Кинескоп

Номер патента: 1778507

Опубликовано: 30.11.1992

Автор: Кустов

МПК: G01B 7/02

Метки: обработке, отклонений, размеров, фотохимической

...меньшими предела разрешения, после проведения процесса фотохими. ческой обработки в рамке не сохраняются.Это связано с тем, что при уменьшении размера тестового элемента на фотошаблонеиз-за дифракции, возникающей вследствиеконечной величины зазора между фоторезистом на поверхности обрабатываемого материала и фотошаблоном, а также конечнойтолщиной самого фоторезистивного покрытиФ, повышается интенсивность освещенияпод центром элемента, Пропорциональноинтенсивности освещения увеличивается идоза экспозиции, и, следовательно, скоростьудаления фоторезиста при его проявлении,Время полного удаления фоторезистивных 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 элементов, обратно пропорциональное скорости проявления, уменьшается с уменьшением...

Номер патента: 111989

Опубликовано: 01.01.1958

Автор: Продан

МПК: G06C 3/00

Метки: валов, отверстий, отклонений, предельных, размеров, расчетная, таблица

...поворота дисков в корпусе и частично перекрывающие один другой. На обложках таблицы изложены основные понятия стандарта для допусков и поса- док.На правой стороне обложек изложена система допусков для отверстий, а на левой - для валов. В средней прямоугольной части на одной обложке указаны прессовые посадки для системы отверстия и системы вала, а на другой -- переход111989ные и подвижныс посадки и допуски для 7, 8 и 9 классов точности.В полукруглой части обложек имеются вырезы 5, б и 7 в виде секторов, служащие для чтения интервалов номинальных диаметров, нанесенных на дисках 3 и 4,Диски 3, 4 закреплены на осях 8 между обложками таким образом, что они могут свободно поворачиваться.Для нахождения отклонения номинального диаметра...

Номер патента: 181309

Опубликовано: 01.01.1966

Автор: Костич

МПК: G01B 5/20

Метки: изделия, отклонений, размеров, сложной, формы

...путем механического сравнения его с образцом в процессе синхронного вращения содержат копир, ведущий ролик, поворотную рамку с 5 цапфами и измеритель, состоящий из контактного наконечника, корпуса и отсчетного приспособления.В предлагаемом устройстве для увеличения точности контроля контактный наконечник 10 выполнен в виде диска, свободно перемещаемого в любом радиальном направлении и имеющего центральное коническое отверстие, в которое входит подпружиненный шарик, передающий измерительное отклонение в на правлении оси диска на отсчетное приспособление.На чертеже показана схема описываемого устройства.Устройство состоит из диска 1, имеющего 20 центральное коническое отверстие 2 с углом конуса 90. В коническую поверхность упирается...

Номер патента: 653506

Опубликовано: 25.03.1979

Авторы: Гудзенко, Дерюгин, Сотин, Теричев, Тищенко, Цветаев, Челяев

МПК: G01B 11/00

Метки: величины, отклонения, размеров, эталонной

...среды на пути пространственно разнесенных опорной и сигнальной волн.Целью предлагаемого изобретения является повышение точности измерения.Это достигается тем, что две пространственно разнесенные волны преобразуют в поверхностные.Предлагаемый способ иллюстрируется чертежом.Излучение от когерентного источника 1 подают на систему 2,пля разделения когерентного пучка на две простс,653506 Формула изобретения Составитель В. КлимоваТехред М.Петко Корректор Д.Мельниченко Редактор Н.Козлова Тираж 865 ПодписноеЦНИИПИ Государственного комитета СССРпо делам изобретений и открытий113035, Москва, Х, Раушская наб д,4/5 Заказ 1276/30 Филиал ППП Патент, г, Ужгород, ул. Проектная, 4 ранственно разнесенные волны 3 и 4, после чего объемные...

Номер патента: 790035

Опубликовано: 23.12.1980

Авторы: Зайцев, Румянцев

МПК: H01J 29/48

Метки: изображения, системе, электронно-оптической

...ускоряющий электрод 3, электрически соединенный с парой параллельных пластин 4, которые образуют первую цилиндрическую электроакустическую линзу 5 совместно с пластинами6. Второй цилиндрической линзой янляется электромагнитная катушка 7.Плоскость симметрии электростатической линзы 5, являющаяся н частномслучае и плоскостью, относительнокоторой Фокусируют пучок 8 электронов на выходе первой линзы, повернута относительно вертикали плоскостисимметрии магнитной линзы 7 на уголУ Способ Фокусировки осуществляетсяследующим образом,В иммерсионном объективе, образованном катодом, модулятором и ускоряющим электродом Формируется аксиально-симметричный расходящийся пучок8 электронов. Далее этот пучок попадает в область действия...