Способ обработки поверхности полупроводников
Описание | Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 221176
Авторы: Васильева, Покровская
Описание
Заявка
1002611/25, 12.04.1965
Институт физики полупроводников СО АН СССР
Покровская С. В, Васильева Л. Л
МПК / Метки
МПК: H01L 21/314
Метки: поверхности, полупроводников
Опубликовано: 20.05.2000
Код ссылки
<a href="https://patents.su/0-221176-sposob-obrabotki-poverkhnosti-poluprovodnikov.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ обработки поверхности полупроводников</a>
Предыдущий патент: Твердотельный экран
Следующий патент: Фазосдвигающее устройство
Случайный патент: Раствор для декапирования никелированных поверхностей