Залужный

Номер патента: 869959

Опубликовано: 07.10.1981

Авторы: Бельский, Горелик, Залужный, Ситкевич, Соколов

МПК: B22D 27/00

Метки: отливок, поверхностно-легированных

...Затем форма с диффузионно-актквным покрытием подвер 40 галась сушке в электропечи при температуре 200 С в течение 30 мин, форма была подготовлена для получения литых образцов диаиетрои 20 ии и длиной 50 мм. Подготовленную форму помещали ф 5 в высокотемнературную камеру н прогревали до 1200-1300 С, после чего провофдили заливку жидкой стали 50 с температурой 70 дэС. форму с расплавленным металлом устанавливали на водоохлаж- зО даеиое основание, являющееся конструк тивной частью (кристаллизатором) установки для направленной кристаллизации, помещали в камеру установки с 4температурой на 50-100 С, превышающейолинию ликвкдус 1550, 575, 1600 С. Выдерживали при этой температуре в течение 5 мин и затем выводили из камеры со скоростью 0,5-2...

Номер патента: 765704

Опубликовано: 23.09.1980

Авторы: Жолнин, Залужный

МПК: G01N 7/00

Метки: газовыделения, исследования, кинетики

...и магнитной заслонки осуществляется кольцевыми магнитами 11 и 12. Йля термического обезгаживания деталей установки используются внешние нагреватели 13, 14, 15. Через боковые патрубки 16 и 17 отжиговая камера подк 5 10 40 50 4лючена к системе откачки 18 и системерегистрации 19 вакуума и парциальныхидавлений отдельных газов.Установка работает следующим образом.Образцы загружаются через крышку 10 колонки. Плоские образцы с отверстием в центре нанизываются на шток 9 поочередно с разделительными кольцами, выполненными иэ того же материала, что и образцы, С помощью заслонки 8 стоп-, ка образцов 20 удерживается в верхней части колонки, После откачки атмосферного воздуха установка прогревается при постоянной откачке высоковакуумными насосами...

Номер патента: 628434

Опубликовано: 15.10.1978

Авторы: Васин, Залужный, Скоров, Сторожук

МПК: G01N 21/00

Метки: водорода, металлах, сплавах

...мм рт.ст дав15ление насышенньгх паров других газов,входящих в состав воздушной смеси, ешениже. Давление насыщенных паров водорода при 20 К равно 675, 7 мм рт.ст атак как вакуум в системе перед распылением не ниже 5 10 мм рт.ст., объемсистемы порядка пяти литров, а количество распыляемого вещества несколько десятков миллиграмм, давление водорода всистеме после распыления образца намного меньше давления насыщенных паровОпри 20 К, так как откачка водорода путем его конденсации на адсорбируюшейповерхности насоса невозможна, Азот,кислород и другие газы воздушной смесиоткачиваются путем их ожижения на апсорбируюшей поверхности насоса до достижения парциального давления по каждомуиз газов, отвечающего равновесию с жидкой фазой.Использование...

Номер патента: 126109

Опубликовано: 01.01.1960

Авторы: Грацерштейн, Залужный, Костин, Левицкий, Щепачев, Щербак

МПК: C01F 7/56

Метки: алюминия, оксихлорида, основной, соли

...про окись алюминия применяют мого быстрой карбонизацисй нои соли119870,есса, исвиде тоалюмина 5,б-оксихлоридао тлич а ющиодную свежео кодисперсноготнык растворов алюминия по1 ся тем, чажденную гипорошка, полуна холоду. ае Предлагаемый способ интенсифицирует процесс получения оксихлорида алюминия, Достигается это тем, что, вместо обычно выделяемой гидроокиси алюминия с относительно крупной структурой кристаллов, для получения оксихлорида алюмпния применя;от свежеосан денную тонкодисперсную гидроокись алюминия.Для получения такой гидроокиси гидролиз алюминатного раствора ведут на холоду способом быстрой карбонпзации, или путем подачи в оеактор-карбонизатор увеличенного количества углекислого газа, что обеспечивает полноту выделения...