Способ измерения отклонений от соосности отверстий
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 1352200
Авторы: Александров, Биенко, Галушко, Ильин
Текст
(504 СО В 1127 ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ М А ВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ СИ К) М СР С:Р ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССРПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ(71) Институт электроники АН БССР(54) СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ ОТКЛОНЕНИЯ ОТ СООСНОСТИ ОТВЕРСТИЙ(57) Изобретение относится к измерительной технике, в частности к фотоэлектри,ЯО 1352200 А 1 ческим способам измерения соосности отверстий. Целью изобретения является повышение точности измерения отклонения от соосности отверстий относительно их общей оси путем получения минимумов интенсивности в центре дифракционных картин. Формируют пучок с плоским волновым фронтом, распространяющийся вдоль оси отверстий, и устанавливают в нем объекты с отверстиями так, что отверстия перекрывают четное число зон волнового фронта. Получаемые от нижнего из отверстий дифракционные картины будут иметь минимум интенсивности в центре. По разности координат этих минимумов судят о величине несоосности.1352200 фордсула изобретения Ссоставигепн В. ВахтинРессакгор,/.1 овханаказ 527034 краж 677 ПодписносВНИИПИ Государстненного комитета С,СС:Р по делам изобретений и открытий13035, Москвы, Ж 35, Раугнская наб., д. 4/51 роизводственно.нопиграсрияеское предприятие, г. Ужгород, уп. Проектная, 4 Изобретение относится к электронно-измерительной технике, в частности к фотоэлектрическим спосооам измерения соосности отверстий.Целью изобретения является повышение тоЧности измерения отклонения от соосности отверстий относительно их обпей оси утем получения минимумов интенсивности в центре лифракпионных картин.Способ осуществляется следуюгцим образом.Формируют суцок с плоским волновым фронтом монохроматицеского излучения. Померцают в него последовательно по ходу пуч. ка обьектыдиафрагмы с отверстиями, отклонение от соосности которых необходимо измерить. Перемеспая обьекты вдоль нуцка, перекрывают отверстиями цстное числоволовоо фронта. Это приводит явленио минимума интенсивности в центре дифракпионцы.с картин ог каждого отверстия. Рс гнстрируют полученные дифракпнонные картины, определяют координаты минимумов интенсивности в их центрах и по разности этих координат судят о величине и направлении несоосностн отверстий.5 Способ измерения отклонений от соосности отверстий, заключаюцийся в том, цто 0освегцают отверстия у ком монохроматицеского излучения с плоским волновым фронтом и регистрируот дифракпионные картины от каждого отверстия, по параметрам которых судят об отклонении от соосности, тличаюи 1 ийгч тем, что, с целью повышения точности измерений, перекрывают отверстиями четное число зон во;псового фронта, в центре дифракпионных картин определяют координаты минимума интенсивости, а в качестве параметра, характеризуюпего величицх отклонения от соосностн, выбирак)т раз ность этих координат.
СмотретьЗаявка
3813625, 20.11.1984
ИНСТИТУТ ЭЛЕКТРОНИКИ АН БССР
АЛЕКСАНДРОВ ВЛАДИМИР КУЗЬМИЧ, БИЕНКО ЮРИЙ НИКОЛАЕВИЧ, ГАЛУШКО ЕВГЕНИЙ ВЛАДИМИРОВИЧ, ИЛЬИН ВИКТОР НИКОЛАЕВИЧ
МПК / Метки
МПК: G01B 11/27
Метки: отверстий, отклонений, соосности
Опубликовано: 15.11.1987
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-1352200-sposob-izmereniya-otklonenijj-ot-soosnosti-otverstijj.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ измерения отклонений от соосности отверстий</a>
Предыдущий патент: Способ измерения толщины покрытия и устройство для его осуществления
Следующий патент: Способ бесконтактного контроля качества обработки поверхности оптических деталей и устройство для его осуществления
Случайный патент: Дозатор газа