H01L 7/64 — H01L 7/64

Номер патента: 439037

Опубликовано: 05.08.1974

Авторы: Большаков, Гончаров

МПК: H01L 7/64

Метки: покрытий, термообработки, фоторезистивных

...Полученное покрытие по качеству ничем не отличалось от покрытийполученных с помощью известных ранее способов термообработки.Целью изобретения является повышение ка чества обработки.Поставленная цель достигается тем, что пластину с двух сторон облучают ИК - излучением, причем со стороны, свободной от покрытия, воздействуют излучением, максимум 20 интенсивности которота приходится на длины волн в области 0,8 - 3 мкм, а со стороны нанесенного покрытия - излучением с максимумом в области 4 - 8 мкм.П р и м ер. На окисленные кремниевые или 25 металлизированные ситалловые подложечки Баносят фоторезистивное покрытие толщиной 0,8 - :1,5 мкм. Для проведения термообработки подложки укладывают на проволочный конвейер и в течение 30 - 60...

Номер патента: 392856

Опубликовано: 15.03.1975

Авторы: Выдра, Граубинь, Загайтов, Зоммер, Иоффе, Калинин, Калнин, Климов, Крн, Кульберг, Радомысленский, Шевченко

МПК: H01L 7/64

Метки: взаимной, стержней, установки, ферромагнитных

...средняя катушка 2.Вектор индукции магнитного поля катушки 3совпадает с направлением оси сопряжения собираемых элементов. Градиент локальногомагнитного поля относительно оси во всех его25 направлениях имеет одинаковое значение иобеспечивает при взаимодействии с концомферромагнитного стержня силовое воздействие в направлении оси сопряжения. Стабильным является такое положение сопрягаемого30 элемента, при котором его ось совпадает свектором магнитной индукции (осью соленоида).В положении выводов диода относительно соленоида 2, при котором достигается необходимая взаимная фиксированная установка собираемых элементов (фиг, 2), конец вывода 4 с иглой 5 выставляется в осевое положение локальным магнитным полем, образованным в верхней...

Номер патента: 475093

Опубликовано: 07.10.1980

Авторы: Данилюк, Лыско, Панасюк, Прилепов

МПК: H01L 7/64

Метки: вакуумного, напыления, слоев

...исходного вещества меняется теплоемкость испарителя и, следовательно, скорость испарения.Цель изобретения - получение про - . тяженных однородных слоев с постоянными электрофизическими свойствами.Это достигается тем, что подачу испаряемого вещества ведут порциями со временем загрузки в 10-15 раз меньшим, чем время испарения этой порции, при температуре, близкой к емпературе испарения, при этом максимальный период цикла загрузки определяют временем прохождения движущегося участка подложки в зоне конденсации, и количество испаряемого материала в 10-15 раз меньше массы испарителя, а напыление осу 3 47 суммарному потоку частиц из всех-испаритепей, В действительности суммарный поток испаряемых частиц будет создаваться . (у)...