Панкратическая лупа-окуляр

Номер патента: 265713

Опубликовано: 01.01.1970

Автор: Гольштейн

МПК: G03G 15/00

Метки: изображения, контраста, оптического, увеличения

...электростатическое изображение проявляют по схеме позитив - позитив и получают изоораяение, которое значительно контрасгней изображения на пластине б. Для еще большего увеличения контрастности проявленное изображение на пластине 10 освещают ультрафиолетовыми лучами от источника 11 и проецируют прп помощи объектива 12 на очувствленнтчо электро 265713графическую пластину 13, аналогичную пластинам 6 и 10.В процессе экспонирования пластины 13 (как и в предыдущем случае) применяют фильтр, пропускающий видимые и задерживающий ультрафиолетовые лучи. Изображение на пластине 13, проявленное по схеме позитив - позитив, значительно контрастней изображения на пластине 10.На чертеже показаны три пластины 6, 10 и 13 с соответствующими...

Номер патента: 563269

Опубликовано: 30.06.1977

Авторы: Балай, Наумов, Тазьба

МПК: B24B 9/14

Метки: граней, оптических, призм

...граней оптических призм состоит из следующих операций: первое шлпфование наружной кромкой чашечного круга (на чертеже обозначено пози цией А); подача на врезайие (Б); второе шлифование внутренней кромкой чашечного круга (В); выхаживание поверхности (Г).Способ осуществляется следующим образом, Формируют столбик заготовок призм путем установки их друг на друга нерабочими поверхностями. Устанавливают столбик, сжимают и фиксируют его, используя нерабочие поверхности и оставляя свободными грани для обработки. При перемещении чашечного круга в тангенциальном направлении по отношению к оси столбика прп врезании наружной кромки круга производят первое шлифование грани. В момент, когда круг охватывает весь столбик и выходит пз...

Номер патента: 611761

Опубликовано: 25.06.1978

Авторы: Балай, Наумов, Тазьба

МПК: B24B 1/00

Метки: граней, оптических, призм

...2 с1усилием 500-1000 кг, используя нерабочие поверхности и оставляя свободнымиграни для обработки,При перемешении гидростола 3 в тангенциальном направлении по отношению коси столбика 1 при врезании наружнойкромки наружного круга 4 с зернистостью120-160 мкм проводят первое шлифование грани. В момент, когда наружный круг4 охватывает весь столбик 1 и вь одит иэконтакта, осуществляют подачу на врезание,и при движении круга 4, но уже в противоположном направлении, шлифуют граньвттулренней кромкой круга 4.т столбик 1 делительЗатем поворачивают столным механиз мом 5.т дпя каждойЦикл обработки повторяют дграни,5ительной шлифовки всехПосле предварилие зажима заготовок гране уй меньшают усил15 кг, одновременно ро и оач на врезание внут...

Номер патента: 648007

Опубликовано: 15.08.1979

Авторы: Андроникашвили, Бархударов, Галусташвили, Паперно, Тактакишвили

МПК: H01S 3/02

Метки: кристалла, оптической, прочности, увеличения

...- повышение пороговой плотности энергии оптического пробоя,Это достигается тем, что по предлагаемому способу кристалл предварительно нагружают.в области пределатекучести и в нагруженном сост ииоблучают потоком-лучей доэо1-210 рад.П р и м е р. Исследуемый кристаллНаС 1 в форме пластины 30 х 20 х 3 юсефподвергают одноосному сжатию вдолькристаллографического направления:(100) и облучают ) -лучами при комнатной температуре. Обработанный таким образом кристалл исследуют на;.пробой лучом импульсного СО - лазера атмосферного давления с двойнымпоперечным разрядом. Импульс излучения имеет сложную форму: за пиком длительностью 100-150 нс следу.ет фхвост продолжительностью 1,52 мкс. Длина волны излучения 10,6мкм. Луч фокусируют на...

Номер патента: 1606858

Опубликовано: 15.11.1990

Авторы: Беспалов, Голованов, Зайков

МПК: G01C 15/00

Метки: каллимирующей, оптической, системы, увеличения

...на выходе лучей из формирователя устанавливают в положение А оптический клин (фиг. 3), отклоняющий лучи на угол е, и фиксируют на экране положение ОДН излучения в точке 02. Затем оптический клин устанавливают в положение В (фиг. 2 - 4) перед входом лучей в формирователь, фиксируют положение ОДН излучения в точке 02. Угловое. отклонение лучей при этом составит( ЕЯГгде Г - увеличение телескопической системы формирователя.Измеряют отрезки 0 - 01 соответствующие линейному отклонению 11 и 0 02, соответствующие линейному отклонению 12. Тогда увеличение телескопической системы формирователя определяют из выражения Требуемая точность определения увеличения формирователя может быть обеспечена при соблюдении условияО 201,где 1 - дистанция от...