Устройство для контроля высококонтрастных процессов

Номер патента: 1434470

Автор: Ефимов

ZIP архив

Текст

(51) 4 С 08 ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТК АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Я Р 40 к конп 4 йь М СУДАРСТВЕННЦЙ КОМИТЕТО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТНРЬПИЯМИ ГКНТ СССР(56) Патент Японии Кф 32724,кл. 12 В 1, опублик, 23.09.71,Кругер М.Я. и др. Справочнструктора оптико-механическихров, М.: Машиностроение, 1967(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ КОНТРОЛЯ ВЫСОКОКОНТРАСТНЫХ ПРОЦЕССОВ(57) Изобретение относится к оптическим системам, применяемым при наблюдении высококонтрастных объектов.Бленда 2 установлена перед объективом 3 и фотодатчиком 1, при этом .бленда снабжена диаФрагмой 4, установленной перед объективом 3, и шторкой 5 с отверстием. Диаметр шторки 5соответствует углу поля зрения объектива 3, а отверстие - излучению высококонтрастного объекта. 1 ил.1434470 растного объекта 6, оказывается огра-. ниченным путем затемнения, постепен/ ного срезания света из центральных точек поля. Подвижность шторки позволяет изменять площадь излучения контрастного объекта. Площадь шторки такова, что перекрывает апертурный угол 2 а в пространстве предметов, а диаметр определяется из соотношения Изобретение относится к областиконтроля высококонтрастных, напримерпожароопасных, процессов.1 елью изобретения является повыше 5ние достоверности качества изображения.На чертеже представлена оптичес"кая схема описываемого устройства.Устройство содержит фотоэлектрический датчик 1, например видикон илиматричный фотодатчик, бленду 2, объектив 3, бленда 2 снабжена апертур-.ной диафрагмой 4, расположенной передобъективом 3 и выполненной, например,15в виде ирисовой диафрагмы, и шторкой5, выполненной с центральным отверстием, расположенной на оптическойоси устройства перед апертурной диафрагмой 4 с возможностью перемещения 2 Овдоль оптической оси, 2 Ы - апертурный угол в пространстве предметов,2 Д - телесный угол контроля, А, Б "крайние точки поля контроля, М, .Н,крайние точки поля контроля через от,верстие шторки 5 при открытой апертурной диафрагме 4, Р - центр входного зрачка (диафрагмы 4), О - центр,контрастного объекта 6, 1 - расстоя"ние между апертурной диафрагмой 4 и 3 О1 нторкой 5.Устройство работает следующим образом,Лучи света из точек контрастногообъекта через диафрагму 4 попадают351 а шторку 5. На участке контрастногообъекта 6 АМ - БН шторка 5 срезаетчасть лучей пучка света, благодарячему пучок лучей, приходящих от контЭ 1. акрДВ+ Ь С 8 Р где Р - диаметр диафрагмы бленды;1, - расстояние от объекта наблюдения до диафрагмы бленды;2 р - угол поля зрения объектива. Формула и э о б р е т е н и яУстройство для контроля высококонтрастных процессов, содержащее последовательно установленные вдоль оптической оси бленду с диафрагмой, объектив и фотодатчик, о т л и ч аю щ е е с я тем, что, с целью повышения достоверности контроля путем улучшения качества изображения, бленда выполнена с дополнительной шторкой с отверстием в центре, расположенной соосно бленде в закрепленной на ней с возможностью перемещения вдоль оптической оси, причем площадь шторки Й определяется из соотношения 01. арДаа0+1 1:ц 3где 0 - диаметр диафрагмы бленды;.1 " расстояние от объекта наблюдения до диафрагмы бленды;21 в . угол поля зрения объектива,Составитель О.ЯковлеваТехред Л.Олийнык Корректор М.Васильева Редактор Л.Маковская . Производственно-полиграФическое предприятие, г. Ужгород, ул. Проектная, 4 Заказ 6636 Тираж 558 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Москва, Ж"35, Раушская наб., д, 4/5

Смотреть

Заявка

3945452, 13.08.1985

ПРЕДПРИЯТИЕ ПЯ Р-6476

ЕФИМОВ ИВАН ИВАНОВИЧ

МПК / Метки

МПК: G08B 17/12

Метки: высококонтрастных, процессов

Опубликовано: 30.10.1988

Код ссылки

<a href="https://patents.su/2-1434470-ustrojjstvo-dlya-kontrolya-vysokokontrastnykh-processov.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Устройство для контроля высококонтрастных процессов</a>

Похожие патенты