Устройство для оптической фильтрации
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 1439519
Автор: Бритвин
Текст
СОЮЗ СОВЕТСКИХСОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ ЕСПУБЛИН 02 В 27 12 ВРЕТЕ 1 ДЕТЕЛЬСТВУ Цель изобретения - формирование кри спектрального пропускания сложной фор В симметричной системе из двух пар по довательно расположенных диспергирую призм 3 4 и 5 6 с равными промежу ными углами установлена оптическая ма 8, выполненная на фотопластинке и имею переменное светопропускание вдоль разл ния излучения в спектр. Составляю спектра ослабляются соответствующ участками маски 8, а затем смешиваю призмами 5 и 6 с восстановлением ис ной геометрии пучка лучей. 1 з.п. ф 2 ил. 1086,ЧЕСКО птическо ктральн ьзовано излучен Ь СУДАРСТВЕННЫИ КОМИТЕТ СССРО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЫТИЙ ОПИСАНИЕ К АВТОРСКОМУ СВ(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОПТФИЛЬТРАЦИИ(57) Изобретение относится к оприборостроению, а именно к спефильтрам, и может быть исполимитаторах спектров источников 80439519 вои мы. слещих точска щая ожещие ими тся од- лы1439519 призму 4, становится линейным. Далее пучок излучения, в котором монохроматические составляющие распределены линейно вдоль ординаты, перпендикулярной основанию призмы 4, падает на оптическую маску 8 и ослабляется в зависимости от плотности покрытия, находящегося на его пути в соответствии с требуемой кривой спектрального пропускания фильтра. После проведения таким образом спектральной фильтрации поток излучения с необходимым спектральным составом восстанавливает с помощью призмы 5 и призмы 6 свою прежнюю форму и через выходное окно 12 покидает фильтр, Для изменения формы кривой спектрального пропускания фильтра ослабляется фиксирующий винтО, оптическая маска 8 вынимается и на ее место вставляется другая маска, соответствующая кривой спектрального пропускания требуемой формы. Формула изобретения 20 1. Устройство для оптической фильтрации, содержащее симметричную систему из двух па р последовательно расположенных диспергирующих призм с равными преломляющими углами и с противоположной ориентацией их в парах, между которыми расположена оптическая маска, отличаю- и,ееся тем, что, с целью формирования кривой спектоального пропускания сложной Зо формы, оптическая маска выполнена с изменяющимся светопропусканием вдоль направления разложения излучения в спектр призмами.2. Устройство по и. 1, отличаюи 4 еесятем, что оптическая маска выполнена в виде д прямоугольной фотопластины с изменяющейся оптической плотностью в фотослое вдоль одной из сторон. НИИПИ Заказ 6074роизводственно-полиграфическое пре Изобретение относится к оптическому приборостроению, а именно к спектральным фильтрам, и может быть использовано в имитаторах спектров источников излучения.Цель изобретения - формирование кривой спектрального пропускания сложной формы.На фиг. 1 изображено устройство для оптической фильтрации; на фиг. 2 - оптическая маска в виде фотопластинки.В корпусе 1 с помощью клея 2 закреплены две пары диспергирующих призм 3,4 и 5,6 с равными преломляющимися углами. Призмы в парах имеют противоположную ориентацию преломляющими углами, а в целом призмы 3 - 6 образуют симметрическую оптическую систему, Между парами призм в имеющуюся в корпусе щель 7 установлена оптическая маска 8, которая своим верхним краем упирается в паз 9, а нижним крепится в щели фиксирующим винтом 10. В корпусе имеются входное 11 и выходное 12 окна, закрытые защитным оптичес ким стеклом. Оптическая маска 8 выполнена в виде фотопластинки (фиг. 2) с основанием 13 из оптического стекла, прозрачного в спектральном диапазоне работы фильтра, и покрытием 14 (серебросодержащий фотослой), оптическая плотность которого вдоль координаты изменяется в соответствии с зада ной кривой спектрального пропускания.Оптический фильтр работает следую;цик 1 сбразом.Пучок оптического излучения проходит через входное окно 11 и, попадая на диспергируюшук призму 3, разлагается ею в угловой спектр по длинам волн. Угповой спектр излучения, пройдя через диспергирующую ираж 533 Подписноер иятне, г. Ужгород, у л. Проектная, 4
СмотретьЗаявка
4237765, 29.04.1987
ВОЙСКОВАЯ ЧАСТЬ 15644
БРИТВИН ВЛАДИМИР ВАСИЛЬЕВИЧ
МПК / Метки
МПК: G02B 27/12
Метки: оптической, фильтрации
Опубликовано: 23.11.1988
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-1439519-ustrojjstvo-dlya-opticheskojj-filtracii.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Устройство для оптической фильтрации</a>
Устройство для измерения спектральных коэффициентов пропускания оптических элементов и систем
Номер патента: 1317338
Опубликовано: 15.06.1987
Авторы: Волков, Донец, Скирда, Соболь, Суббота-Мельник, Шарапа
МПК: G01N 21/59
Метки: коэффициентов, оптических, пропускания, систем, спектральных, элементов
...и отражается от второго автоколлимационного зеркала 10, проходитсветоделитель 3 и поступает черезмонохроматор 13 на Аотоприемник 14.Блок 16 временного разделения лучей осуществляет поочередную подачу(на Аотоприемник 14) потоков излучения из измерительного и контрольногоканалов. Фотоприемник 14 вырабатывает периодическую последовательностьэлектрических сигналов, соответствующих монохроматизированным монохроматором 13 потокам излучения измерительного и контрольного каналов.Разделенные по временному признаку электрические сигналы с Фотоприемника 14 усиливаются усилителем 19,обрабатываются. раздельно демодуляторами 20 и 21, стробируемых сигналомс Аотодиода 25. Демодулятором 20 осу ществляется выделение и...
