Киносъемочный объектив

Номер патента: 1824518

Опубликовано: 30.06.1993

Автор: Гусев

МПК: G01B 9/025, G01M 11/02

Метки: виде, записи, интерферограмм, линз, объективов, объектов

...в сходящуюся сферическую волну освещения матового стекла 4 с радиусом кривизны в его плоскости й "11 /(11+12), где 11, 12- соответственно рассто 2яния от главной плоскости контролируемой линзы в узле крепления бдо матового стекла 4 и фотопластинки 8, в плоскосткоторой строится изображение матового стекла 4.1824518 Составитель В.Гусев Техред М.Моргентал Редактор Корректор В,Петраш Заказ 2220 Тираж ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при 1 КНТ СГСР113035. Москва, Ж, Раушская наб., 4/5 Производственно-издательский комбинат "Патент", г Ужгород ул Г,н;ии, 101 3На фотопластинке 8 проводится запись спеклограммы за время первой экспозиции, Перед второй экспозицией с помощью механизмов перемещения 5, 7...

Номер патента: 1081608

Опубликовано: 23.03.1984

Авторы: Исаева, Лимина, Стефанский, Шпякин

МПК: G02B 15/00

Метки: объектив, панкратический, репродукционный

...при изменении масштаба расстояние между плоскостями предмета иизображения остается неизменным,что способствует определенному упрощению конструкции копировальногоаппарата Г 21,2Однако конструкция этого объек"тива не позволяет достигнуть высокого качества изображения, необходимого объективам для микрофильмирующихустановок. Величина аберрационногокружка рассеяния в, центре поля зрения достигает 0,025 мм, следовательно разрешающая способность объекти" .ва не превышает 40 лин/мм, Крометого, объектив при изменении масштаба изображения перемещается вдольоптической оси на значительное расстояние (350 мм), что усложняетконструкцию копировального аппарата.Целью изобретения является улуч-,шение качества изображения и обеспечение неподвижности...

Номер патента: 1115003

Опубликовано: 23.09.1984

Автор: Фелькина

МПК: G02B 9/64

Метки: варианты, его, малого, объектив, увеличения

...изобретения является улучщенке качества изображения путемисправления комы и кривизны изображения, увеличение числовой апертуры и рабочего расстояния,Поставленная цель достигаетсятем, что в объективе малого увеличения по первому варианту, содержащем две группы линз, симметричнорасположенных относительно апертурной диафрагмы, каждая из которыхсостоит из двух компонентов, первыйиз которых положительный, включающий двояковыпуклую линзу и одиночныйположительный мениск, обращенный3 1115 ооз вогнутостью к диафрагме, а второй отрицательный, двояковыпуклая линза выполнена склеенной из отрицательного мениска и двояковыпуклой линзы, а отрицательный компонент выполнен в виде отрицательного и концентричного менисков, обращенных выпуклостью к...

Номер патента: 1278769

Опубликовано: 23.12.1986

Авторы: Андреева, Кондратец, Куценко

МПК: G02B 11/12, G02B 9/20

Метки: объектив, фотографический

...4ы ллосковыпуклой 5 линз, В воздушномпромежутке между вторым и третьимкомпонентами расположена. апертурнаядияАрагма 6, Фокусировка на конечные 30цистянции съемки осуществляется перемещением первого компонентаОбъектив обладает Ьокусным расстоянием 35 мм, относительным отверстием 1."2,8, рассчитан ня. кадр раз.мером 24 х 35 мм, Длина объектива отпервой поверхности до плоскости пленки 42,1 мм, масса оптических деталей4,6 г.Аберрации объектива исправлены 40для длины волны П =0,5461 мкм, областьахроматизации от 1=0,4358 мкм до1 =0,6563 мкм. Поперечная сферическаяаберрация не превышает 0,05 мкм, размер пятна рассеяния для края поля 45зрения у =19 мм в меридиональном сечении не более 0,04 мм, н сагиттальном 2сечении не более 0,15...

Номер патента: 1335910

Опубликовано: 07.09.1987

Автор: Бобров

МПК: G02B 27/44

Метки: высокоапертурный, объектив, фокyсирующий

...дифракционной линзы.При расположении рефракционной линзы выпуклой поверхностью к изображению (фиг. 1) дифракционную линзу оказывается возможным поместить в плоскость, проходящую через действительное изображение центра этой выпуклой поверхности. В этом случае кроме сферической аберрации и комы компенсируется также и астигматизм объектива, поэтому поле изображения в этом варианте предлагаемого устройства больше. С другой стороны, при таком расположении рефракционная линза обладает очень большой сферической аберрацией и компенсация последней в объективе требует сравнительно высокочастотной дифракционной линзы. ПриФормула изобретения Высокоапертурный фокусирующий объектив, содержащий дифракционную линзу на плоскопараллельной...