Патенты с меткой «скорректированной»

Номер патента: 516316

Опубликовано: 25.11.1976

Авторы: Петров, Явор

МПК: H01J 29/56

Метки: аберрацией, скорректированной, сферической, электроннооптическое

...-,с любой другой точкой делителя.На чертеже изображена схема предлагас.20 мого устройства.Оно состоит из электронно-оптической системы линз 1 с положительным знаком сферической аберрации, корректора 2 с отрицательной сферической аберрацией и схемы пи тания, включающей делитель, подключенныйк источнику 3.Работа устройства заключается в следующем.Пучок заЗо (для опред аряженных частиц из источник еленности - электронов) фокусиФормула изобретенияЭлектронно-оптическое устройство со скор. Е. В, Шпак, С. Я. Явор, ЖТФ 39, 1723, ректированной сферической аберрацией, со- З 5 1969 (прототип). руется электростатическими или магнитными полями системы линз 1 с положительной сферической аберрацией, которые отклоняют электроны пучка тем сильнее,...

Номер патента: 670991

Опубликовано: 30.06.1979

Автор: Петров

МПК: H01J 29/56

Метки: аберрацией, скорректированной, сферической, электроннооптическое

...источника, знаккоторого противоположен знаку заряженных частиц. Ось 2 совпадает с оптическойосью,Устройство работает следующим образом.Электростатическое поле в системе представляет собой суперпозицию осесимметричного, квадрупольного и октупольного полей,Для формирования линейного изображенияв данном направлении средний электродлинзы следует расположить так, чтобы направление, в котором вытянуто его отверстие, было перпендикулярно выбранномунаправлению фокусировки.Наличие октупольной составляющей делает возможным так же, как и в прототипе,670991 Составитель ВГаврюшин дактор Т. Горячева Техред Н. Строганова Корректор Л. Брахнииааказ 1146/13 Изд.409 Тираж 922 Подп испоНПО Поиск Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий...

Номер патента: 674117

Опубликовано: 15.07.1979

Авторы: Петров, Явор

МПК: H01J 29/56

Метки: аберрацией, скорректированной, сферической, электроннооптическое

...крес йзультате последовательного взаимодейтообраэной формы. ствия пучка электронов с полями системыПопевыполненного таким образом 1 линз и корректора 2 сферическая абер-"корректора представляет собой суперпо- рация предлагаемого устройства в указанзицйю "жЬ имметричного и октупольного ных направлениях уменьшается и можетполей. Сферическая аберрация корректора быть одновременно обрацена в ноль, есимеет отрицательный знак в двух взаимно пи ее величина после прохождения пучкомпфйейдикупярных" направлениях, совпадаЮ- электронов системы 1 была в этих на(- ших с соответствующими плоскостями сим- " равпенияходинаковв. В общем случае, приметрии. Величина этой аберрации изменя- необходимости одновременной коррекции20=ется"с изменением величины...

Номер патента: 920892

Опубликовано: 15.04.1982

Авторы: Афанасьев, Иванова, Садыкин

МПК: H01J 29/56

Метки: аберрацией, скорректированной, сферической, электроннооптическое

...2 - 9. Электроды каждой пары групп (2 - 3, 4 - 5, 6 - 7, 8 - 9) расположены симметрично относительно плоскостей ХО 7 и УОХ, Электроды соединены гальванически с источником фокусирующего напряжения и источниками отклоняющего напряжения.Устройство работает следующим образом.На симметричные электроды каждой пары групп подаются одинаковые фокусирующие потенциалы от источника фокусирующего напряжения. Отклоняющие напряжения от йсточников отклоняющего напряжения подаются на электроды пары групп 4 - 5, и 6 - 7, причем от одного источника отклоняющее напряжение подается на крайние электроды пары секций 4 - 5 антисимметрично относительно плоскости ХОУ, а от другого - на середине электроды пары групп 6 - 7 антисимметрично относительно...

Номер патента: 983819

Опубликовано: 23.12.1982

Авторы: Афанасьев, Фишкова

МПК: H01J 29/74

Метки: аберрацией, отклонения, скорректированной, электростатическая

...система отклонения содержит основные пластины 1 и 2,35дополнительные пластины 3-6, Пластины 3.-6 соединены гальваническн с источником напряжений.Электроды могут быть выполнены изпроводящих пленок, нанесенных на не 40 .проводящие пластины, При этом электроды отклоняющей системы расположены натех же поверхностях, что и основныепластиныЭто дополнительноупрощаетконструкцию и юстировку. Действитель 45но, отклоняющая система может быть выполнена, например, в виде двух непроводящих пластин, на которые нанесены основные и дополнительные пластины печатным или фотолитографическим спосо 50бом, С обеих сторон каждой Основнойпластины расположено по крайней мерепо одной дополнительной пластине. Приэтом форма пластин в направлении продольной оси...

Номер патента: 1008816

Опубликовано: 30.03.1983

Авторы: Афанасьев, Шпак

МПК: H01J 29/56

Метки: аберрацией, магнитное, скорректированной, сферической, электроннооптическое

...между собой и оптической оси 2. устройства, совпадающей с осью пучка, на которые нанесены магниты н виде плоских электромагнитных катушек, сгруппированныев группы 2-9. Катушки каждой парыгрупп (2-3, 4-5, 6-7, 8-9) расположены симметрично относительноплоскостей ХОЕ, ХОЬ . Катушки сое-динены гальванически с источникамипостоянного тока.Устройство работает следующимобразом,Через симметричные катушки каждойпары групп (2-3, 4-5, 6-7, 8-9) пропускается один и тот же по величинеток. Поэтому магнитные поля от соответствующих катушек в симметричных точках равны между собой, Приэтом направление тока в каждой изкатушек таково, что направления силовых линий в симметричных точкахпротивоположны друг другу.Таким образом, создается магнитное...