H01J 65/06 — лампы, в которых газ возбуждается и начинает люминесцировать под действием радиоактивного материала, конструктивно сопряженного с лампой, например расположенного внутри баллона

Номер патента: 367487

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Бажов, Пальшин

МПК: H01J 65/06

Метки: газоразрядный, излучения, источник, резонансного

...веществом. Окно 4 снабжено световым экраном 7.Камера 1 представляет собой обычную высокочастот ную, безэлектродную спектральнуюРедактор В. Левятов Заказ 659/О Изд.156 Тираж 780 ПодписноеЦНИИПИ Комитета по делам пзобретеш.й и открытий при Совете Министров СССРМосква, Ж, Раушская наб., д. 4/5 Типография, пр. Сапунова, 2,пампу с парами какого-либо элемента. Камера 3, отделенная перегородкой от камеры 1, служит для получения атомного пара того же элемента, что и в камере 1,При помещении камеры 1 в контур высокочастотного генератора в ней возникает кольцевой разряд. Получая энергию высокочастотного разряда, атомы элемента, помещенного в камеру 1, возбуждаются и излучают световую энергию на частотах данного элемента. Камера 3,...

Номер патента: 415756

Опубликовано: 15.02.1974

Авторы: Андреев, Кирсанов, Королев, Савинский, Созин

МПК: H01J 65/06

Метки: высокогодавления, газоразрядная, лампа, трубчатая

...вещество будет распыляться,Особенностью предлагаемой трубчатой газоразрядной лампы высокого давления, содероролев, А. К. Савинский, М. Г. Андреев и Д. С, Созин жащей радиоактивное вещество, обеспечивающее понижецие ее напряжения зажигания, заключается в том, что это вещество наносится на Т-образную подложку, введенную в расположенньш в средней части лампы откачной штецгель и закрепляемую в отверстии последнего при его отпайке.Применение такой Т-образной подложкипозволяет упростить технологию изготовления 0 газоразрядцой лампы, содержащей в своемрабочем объеме радиоактивное вещество (а-источник), понижающее напряжение зажигания лампы.На фиг. 1 показана деталь, служащая подложкой для а-источника; на фиг. 2 - предлагаемая...

Номер патента: 1767580

Опубликовано: 07.10.1992

Авторы: Журих, Михальченко, Холодов, Чумак

МПК: H01J 65/06

Метки: излучатель, радиолюминесцентный

...источник ионизирующего излучения, газопоглотитель, два коаксиальных электрода и люминофор. Последний содержит ртуть в количестве, обеспечивающем насыщенное давление ее паров, и тяжелый инертный газ, Для увеличения диапазона регулирования интенсивности линии с длиной волны 254 нм инертный газ находится под давлением от 4 10 до 5 10 Па, 1 ил. посредством точечной сварки к металлическим выводам 6, РЛИ снабжен штенгелем 7 для подпайки к системе откачки и наполнения и помещен в металлический корпус 8, в котором промежутки между стенками зали аей ты компаундом 9. Под действием а - частиц от источника 3 в газе происходят процессы 4 ионизации и возбуждения, в основном, ато- ,О мов тяжелого инертного газа, электронная доля которого близка к...

Номер патента: 639356

Опубликовано: 27.06.1995

Авторы: Кистенев, Макаров, Плохоцкий, Прагер

МПК: H01J 65/06

Метки: газоразрядного, прибора

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ГАЗОРАЗРЯДНОГО ПРИБОРА, включающий монтаж, вакуумирование, наполнение рабочей газовой смесью и введение радиоактивной присадки в объем прибора, отличающийся тем, что, с целью упрощения технологии и увеличения процента выхода, радиоактивная присадка вводится в объем в газообразном состоянии в качестве одной из компонент рабочей газовой смеси, предварительно смешанной с другими компонентами по удельной радиоактивности.

Номер патента: 1561750

Опубликовано: 20.11.1999

Авторы: Константинов, Михальченко, Мозолев

МПК: H01J 65/06

Метки: излучатель, радиолюминесцентный

Радиолюминесцентный излучатель, содержащий, герметичный корпус с выходным окном с расположенным внутри него источником ионизирующего излучения и люминофором, состоящим из ксенона и паров ртути, отличающийся тем, что, с целью расширения области применения и снижения радиационной опасности путем увеличения общей интенсивности ртутных линий и относительной интенсивности резонансной линии с длиной волны 254 нм, в качестве источника ионизирующего излучения использования криптон с 4%-ной концентрацией радионуклида Kr85 при следующих парциальных давлениях компонентов, Па: пары ртути 0,16 - 0,24; криптон с примесью радионуклида Kr85 (5 - 20)