Топала
Способ электроэрозионного легирования и устройство для его осуществления
Номер патента: 1704971
Опубликовано: 15.01.1992
Авторы: Димитров, Топала
МПК: B23H 9/00
Метки: легирования, электроэрозионного
...от электрода-инструмента 1 с дальнейшим ее оплавлением ипереносом на обрабатываемую поверхность катода-детали 2, Рабочий электрод- инструмент 1 но время процесса совершаетвращательное и поступательное движение.Подающее устройство, сндбженное штуце-ром 3, перемещается синхронно с электродинструментом 1. Устройство позволяетравномерно покрыоать плоские, цилиндрические и сложнопрофильныа наружные поверхности.На обрабатываемую пооерхность плоских и круглых образцов из стали 45 наносили покрытия иэ бронзы Бр 0-10, никеля исплава СНГН. Длл формирования высокооольтного слаботочного и низковольтного сильноточного импульсов тока использовали установку "Разряд", в которой нмонтиронаны генератор сильноточных и высоковольтных слаботочных...
Устройство для подачи порошкового материала
Номер патента: 1574385
Опубликовано: 30.06.1990
Авторы: Гитлевич, Куку, Топала
МПК: B23H 9/00
Метки: подачи, порошкового
...материала, при этом зазор между питателем и дном бункера,а также диаметр отверстия в штуцеременьше диаметра гранул.1 Составитель С. НикифоровРедактор М. Петрова Техред М.Дидык Корректор М, Пожо Заказ 1745 Тираж 554 ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5 Производственно-издательский комбинат "Патент", г.Ужгород, ул. Гагарина,101 Изобретение относится к электрофизическим и электрохимическим методамобработки, в частности к устройствамдля подачи порошкового материала,Цель изобретения - повышение качества обработки за счет равномернойрегулируемой подачи порошкового материала в зону электроэрозионного легирования,На чертеже приведена схема...
Способ нанесения покрытия
Номер патента: 1255331
Опубликовано: 07.09.1986
Авторы: Гитлевич, Михайлюк, Полонская, Топала
МПК: B23H 9/00
...поверхности появляются следы эрозии и уменьшается величина катодного следа. Это, какпоказал металлографический и рентгенофазовый анализ, приводит к уменьшению сплошности (не превышает 76 Я) и равномерностипокрытия по толщине, определяемой отношением максимальной толщины нанесенногослоя к минимальной (не ниже 2,4). Приэтом фазовый состав покрытия неоднородный, В покрытии присутствуют окислы железа и нитриды железа,При межэлектродном промежутке, большем 2 мм, эффект очистки уменьшается икатодный след теряет сплошность (состоит из отдельных неопределенной формыучастков). Сплошность покрытия не превышает 75 Я, равномерность по толщине2,5 и более (измеряется отношение максимальной толщины покрытия к минимальной).Длительность...