Киризий
Состав для полирования полупроводниковых материалов
Номер патента: 1161529
Опубликовано: 15.06.1985
Авторы: Губа, Дмитриева, Захаров, Киризий, Либо, Огенко, Чуйко
МПК: C09G 1/02
Метки: полирования, полупроводниковых, состав
...в качестве соли аммония "углекислый, хлористый или фтористыйаммоний.Полученную композицию используют 25для полирования образцов арсенидагаллия,фосфида галлия, а также германия.Производительность процесса полирования оценивают по съему материалав единицу времени, степень чистотыполируемой поверхности определяютпутем измерения микронеровностейповерхности при помощи профилометрапрофилографа.П р и м е р 1. Готовили композицию состава, мас. :Золь двуокисикремния (силиказоль) 4,3Карбонат аммония 1,3Калий железосинеродистый 8,4Алкамон ОС(метил"метилдиэтиламмонийбензосульфонат) , 0,04 9 2Вола 85,96Композицию использовали для полировки поверхности образцов арсенида галлия, Скорость съема составляла 1,0-1,5 мкм/мин, микронеровности не привышали...