Ножевой контактный разъем

Номер патента: 149603

Опубликовано: 01.01.1962

Автор: Можейко

МПК: G01L 1/04

Метки: давления, контактах, пружин, релейных

...устройства нажатия пру. ь производиобъекта электри- динамоме 1 ра.На чертежекой группы в элКонтакты 1как электроконтнамометра 4, косирующее моментактной группы. а схема подключения проверяемой контактю цепь динамодлетра,ряемой контактной группы 3, использ чик, включаются в электрическую це т электромагнитное устройство, точно фикния контактов пружины проверяемой кон. изоораженектрическуи 2 прове ктный да торый име т размыка уемые пь ди. Изобретение относитсятах релейных пружин.Известен способ исэлектрической цепи длподвижного конца упргого усилия.Недостатком известногщий проверку контактногопоказаниями динамометрамых контактных пружин,обеспечивает качественнойЦель описываемого изожины точно в момент отрьмых замеров не зависит...

Номер патента: 1781725

Опубликовано: 15.12.1992

Авторы: Баскир, Гольдберг

МПК: H01H 49/00

Метки: контакта, контактного, нажатия, нейтрального, размыкающего, реле, электромагнитного

...ко входу усилителя-ограничителя 8, у которого вь 1 ход со был предварительно установлен в положение, при котором толкатель был подведен к пружине переключающего контакта, на размыкающий контакт 13 находился в замкнутом состоянии,10 15 20 30 354550 единен со входом запуска триггера 3. Выход триггера 3 подключен к первому информационному входу блока 1, второй информационный вход которого соединен с выходам блока 9 контроля состояния контактов измеряемого реле. К выходу источника 10 питания контактов через резистор 11 подключен переключающий контакт 12 измеряемого реле, размыкающий контакт 13 и замыкающий контакт 14 которого подключен к общей шине.К переключающему контакту 12 подключен вход блока 9,Устройство работает следующим...

Номер патента: 1640536

Опубликовано: 07.04.1991

Автор: Гриневский

МПК: G01B 11/16

Метки: контакта, перемещений, участках

...участках контакта, усжду опорными деталями, зец, например, сжимаюм сдвигающей силой и зарамму сфокусированного траженный неконтактируи опорной детали второй пучок света от источника 1 учения светоделителями 2 опорный обьектный и втоный пучки соответственно.Опорный пучок через формирователь 11опорного пучка подают на регистрирующуюсреду 16. Объектный пучок отражают зеркалом 9 и через формирователь 10 обьектногопучка и опорную деталь 14 подают на объект 513. Отразившийся от образца пучок проходит через оптическую систему 15, формирующую иэображение объекта в плоскостирегистрирующей среды 16. Второй, дополнительный, пучок отражают зеркалом 4 и 10через формирователь 12 направляют вопорную деталь 14. Второй пучок попадаетнаконтактную...

Номер патента: 1325599

Опубликовано: 23.07.1987

Авторы: Лазян, Овакимян, Султанян, Ширинян

МПК: H01H 11/04, H01H 49/00

Метки: автоматической, коммутационного, контактного, контактов, нажатия, размыкающих, регулировки, элемента

...7 и упругим элемен 35 том. 8 равно минимальному значению предела регулировки контактного нажатия. Контакт-ограничитель 9 установлен так, что, когда упругий.элемент 8 прикасается к контакту-ограничителю 9, давление между упругимэлементом 8 и контактом-ограничителем 9 равно максимальному значениюпредела регулировки контактного нажатия. Если упругий элемент 8 в моментотрыва контактов 11 и 10 не замыкается контактами-ограничителями 7 и 9, то контактное нажатие для данной контактной системы находится в пределахдопустимых значений контактного нажа тия. Если в момент отрыва контактов10 и 11 упругий элемент 8 замыкается с контактом-ограничителем 7, это значит, что контактное нажатие в даннойконтактной системе меньще...

Номер патента: 1394258

Опубликовано: 07.05.1988

Автор: Фельмецгер

МПК: H01H 11/04

Метки: вакуумного, высоковольтного, контакт-деталь, контакта, контактного, магнитоуправляемого, нанесения, покрытия

...(обычно катода), генерирует интенсивные потоки металлической плазмы, степень ионизации которой в случае вольфрама до достигает 807 При этом энергия ионов, экстрагируемых из плазмы разряда, может регулироваться в широких пределах путем приложения отрицатель ного потенциала к обрабатываемому изделию, При бомбардировке покрытия ускоренными ионами происходит не только распыление микронеровностей на поверхности, но и интенсивный нагрев (преимущественно приповерхностных слоев), стимулирующий удаление из покрытия адсорбированных газов, При последующем осаждении низкоэнергетичнык ионов из плазмы вакуумного ду гового разряда идет зарастание пор и формирование плотного текстурированного поверхностного слоя. Полученный в результате достаточно...