Способ вакуумного напыления слоев

Номер патента: 475093

Авторы: Данилюк, Лыско, Панасюк, Прилепов

ZIP архив

Текст

бднов е;:ч 1 - д в О П И С А Н И Е (и)475093ИЗОБРЕТЕН ИЯ Союз СоветсккСоциалстческнРеспублик ВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ 1) Дополнительное к авт. свнд-ву2)Заявлено 12.04.73 (21)1905837/26-2(51)М. Кл. Н 011 7/6 с присоединением заявкиеударстввнный комитет СССРиорнтет -убл и ков а но 07. 1 О. 80 до делам изобретени 53) УДК 621. .382(088.8 ень 37 нрытн та опубликования описан 0.10.8 72) вторы изобретения. М. Панасюк, В. Д. Прилепов, С.и Л. Г. Лыско илю Кишиневский ордена Трудовогогосударственный университет им расного ЗнаменВ. И. Ленина(7) Заяви ОСОБ ВАКУУМНОГО 5 ЫЛЕНИЯ СЛОЕВ лавса нятьс тотермо емпературе, что и емого материала. боте нескольких,, общий моле- тветствовать шествляют при той же т точка плавления напыля При одновременной ра например, тт -испарителей куляриый поток будет соообретение относится к технике пол вакуумным напылением тонких одых полупроводнкковых слоев больротяженности и плошади на гибкую вую подложку и может примепри создании фоточувствительных слоев для электрофотографии и фо пластической записи.Известен способ вакуумного напыления олупроводниковых слоев большой протяо жениости, в котором исходное полупроводниковое вещество перед напылением загружают непосредственно в испаритель, испарение ведут иа движущуюся над испарителем гибкую ленту.5Однако во время испарения в начале испаряются легкие фракции, а затем "тяжелые, которые отличаются электро- физическими параметрами, поэтому слои получаются неоднородными по свойствам. Кроме того, плошадь напылепной ленты ограничивается объемом испарителя, который должен потреблять большую мощность. Известиым способом практически невозможно получать одинаковую скорость испарения во времени, так как по мере уменьшения исходного вещества меняется теплоемкость испарителя и, следовательно, скорость испарения.Цель изобретения - получение про - . тяженных однородных слоев с постоянными электрофизическими свойствами.Это достигается тем, что подачу испаряемого вещества ведут порциями со временем загрузки в 10-15 раз меньшим, чем время испарения этой порции, при температуре, близкой к емпературе испарения, при этом максимальный период цикла загрузки определяют временем прохождения движущегося участка подложки в зоне конденсации, и количество испаряемого материала в 10-15 раз меньше массы испарителя, а напыление осу 3 47 суммарному потоку частиц из всех-испаритепей, В действительности суммарный поток испаряемых частиц будет создаваться . (у) испарителями, так как один из испарителей находится в нерабочем состоянии, происходит загрузка порции вецества и разогрев ее до температуры испарения. Этот суммарный поток от (33 -1) испарителей постоянен в течение времени, пока исходное вещество загружается последовательно в каждый следующий испаритель после выхода на рабочий режим предыдущего, При загрузке калиброванные частицы испаряемого вещества равномерно распределяются, не соприкасаясь друг с другом по всей поверхности испарителя. После нагрева частиц до температуры испарителя создается равномерная скорость испарения по всей площади испарителя. В таком случае суммарная поверхность испарения от (3-1) испарителей будет постоянной.5093 Формула 4изобретения Способ вакуумного напыления слоев из нескольких испарителей. с дискретной подачей испаряемого материала и полным испарением насылаемой порции, .отличающийся тем,что,с целью получения протяженных однородных слоев с постоянными электрофизическими свойствами, подачу испаряемого вещества ведут порциями со временем загрузки в 10-15 раз меньшим, чем время испарения этой порции, при температуре близкой к температуре испарения, при этом максимальный период цикла загрузки определяют временем прохождения движущегося участка подложки в зоне конденсации, и количество испаряемого вещества в 10-15 раз меньше массы испарителя, а напыление осуществляют при той же температуре, что и точка плавления напыляемого материала, Составитель Б. СуходаевРедактор Л. Письман Техред М.Кузьма Корректор В, БутягаЗаказ 8631/70 Тираж 844 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5 Филиал ППП Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4

Смотреть

Заявка

1905837, 12.04.1973

КИШИНЕВСКИЙ ОРДЕНА ТРУДОВОГО КРАСНОГО ЗНАМЕНИ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ ИМ. В. И. ЛЕНИНА

ПАНАСЮК Л. М, ПРИЛЕПОВ В. Д, ДАНИЛЮК С. А, ЛЫСКО Л. Г

МПК / Метки

МПК: H01L 7/64

Метки: вакуумного, напыления, слоев

Опубликовано: 07.10.1980

Код ссылки

<a href="https://patents.su/2-475093-sposob-vakuumnogo-napyleniya-sloev.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ вакуумного напыления слоев</a>

Похожие патенты