C25B 11/20 — C25B 11/20

Номер патента: 1763524

Опубликовано: 23.09.1992

Авторы: Безуевская, Гольдштейн, Кондратьев, Огрызько-Жуковская

МПК: C25B 11/20

Метки: группы, электрокаталитической

...30-40 мин, и закрепляют в устройстве для металлизации, Устройство представляет собой палый цилиндр из плексигласса с навинчивающейся цилиндрической крышкой из того же материала с отверстием посредине, Пленку помещают между двух резиновых прокладок и крышкой прижимают к торцевой части цилиндра, Цилиндр опускают в емкость с раствором восстановителя и закрепляют в держателе вертикальна. Во внутрейнюю часть цилиндра заливают иридийсодержащий раствор. Через заданное время пленку извлекают из устройства, кипятят в концентрированной соляной кислоте 10-15 минкипятят в дистиллированной ваде 20-30 мин и в дальнейшем хранят под Слое,"4 дистиллированной воды.Для оценки электрокатапитических свойств полученных ЭКГ на электрод из спеченного...

Номер патента: 1831517

Опубликовано: 30.07.1993

Авторы: Ханс, Хартмут

МПК: C25B 11/20

Метки: блока, мембранно-электродного

...этого сзндвичную композицию восстановительно спекают. Восстановительное спекание осуществляют предпочтительно в атмосфере инертного газа, содержащего Н 2 или СО. Так, атмосфера реакции спекания может состоять из И 2 с 1-20 об,Н 2 или СО. Температура реакции спекания слоя кермета лежит часто ниже температуры плавления металлов, которые получаются из восстанавливающихся оксидов металлов, поэтому предпочтительно восстановление после керамического спекания слоя кермета проводить при более низких температурах, например при 850-950 С.Типичная толщина слоя кермета материала, полученного в соответствии с изобретением, составляет 0,2-5,0, предпочтительно 0,3-2,0 мм и толщина слоя/ев/ электродов составляет 0,1-5,0 предпочтительно 0,2-2,0...