опубликовано: 30.04.1979

Авторы: Аксельруд, Рафаильский, Скорик

МПК: B65B 51/26

Метки: образования, пленке, поперечных, разрезания, рукавной, швов

...73, обладающей антиадгезивными свойствами к расплавленной полимерной пленке, Ткань наложена на две катушки 74, установленные по обе стороны нагревателя на кронштейнах 75, что позволяет по мере износа ткани обновлять ее в зоне контакта с пластинами 72, перематывая ее с одной катушки на другую. Между накладками 71 поверх ткани 73 установлена нагревательная пластина 76, предназначенная для разрезания пленки между зонами сварки ее пластинами 72. Пластины 72 и 76 электрически соединены через клеммные коробки 77, расположенные на торцах нагревателя, гибкими проводниками с щеткодержателем 78. Электрические щетки 79 (фиг. 2) щеткодержателя находятся в контакте с токоподводящими шинами 80, прикрепленными через электроизоляционные пластины...

Номер патента: 1746213

Опубликовано: 07.07.1992

Авторы: Антонюк, Пищаль

МПК: G01B 11/06

Метки: нанесения, пленки, процессе, толщины

...поляризованное излучение, так как разность фаз Р- и Я-компонент отражен. ного излучения не равна гг (или О), причем степень эллиптичности и направление боль шой оси эглипса определяется оптической толщиной слоя вещества.Параметры эллиптической поляризации отраженноо излучения могут быть определены из уравнения, описывающего 4 О коэффициент отражения рлинейно поляризованного излучения длиной волны 1, падающего под углом р на слой вещества из окружающей средыг + е 2 е 2 фг1 + е е Г 01 РГ 12 р- 21 О 11 + е Г 01.Г 12,- 2 Ж - 2)ГГ 015 + Е Е Г 12 Эгде г 01 р и Г 12 р - коэффициенты отражения Френеля для Р-компоненты излучения, относящиеся соответственно к границам раздела между окружающей с редой и сг оем вещества и слоем вещества и...

Номер патента: 1746214

Опубликовано: 07.07.1992

Авторы: Антонюк, Пищаль

МПК: G01B 11/06

Метки: нанесения, пленки, процессе, толщины

...преломления которого отличен от показателя преломления материала образца, а показатель поглощения близок к нулю, падающее линейно поляризованное монохроматическое излучение при отражении преобразуется в общем случае в эллиптически поляризованное излучение, так как разность фаз Р- и Б-компонент отраженного излучения не равна 2 г(или О), причем степень эллиптичности и направление большой оси эллипса определяется оптической толщиной слоя веществаПараметры эллиптической поляризации отраженного излучения могут быть определены из уравнения, описывающего относительный коэффициент отражения рлинейно поляризованного излучения длиной волныпадающего под углом о на слой вещества из окружающей средыГ 01 + Е Е Г 12 ТФ - 2 д 2 -1 + е с Г 01 Г 2 р...

Номер патента: 241701

Опубликовано: 01.01.1969

Авторы: Кедра, Прудвиблох

МПК: G01B 11/06

Метки: изделие, нанесения, пленки, процессе, толщины

...способу; на фиг. 2 - измерительный импульс; на фит. 3 - разностный импульс; на фиг. 4 - элементарный положительный импульс,Контроль толщины пленки в,процессе еенанесения,на катод согласно предложенному способу осуществляют следующим образом.Короткими периодическими вспышками 5 света освещают эталон и свидетель. Эталонный импульс (см, фпг. 1) является постоянньвм по величине и полярности. Измерительный импульс (см. фиг. 2), прошедший через свидетель, находится в противофазе эталон ному и уменьшается (по абсолютному значению),по мере увеличения оптической плотности (или толщины) наносимого слоя.Вследствие этого, разностный импульс (см.фиг. 3) также уменьшится. При каждой 15 вспышке производится измерение величиныразностного импульса...