Патенты с меткой «ионно-плазменной»

Номер патента: 1405361

Опубликовано: 30.08.1992

Авторы: Глушко, Кричков, Помазенко, Пушных, Савостиков, Сергеев

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, ионно-плазменной, подложек

...счет сил трения части нижней торцовой поверхности с рифленойповерхностью выступа приходят но вра -щательное движение вокруг собствен 140536115 20 25 30 35 40 50 ной оси и проходят через зону обработки ионным пучком как от верхнего,так и от бокового источника ионов.Таким обра зом, обработке поднергаются верхняя торцовая и боковая поверхности подложек 7. При необходимостина вращающиеся подложки 7 можно подать регулируемый (от 200 до 70000 В)эдектрический потенциал и, не снимаяего, переместить подложки 7 иэ однойпозиции обработки в другую.Во второй позиции 4 обработка осуществляется аналогичным образом (сосменой вида рабочего вещества - ионовв зависимости от требований техпроцесса).В позиции 3 обработки можно осуществить процесс...

Номер патента: 1723956

Опубликовано: 20.10.1995

Авторы: Гурин, Семенюк, Трипута, Хоббихожин, Хоменко

МПК: C23C 14/02, H01L 21/302

Метки: ионно-плазменной

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИОННО-ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ, содержащее вакуумную камеру, в которой размещены разрядные электроды, подключенные к двум независимым источникам ВЧ-напряжения и разделенные промежуточным заземленным электродом с отверстием, при этом обрабатываемое изделие размещено на одном из разрядных электродов против отверстия промежуточного электрода, отличающееся тем, что, с целью повышения скорости ионно-плазменной обработки и уменьшения степени загрязнения обрабатываемого изделия, оно снабжено дополнительным электродом, размещенным на противоположном торце камеры, камера выполнена в виде параллелепипеда, охватывающего разрядный, промежуточный и дополнительный электрод, формы которых повторяет сечение камеры, и присоединенного к нему...