Тест-объект для контроля качества репродуцирования изображения

ОЮЗ СОВЕТСНИХ ОЦИАЛИСТИЧЕСН РЕСПУБЛИН 14 14 С О 3 С 5/ И НОМИТЕТ ССС ТЕНИЙ И ОТНРЫ ГОСУДАРСТВЕН ПО ДЕЛАМ ИЭО Вюл, Н 301 научноисследователь1 х проблем Кага ическая регир, 1978,Ф ОПИСАНИЕ ИЗ ТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ(71) Всесоюзныский институт комплексполиграфии(54) ТЕСТ-ОВЪЕКТ ДЛЯ КОНТРОЛЯ КЛЧЕСТВЛ РЕПРОДУЦИРОВЛН 1 И ИЗОВРЛЖЕНИЯ(57) Изобретение относится к тестуобъекту для контроля качества репродуцирования изображения и позволяетповысить точнос ь контроля путем устранения муара и моделирования свойствизображения . Тест-объект содержитдва нейтральных серых оптическихклина 1, 2 с изменяющейся вдоль клинаоптической плотностью. Клинья 1, 2имеют растровые микроэлементы Э нерегулярной структуры. Оптические клинья 1, 2 установлены друг к другу зонами меньших оптических плотностей.1416926 Формула изобретения Составитель М, ШатииТехред А,Кравчук Корре ктор Н. Корол ь Редактор М. Циткица Заказ 4062/44 Тираж 442 ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета СССРпо делам изобретений и открытий113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5 Производственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул, Проектная, 4 Изобретение отцгц ится к полиграфии, а именно к тест-объектам дляконтроля характеристик процессов прирепродуцировании изображений,5Целью изобретения является повышение точности контроля путем устранения муара и моделирования свойствизобра жеция.На чертеже представлен тест в объе 10Тест-объект содержит два нейтральныхсерых оптических клина 1, 2 с растровыми элементами 3 церегулярцой структуры с изменяющейся вдоль клина оптической плотностью, линию 4 зеркальной симметрии оптических клиньев.Тест-объект работает следующим образом.Его репродуцируют с масштабированием и (или) растрированием вместе с 20оригиналом. По полученному изображению тест-объекта контролируют зонуоколо линии 4 стыка оптических клиньев 1 и 2. На изображении тест-объекта у линии стыка исчезают растровые 25микроэлементы нерегулярной структуры.Шприца эоны исчезновения растровыхэлементов, их величина, например 1560 мм, и оптическая плотность, например 0,05-2,50 Б, являются количественной характеристикой процесса репродуцирования. По результатам контролявносят изменения в режимы репродуцирования для уменьшения эоны исчезновения растровых микроэлементов, Зонаисчезновения микроэлементов тем больше,чем больше масштаб отличается от 1007,чем ниже частота растра, применяемогопри растрировании, чем ниже -.качествооптической системы и системы репродуцирования в целом,П р и м е р 1. Тест-объект, изготовленный на фотобумаге, воспроизведен на фотоаппарате ЛХ 7.-56 в масштабе 667 с прямым растрированием припомощи контактного растра с линеатурой 48 л/см на фотопленке ФТ 41 с обработкой в проявителе ФТ. Контроль проводится визуально по тест-объекту,Зона около линии 4 стыка оптических клиньев 1 и 2 без визуально различимых микроэлементов размером 15- 60 мкм охватывает интервал оптических плотностей до 0,4 Б, Поэтому при репродуцировании оригиналов в этих условиях не воспроизводят детали размером менее 60 мкм и оптической плотностью менее 0,4 Б. П р и м е р 2. Тест-объект, изготовленный на фотопленке, воспроизведен на фотоаппарате АХЕв масштабе 2007. без растрирования на фотопленке РЧ 2 с обработкой в разбавленцом1 проявителе ФТ. Контроль проводится по тест-объекту визуально. Зона около линии стыка 4 без визуально различимых микроэлементов размером 10-70 мкм охватывает интервал оптических плотностей до 0,2 Б. Поэтому при репродуцировании оригиналов в этих условиях не воспроизводятся детали размером менее 70 мкм и оптической плотностью менее 0,2 Б. Тест-объект для контроля качества репродуцирования изображения преимущественно в процессах репродуцирования с изменением масштаба или растрированием, содержащий два нейтральных серых оптических клина с изменяющейся вдоль клина оптической плотностью, отличающийся тем, что, с целью повышения точности контроля путем устранения муара и моделирования свойств реального изображения, оптические клинья тест-объекта снабжены растровыми микроэлементами и установлены друг к другу зонами меньших оптических плотностей, причем растровыемикроэлементы имеют нерегулярнуюструктуру.