Гаер
Состав для очистки теплообменной поверхности водооборотных систем
Номер патента: 1747851
Опубликовано: 15.07.1992
Авторы: Верещагин, Воеводина, Гаер, Гареев, Козлова, Кутиков, Литвинцева, Филиппова, Черкашина
МПК: B08B 3/08, C02F 5/00, F28G 9/00 ...
Метки: водооборотных, поверхности, систем, состав, теплообменной
...водным раствором 15сульфаминовой кислоты концентрацией 7,0мас, , в присутствии 0,5 мас.% 2-меркаптобензотиазола,Основными недостатками приведенного состава являются шламообразование на 20железо-оксидных отложениях, низкая растворяющая способность сульфаминовойкислоты по отношению к минеральным отложениям и ее высокая коррозионная активность по отношению к меди и медным 25сплавам 3-3,5 г/м ч,Цель изобретения - улучшение качествасостава за счет повышения его растворяющей способности,Указанная цель достигается тем, что состав для очистки теплообменой поверхности водооборотных систем, включающийводный раствор нэ основе сульфаминовойкислоты, 2-меркэптобензотиазола и ОП,согласно изобретению он в качестве кислоты содержит М-метилсульфаминовую...
Способ получения раствора для амидирования карбоновых кислот
Номер патента: 1599363
Опубликовано: 15.10.1990
Авторы: Бабиков, Верещагин, Гаер, Гареев, Голубков, Козлова, Латышев, Маранджева, Сакович, Терещенко, Черкашина
МПК: C07C 307/02
Метки: амидирования, карбоновых, кислот, раствора
...к пересульфированию МСК,Уменьшение времени пребывания реакционной массы по реакторам 1 и 2 менее 0,5 ч приводит к изменению конечного состава раствора вследствие незавершенности реакции сульфирования ДММ до МСК, а увеличение времени пребывания более 2,0 ч эффекта не дает и экономически нецелесообразно. 20Снижение содержания серного ангидрида в реакторе 3 менее 15% сопровождается уменьшениемвыхода МСК вследствие недостачи сульфирующего агента для завершения реакции сульфирования ДММ.В табл. 1 приведены данные, показывающие эффективность данной технологической схемы, зависимость количественного и качественного состава ин.гредиентов получаемого раствора от режимов работы лабораторной установки,П р и м е р. В реактор 1 при 140 С дозируют...