Диманчев
Способ изготовления матричного накопителя
Номер патента: 1679551
Опубликовано: 23.09.1991
Авторы: Диманчев, Новиков
МПК: G11C 11/40
Метки: матричного, накопителя
...подложку наносят термическим напылением контактную полосу металлической (например, хромовой) пленки толщиной 10 мкм (фиг,1, а и б). Затем наносят тонкий слой шликера ОСП состава СцО-Те 02-Ч 205 толщиной 40110 мкм (фиг 1, в). После высыхания слоя шликера подложку устанавливают на рабочий столик лазерной установки типа "Квант" и производят обработку композиции единичными импульсами сфокусированного лазерного излучения с длиной волны 1,0 мкм с мощностью 4 Вт, достаточной для проплава "шликера на всю глубину беэ выброса массы (фиг,1, г). Столик перемещается с шагом нанесения контактных полос, Облучаются участки слоя шликера, находящиеся над электронным материалом. Затем пластину помещают в напылительную установку и производят...