Способ измерения дифференциальных спектров пропускания на двухлучевых спектральных приборах
Номер патента: 1539608
Опубликовано: 30.01.1990
Авторы: Аверкин, Кармадонов, Скрышевский, Стриха, Толстой
МПК: G01N 21/25
Метки: двухлучевых, дифференциальных, приборах, пропускания, спектральных, спектров
...а вышедшийиз образца опорный пучок - по оптическому пути рабочего канала, регистрируют и сравнивают интенсивностиобоих прошедших через образец пучковв р-поляризованном свете на длиневолны поглощения продольных колебаний в слое при перемещении пластины.Перемещение осуществляют таким образом, чтобы углы направления пучков напластину оставались неизменными.Кроме того, можно измерять спектральную зависимость разности интенсивностей обоих прошедших через пластину пучков в р-поляризованном светепри неподвижной пластине. При этомрабочий пучок направляют на участокпластины без слоя, а опорный - научасток пластины со слоем. Угол направления пучков излучения при измерении тонких слабопоглощающих слоеввыбирают равным 45 100 А. С помощью двух...
Способ определения относительного спектрального распределения интенсивности излучения вторичного процесса
Номер патента: 1679305
Опубликовано: 23.09.1991
Авторы: Воропай, Казак, Лугина, Надененко, Павленко, Санников, Торпачев
МПК: G01N 21/63
Метки: вторичного, излучения, интенсивности, относительного, процесса, распределения, спектрального
...излучения.Для сравнения получают выражение отклика детектора вторичного процесса при отсутствии нормировки на энергию импуль) са зондирующего излучения за время взаимодействия со. средой.Если в МК введена интенсивность 1 л, то ее изменение со временем описывается выражениемф)-1 ле , (14) где с,; - время жизни фотона в МК, рав- ное%6 Д1, ЬсА А (15)В случае известного способа ЛЬ = -21 С В качестве единицы времени берется время прохода МК Ю = ОС, Считают, что в течение этого времени энергия излучения в МК постоянна, а импульс лазера имеет длительность Ьл.После первого прохода объектом излучения измеряется заряда =2 к 1 лтое 11 г" (16) Тогда общий заряд, измеренный датчиком вторичного процесса после и проходов, составляет Ое =23 суАаеф...
Способ определения относительного спектрального распределения интенсивности излучения вторичного процесса
Номер патента: 1770855
Опубликовано: 23.10.1992
Авторы: Воропай, Казак, Лугина, Надененко, Санников, Торпачев
МПК: G01N 21/63
Метки: вторичного, излучения, интенсивности, относительного, процесса, распределения, спектрального
...излучение служит зондирующим для находящегося внутри ЫК исследуемого объекта, Отражатели МК образуют оптический резонатор, высокодобротный на частоте зондирующего излучения и низко- добротный на частоте излучения лазера, При этом регистрируемая амплитуда сигнала вторичного процесса, являющегося следствием возбуждения обьекта зондирующим излучением, нормируют на амплитуду преобразованного по частоте излучения, вышедшего иэ МК через один из ее отражателей эа все время взаимодействия со средой.Сущность изобретения можно проил ластрировать следующими расчетными соотношениями.Считаем, что длительность импульса лазера Ьтя значительно больше времени т, прохода излучением МК, равного 1 о -1/С, 10 где 1 - длина МК С - скорость излучения вней....
Прибор для вычерчивания по изоклиническим кривым траекторий главных напряжений при оптическом методе изучения напряжений в моделях
Номер патента: 42303
Опубликовано: 31.03.1935
Автор: Михайлов
МПК: B43L 11/00
Метки: вычерчивания, главных, изоклиническим, изучения, кривым, методе, моделях, напряжений, оптическом, прибор, траекторий
...поднятое положение, дабы она не царапала чертежа при передвижении рейсшины и столика. Затем за головку 11 вращают трубку 10, на нижнем конце которой при помощи стопорного вин. тика 18 укреплен крестообразной формы штемпель 12. Последний сделан из проч ного металла и нижние грани его/5, /8РиГ 2 г острые, Трубка может перемещаться вверх и вниз во втулке 7, которая имеет прикрепленную шпанку 9. Последняя входит в соответствующий продольный паз в трубке 10, так что, если последнюю вращать за головку 11, то трубка поведет за собой втулку 7, которая прикреплена к прозрачному целлюло. идиому диску 6. Кольцо 8 служит для предохранения целлюлоида от смятия при клепке. Диск 6 свободно ходит в соответствующих пазах каретки 1. Кроме того,...
Предыдущий патент: Сканирующее устройство
Следующий патент: Линза для очков
Случайный патент: Способ определения критической концентрации мицеллообразования в коллоидных растворах