Патенты с меткой «окисным»
Способ оценки склонности металла шва к окисным непроварам и включениям
Номер патента: 548401
Опубликовано: 28.02.1977
Авторы: Желобцов, Каран, Кузнецов, Попов
МПК: B23K 28/00
Метки: включениям, металла, непроварам, окисным, оценки, склонности, шва
...Высота оставшейся окисной пленки характеризуется величиной О.После сварки образцов с окпсной пленкой на нижней части поверхности одной или обеих кромок соединяемых образцов делают серию поперечных шлифов и определяют высоту Нз окисного непровара, включения в металле шва. 30 После определения показателя Я; для кажого сечения вычисляют среднее значение поазателя по уравнению У, ЯуЯср -где и - число сечений.За показатель склонности матери зованию окнсных непроваров, вклю нимают это среднее значение с отк от него на +- , т. е. Я р,ЯсрМсрПрн значительном увеличении ч речных сечений может быть опред щадь окнсных нспроваров, включе за показатель склонности точнее п ношениегде 1 шв - длина шва, мм. 2 г.1 фи иг. 1 Составитель В. КравченкоРедактор...
Способ получения абразивного зерна с окисным покрытием
Номер патента: 627106
Опубликовано: 05.10.1978
Авторы: Гаршин, Курнукин, Лагунов
МПК: C04B 41/06
Метки: абразивного, зерна, окисным, покрытием
...на 20-30 С превышает температуру испарения хпорида металла.В предложенном способе, за счет .замещения водорода гидроксипированной 4 О парами воды поверхности абразивного зерна хиоридом метаппа, а хпора - гидроксипьными группами воды, образуется химически связанный с абразивным зерномэлементоксидный слой. 45 Испопьэование киспородсодержащих газов предусматривает удаление избыточных копичеств хпорида метапла дпяобеспечения чистоты мономолекупярного О споя. Способ исключает конденсацию избыточного хлорида, так как температу- рв абразивного зерна поддерживаетсяона 20-30 С выше температуры испарения хнорида. Избыточный хлорид металла я 5 упавпиввется в конденсирующих устройствах и может испопьзоваться вновь. В зависимости от состава...
Способ плазменного травления арсенида галлия с собственным окисным слоем
Номер патента: 1807533
Опубликовано: 07.04.1993
МПК: H01L 21/306
Метки: арсенида, галлия, окисным, плазменного, слоем, собственным, травления
...бездефектную обработку поверхности баде, В реалзных случаях знертии ионов е условиях деФицита ) а химического реагента при низких давлениях недостаточно для травления, так как поверхность покрыта слоем собственного окисла, Для его удаления необходимо или увеличивать энергию ионов для физического распыления окисла, или вводить в рабочий газ восстановитель.Состав газа для травления бэАз и егоокисла различается. Скорость травлениябаАз коррелирует с содержанием в плазмеатомарного хлора, тода кэк удаление собственного окисла зависит от содержания вос 5становителя, например, в виде углерода,Восстановление окисного слоя углеродомуменьшает порог энергетичного травлениябаАз, однако скорость травления может снизиться при неправильном...