Плазменный источник электронов
Формула | Описание | Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 791103
Авторы: Гольдфарб, Каплан, Кулешов, Лозовой, Никитинский, Пширков, Соколов, Соломенцев, Строганов
Формула
Плазменный источник электронов, содержащий катод, промежуточный электрод с контрагирующим отверстием, анод, управляющий и ускоряющий электроды, отличающийся тем, что, с целью стабилизации тока пучка электронов и повышения электрической прочности ускоряющего промежутка, на поверхности промежуточного электрода, обращенной к катоду, выполнен кольцевой выступ, при этом промежуточный электрод отделен от катода пластиной, поперечный размер которой превосходит диаметры как катода, так и выступа, а расстояние между пластиной и промежуточным электродом, равное внутреннему диаметру кольцевого выступа, на порядок величины больше диаметра контрагирующего отверстия.
Описание
Известны источники электронов в виде разрядной ячейки Пеннинга с извлекающим электродом [1]
Их недостаток состоит в ограничении сверху по току пучка электронов.
Наиболее близким по технической сути является плазменный источник электронов, содержащий катод, промежуточный электрод с контрагирующим отверстием, анод, управляющий и ускоряющий электроды, формирующие пучок электронов [2]
В данном источнике ионизации рабочего вещества осуществляется дуговым разрядом, сжатым отверстием в промежуточном электроде. Повышенные плотность и степень ионизации плазмы позволяют значительно увеличить ток пучка электронов. Однако этот параметр нестабилен, а в ускоряющем промежутке относительно часто наблюдаются пробои.
Целью изобретения является стабилизация тока пучка электронов и повышение электрической прочности ускоряющего промежутка.
Поставленная цель достигается тем, что в плазменном источнике электронов, содержащем катод, промежуточный электрод с контрагирующим отверстием, анод, управляющий и ускоряющий электроды, на поверхности промежуточного электрода, обращенной к катоду, выполнен кольцевой выступ, при этом промежуточный электрод отделен от катода пластиной, поперечный размер который превосходит диаметры как катода, так и выступа, а расстояние между пластиной и промежуточным электродом, равное внутреннему диаметру кольцевого выступа, на порядок величины больше диаметра контрагирующего отверстия.
Устройство, выполненное согласно данному изобретению, представлено на чертеже.
Оно состоит из катода 1, промежуточного электрода с контрагирующим отверстием 2, анода 3, управляющего электрода 4, ускоряющего электрода 5. На электроде 2 выполнен кольцевой выступ 6 и установлена пластина 7, поперечный размер которой превосходит диаметры как выступа 6, так и катода 1.
Работает данное устройство следующим образом. Рабочую полость устройства вакуумируют, между электродами 1 и 3 поджигают дуговой разряд, который сжимается отверстием в электроде 2. Между электродами 4 и 5 прикладывают высокое напряжение, чем формируется электронный пучок. Наличие выступа 6 на электроде 2 и пластины 7 предотвращает попадание паров катода в контактирующее отверстие электрода 2 и в ускоряющий промежуток между электродами 4 и 5. Первый фактор стабилизирует ток пучка электронов в силу стабилизации параметров плазмы, второй повышает электрическую прочность ускоряющего промежутка.
Плазменный источник электронов, содержащий катод, промежуточный электрод с контрагирующим отверстием, анод, управляющий и ускоряющий электроды, отличающийся тем, что, с целью стабилизации тока пучка электронов и повышения электрической прочности ускоряющего промежутка, на поверхности промежуточного электрода, обращенной к катоду, выполнен кольцевой выступ, при этом промежуточный электрод отделен от катода пластиной, поперечный размер которой превосходит диаметры как катода, так и выступа, а расстояние между пластиной и промежуточным электродом, равное внутреннему диаметру кольцевого выступа, на порядок величины больше диаметра контрагирующего отверстия.
Рисунки
Заявка
2748156/25, 03.04.1979
Никитинский В. А, Лозовой Б. С, Гольдфарб Л. Н, Каплан А. А, Кулешов М. П, Соколов А. И, Строганов Г. Б, Соломенцев А. П, Пширков В. Ф
МПК / Метки
МПК: H01J 37/077
Метки: источник, плазменный, электронов
Опубликовано: 10.01.1997
Код ссылки
<a href="https://patents.su/0-791103-plazmennyjj-istochnik-ehlektronov.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Плазменный источник электронов</a>
Предыдущий патент: Устройство для импульсного воздействия на призабойную зону скважины
Следующий патент: Мощный высокочастотный транзистор
Случайный патент: Устройство для уплотнения бетонных смесей в основании дорог и подобных сооружений