Полностью закрывающаяся лепестковая диафрагма
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
(51)4 6 03 В 9/06 И ЕТЕПЬСТВУ Н АВТОРСКОМ епес ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССРПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИИ ОПИСАНИЕ ИЗОБР(71) Специальное конструкторскоебюро научного приборостроения(54)(57) ПОЛНОСТЬЮ ЗАКРЫВАЮЩАЯСЯЛЕПЕСТКОВАЯ ДИАФРАГМА, содержащаякольцевую оправу с осевыми штифтамисвязанными с лепестками, установленными на ведомых штифтах поворотнойкоронки, о т л и ч а ю щ а я с я 801191866 А тем, что, с целью увеличения дианзона плавного регулирования величины светового отверстия диафрагмыпри сохранении его формы близкойк круглой вплоть до полного перекрытия светового отверстия, лепесткивыполнены одинаковой формы и каждыйлепесток выполнен с отверстием,равным максимальному размеру светового отверстия диафрагмы, осевыеи ведомые штифты расположены относительно центра отверстия соответствующего лепестка на расстоянии, превы-,шающем полтора диаметра отверстия,а закрывающий участок лепестка ограничен дугой окружности, проходящейчерез центр отверстия лепестка,с радиусом не менее половины диаметра отверстия, при этом все л ткиуложены один на другой.66 ВНИИПИ Тираж 4 Заказ 7155Подписное 1 11918Изобретение относится к фотографии, кинематографии, электрофотографии, голографии, метеорологии, а более конкретно к устройствам, где необходимо в широких пределах плавно 5 регулировать величину электромагнитного.излучения оптического диапазона .гнолн рклОрМ.его полное перекрытие.Целью изобретения.является увеличение диапазона плавного регулирования величинМ светового отверстия диафрагмь 1 д сохранением его формы близкой к круглой вплоть до полного перекрытия светового отверстия.На чертеже изображена диафрагма, 15 общий вид.Полностью закрывающаяся лепестковая диафрагма содержит кольцевую оправу 1 с отверстиями, лепестки 2 с осевыми штифтами .3, ведомыми штиф тами 4 и поворотную коронку 5 с.пазами. Лепесток 2 выполнен с круглым отверстием 6 диаметром, равным максимальному световому отверстию диафрагмы, а образующая 7 внешнего контура лепестка - с радиусом кривизны, превышающим диаметр отверстия 6, причем центр этого радиуса может быть смещен относительно центра отверстия 6 на четверть его 30 диаметра в направлении противоположном направлению поворота А коронки 5 Осевой штифт 3 и ведомый штифт 4 располагаются соответственно на выступах 8 и 9 лепестка 2. Лепестки З 5 2 установлены в кольцевой оправе 1 друг на друге, а осевые штифты связ ны с ее радиально расположенными отверстиями, приэтом поворотная коронка 5 установлена сверху лепестков, а ведомые штифты 4 выполнены взаимодействующими с ее пазами.Полностью закрывающаяся лепестковая диафрагма работает следующим образом. При вращении поворотнои коронки 5 в направлении А ведомые щтифты 4, скользя по пазам поворотной коронки 5, поворачивают лепестки 2 вокруг осевых штифтов 3, при этом отверстия 6 каждого лепестка смещаются относительно центральной оси диафрагмы, в результате чего происходит уменьшение величины светового отверстия диафрагмы.Лепестки 2 заходят один за другой, обеспечивая полное перекрытие диафрагмы. Форма отверстия диафрагмы при этом остается близкой к круглой, так как она образуется и-уголь. ником. Стороны и-угольника при этом являются дугами окружности максимального светового диаметра О, а и-число лепестков в диафрагме. Минимальное число лепестков 6 обеспечивает наименьшую общую толщину диафрагмы при ее форме близкой к круглой. илиал ППП "Патент",
СмотретьЗаявка
3540193, 13.01.1983
СПЕЦИАЛЬНОЕ КОНСТРУКТОРСКОЕ БЮРО НАУЧНОГО ПРИБОРОСТРОЕНИЯ "ОПТИКА"
КОШЕЛЕВ ВЛАДИМИР АЛЕКСЕЕВИЧ, ТИХОМИРОВ АЛЕКСАНДР АЛЕКСЕЕВИЧ
МПК / Метки
МПК: G03B 9/06
Метки: диафрагма, закрывающаяся, лепестковая, полностью
Опубликовано: 15.11.1985
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-1191866-polnostyu-zakryvayushhayasya-lepestkovaya-diafragma.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Полностью закрывающаяся лепестковая диафрагма</a>
Способ изготовления пористой диафрагмы
Номер патента: 1718687
Опубликовано: 10.02.1996
Авторы: Васильева, Лукин, Мирошниченко, Рудаков, Серых
МПК: H01M 2/16
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОРИСТОЙ ДИАФРАГМЫ путем вакуумной фильтрации суспензии волокнистого материала на сетке вращающегося перфорированного цилиндра, помещенного в ванну с суспензией, уплотнения полученной влажной заготовки диафрагмы прикатным валиком и сушки, отличающийся тем, что, с целью уменьшения разброса пористости по площади диафрагмы при сохранении ее высокого газозапорного давления, вращающийся перфорированный цилиндр и расположенный параллельно его оси и опирающийся на него прикатный валик полностью погружают в суспензию, процесс отфильтровывания ведут непрерывно, фильтрат постоянно возвращают в ванну, окружную скорость вращения цилиндра поддерживают 0,8 - 3,8 м/мин, процесс заканчивают при достижении требуемой толщины диафрагмы...
