B01J 12/02 — для получения, по меньшей мере одного продукта реакции, который при обычной температуре находится в твердом состоянии
416079
Номер патента: 416079
Опубликовано: 25.02.1974
МПК: B01J 12/02
Метки: 416079
...изогнутыми лопат 25 ками 8 (см. фиг. 2). Для регулировки высотькамеры смесителя газовых компонентов 1,служат сменные прокладки 9, имеющие разнуютолщину. Для предотвращения преждевременного разложения реагентов в отверстии 10зо штуцера 11 подачи пара реагента в крышке 6выполнено углубление, в котором и установлен штуцер 11, в,результате чего происходит его воздушное охлаждение. Теплообменник 5 снабжен штуцерами 12 и 13 для подачи в него теплоносителя.Устройство для закалки пол,ченных частиц выполнено в виде полойкамеры,14 спатрубком 15 для подвода инертного газа, снабженной охлахкдаемой рубашкой 16. Внутри камеры 14 соосно с реакционной камерой 2 установлена проточная закалочная камера 17, подвижно закрепленная в торце корпуса охлаждаемой...
Устройство для получения жидкостной пленки
Номер патента: 272952
Опубликовано: 30.12.1980
МПК: B01J 12/02
Метки: жидкостной, пленки
...подводящей 2 О трубы 1, расширенной в верхней части, крышки 2, отбойной пластины 3 и штока 4, В расширенной части трубы имеется штуцер 5 для ввода жидкости. Отбойная пластина крепится на штоке 4 с 25 помощью гаек 6, а крышка 2 к трубе 1 с помощью винтов 7 и прокладки 8. В крышке имеется воздушник 9 для выпуска воздуха в начале работы. Шток 4 соединен с крышкой 2 при помощи резь2бового соединения 10 и сальникового устройства 11Стрелка 12, шкала 13 и маховик 14 служат для точной регулировки и определения зазора между трубой 1 и отбойной пластиной 3.Устройство работает следующимобразом,Жидкость поступает через штуцер 5 в расширенную часть трубы 1 и истекает в рабочее пространство аппарата через кольцевой зазор между трубой 1 и отбойной...
Устройство для получения фосфорной кислоты
Номер патента: 967261
Опубликовано: 15.10.1982
МПК: B01J 12/02
...увеличенное изображение верхней области на Фиг,1,Свободнонесущая, установленная нафундамент 1 башня 2 для сжигания, которая может свободно расширятьсякверху, состоит иэ конусообразногокорпуса и плоского дна. Башня 2 длясжигания имеет в своей нижней области трубу,3 для отходящего газа, расположенную под тупым углом к корпусу, и направлена косо вверх. В своейсредней области башня 2 для сжиганияимеет несколько направленных внизфорсунок 4.Башня 2 для сжигания вблизи отее верхнего конца охвачена концентрически расположенной чашей 5 для кислоты, которая состоит иэ кольцевогодонного листа 6 и цилиндрической оболочки 7. Закрепленное точно горизонтально на верхнем конце башни 2 длясжигания трубное кольцо 8 образуетпереливной затвор чаши 5 для...
Устройство для разбрызгивания расплавов
Номер патента: 1212552
Опубликовано: 23.02.1986
Авторы: Меленин, Мельников, Селезенев, Токарь, Шульман
МПК: B01J 12/02
Метки: разбрызгивания, расплавов
...4. В воронке 4 расплав меняет направление своего дви-.женияпереходит на перемещениевдоль боковой стенки 5 воронки 4,теряя значительную часть силы динамического удара жидкости, поступаю щей в воронку. Разбрызгиваемыйрасплав плавно перетекает черезверхнюю кромку воронки 4 и поступает 2552 2в пространство над перфорированнымдном 2 устройства. При этом частьрасплава поступает в пространствонад перфорированным дном 2 через5 отверстия 6 в боковой стенке 5 во-ронки,Через отверстия в дне 2 расплав,вытекает струями, которые затемраспадаются йа капли, Таким обраО зом исключается.возмущающеедействиепотока расплава на распад струй. Прирезком возрастании нагрузки увеличивается расход расплава через кольцевое сечение между патрубком 3 и15 верхней...