Патенты с меткой «медно-хромовых»

Номер патента: 499138

Опубликовано: 15.01.1976

Авторы: Беляева, Самошенкова, Солохина

МПК: B41H 3/00

Метки: медно-хромовых, офсетных, состав, форм

...операций: обработка хрома (гидрофилизация), промывка формы водои, обработка меди (гидрофобизация), промывка формы водой, повторная обработка хрома, промывка водой, нанесение защитного коллоида,Существующая технология обгопроцессна, рассчитана па прим ру го труда.С целью обеспечения одновременной гид рофилизации и гидрофобизации печатнойформы в предлагаемый состав введен трехзамещенный лимоннокислый натрий в количестве 100 - 150 г/л.При обработке этим раствором гидрофиль ный коллоид в присутствии лимоннокислогонатрия избирательно адсорбируется только на поверхности хрома, в то время как ксантогенат калия избирательно реагирует с медью и не взаимодействует с хромом.15 Приблизительное содержание составляющих раствора в...

Номер патента: 549360

Опубликовано: 05.03.1977

Авторы: Добрицына, Самошенкова, Солохина

МПК: B41N 3/00

Метки: медно-хромовых, офсетных, печатных, состав, форм

...электролита - трехзамещенного лимоннокислого натрия 13. Такой состав позволяет производить одновременную обработку формы за один цикл за счет совмещения операций гидрофобизации печатных и гидрофилизации пробельных элементов формы. Однако раствор с камедью сибирской лиственницы не может долго храниться. Цель изобретения - повышение стабильости свойств раствора при сохранении его сновной функции - обеспечение одновремен З ной обработки печатных и пробелментов формы.Это достигается тем, что вф иль ного коллоида испол ьзсоль карбоксиметилцеллюлоззующим электролитом являютного металла и органическоймер, калий щавелевокислый и,вьинокислый.Пример нщих соотношена549360 Соль щелочных металлов и органическихкислотВода 10 - 15...

Номер патента: 634225

Опубликовано: 25.11.1978

Авторы: Белоусов, Зотов, Козлов, Сидоров, Шевяков

МПК: G03F 7/10

Метки: медно-хромовых, фотошаблонов

...в процессе импланта. ции происходит вбивание атомов хрома из хромового слоя в стеклянную подложку, При этом существенно улучшается адгезия хромового слоя к стеклянной подложке, что приводит к повышению износостойкости фотошаблона и снижению плотности проколов в маскиРующем покрытии, ЮИмплантированный слой меди располагается лишь в областях, соответствующих топологии . Фотошаблона, поэтому окончательный топологический рисунок будет в точности повторять размеры и форму исходного рисунка из фоторезиста. Неровность и размытость краев рисунка также будет обусловлена только погрешностями ФотолитограФии, так как при травлении хромового слоя исключено подтравливание упомя- ЗО нутого слоя, лежащего под слоем фоторезиста, из-за наличия в...