Способ определения функции близости в электронной литографии

Номер патента: 1593516

Авторы: Бабин, Свинцов

Описание

Способ определения функции близости в электронной литографии, включающий экспонирование в слое резиста структуры в виде линий различной ширины с изменяющейся вдоль линии дозой экспонирования, проявление резиста, определение критических доз экспонирования по минимальным дозам, при которых резист проявляется до подложки, и расчет функции близости, отличающийся тем, что, с целью повышения точности способа, ширину линий при экспонировании выбирают от 0,06 мкм до величины, равной не менее двух длин пробега электронов в резисте, а при определении критических доз экспонирования за минимальную дозу выбирают такую дозу, при которой проявляются центры линий.

Заявка

4443187/21, 15.04.1988

Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов АН СССР

Бабин С. В, Свинцов А. А

МПК / Метки

МПК: H01L 21/312

Метки: близости, литографии, функции, электронной

Опубликовано: 20.02.2000

Код ссылки

<a href="https://patents.su/0-1593516-sposob-opredeleniya-funkcii-blizosti-v-ehlektronnojj-litografii.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ определения функции близости в электронной литографии</a>

Похожие патенты