Комбинированный штамп для вырубки, вытяжки, пробивки отверстий, формовки сферы и маркировки деталей малых диаметров за один ход ползуна
Номер патента: 83017
Опубликовано: 01.01.1950
Автор: Кособоков
МПК: B21D 35/00, B21D 53/10, F16C 33/00
Метки: вырубки, вытяжки, диаметров, комбинированный, малых, маркировки, один, отверстий, ползуна, пробивки, сферы, формовки, ход, штамп
...ВЫСОКОС КаЧЕСТВО дЕТЯ 1 Ей 1 10 вышаст производительность.На фиг, 1 показан вид штампа в разрезе в момент установки заготовки; на фиг. 2 - в момент вырубки заготовки; на фиг. 3 - в моментвытяжки; на фиг. 4 - в момент пробивки отверстия; на фиг 5 - в момент формовки сферы и маркировки.Основными рабочими деталями штампа являются вырус 1 ные пуансон 1 и матрица 2, вытяжные пуансон 3 и матрица 4, пробивной пуансоЕ,э, формовочная матрица 6, шпильки 7 прижимного суфера и шариковый замок 8,После у, таЕовки заготовкР (фиг. 1) Опускастся по;ЕзуР пре;саготоька Вырубается при помощи пуансона 1 и матрицы 2 (с 11С целью устранения складок при вытяжке и повышения точности 11 заг. 2).изго Ы 830171 Овл 51 емых деталей, Вытяжнои пуансон д являетс 51...
Вторично-электронный усилитель
Номер патента: 48891
Опубликовано: 31.08.1936
Автор: Векшинский
МПК: H01J 43/06
Метки: вторично-электронный, усилитель
...в виду того, что для вторично-электрон. ного усиления безразлично, имеет ли место полная фокусировка электронного изображения или нет, и для достижения максимального эффекта существенно лишь сохранение подобия в расположении изображения на электродах и их формы возможно применение скошенных оптических систем, имеющих ломаную, плоско или пространственно искривленную электронно-оптическую ось.Изложенный выше принцип построения электронно-оптической системы для вторично-электронного усиления можетоптические системы, использующие разный наклон электродных поверхностей к оптической оси при одновременной разнице в отверстиях передней и задней стенок.В более простом случае подобные системы могут быть образованы рядами плоских сеток с точно...
Способ параллельно-последовательной обработки отверстий в кольцевых деталях на многошпиндельных многопозиционных станках с круглым столом
Номер патента: 124273
Опубликовано: 01.01.1959
Авторы: Бачериков, Скуратовский
МПК: B23B 35/00, B23B 39/20
Метки: деталях, кольцевых, круглым, многопозиционных, многошпиндельных, отверстий, параллельно-последовательной, станках, столом
...в станке подбирается так, чтобы создать возможность обработки требуемого т 1 ИСЛа тИПОраЗХЕрОВ дЕталей С раа;1 ИЧНЫМ т 1 ИСЛОМ отЕрстий, Прн ЗтОМ в каждом случае одновременно работает разное число шпинделей, а остальные не оснащаются режущими инструментами и остаются свободными,В приведенной таблице указаны числа шпинделей (графа 2), и позиций на столе станка (графа 5 и 6), необходимых для обеспечения обработки групп деталей с различным сочетанием чисел отверстий, наиболее часто встречающихся на производстве (графа 1). В графах 3 и 4 указаны наиболыпие и наименьшие количества одновременно используемых ппинделей при ооработкс различных деталеи в дапнои труппе. Наименьшее число зажимных приспособлений (число позиций) Число одновременно...
Способ обработки отверстий
Номер патента: 205497
Опубликовано: 01.01.1967
Автор: Левинсон
МПК: B23B 35/00
Метки: отверстий
...(зенкера), а разность этих диаметров, превышающей припуск на сторону, вследствие чего происходит периодическое прерывание контакта главной режущей кромки с обрабатываемой поверхностью.Способ обработки отверстий инструментом с диаметром, меньшим диаметра обработанного отверстия, предложен с целью дробления стружки,Ось зенра обрабо кера диаметром О, меньшим диаметтанного отверстия на величину, преЫ - 1 ю припуск на сторону=- 2 смещается относительно оси отверстия на величину Л, равную половине разно тров обработанного отверстия рдв .0Л= . Вращающемуся зенкеру и заготов 2 ке сообщается относительное осевое перемещение (осевая подача),При выходе каждого зуба зенкера из контакта с обрабатываемой заготовкой стружка О прерывается. В случае...
Предыдущий патент: Способ определения степени расфокусировки оптической системы
Следующий патент: Механизм управления диафрагмой
Случайный патент: Устройство для пластикации и впрыска полимерных материалов