Патенты с меткой «антиотражающим»

Номер патента: 1779208

Опубликовано: 10.08.1998

Авторы: Безмен, Заддэ, Старшинов

МПК: H01L 31/18

Метки: антиотражающим, покрытием, фотопреобразователей

Способ изготовления фотопреобразователей с антиотражающим покрытием, включающий формирование неоднородно залегающего p-n-перехода в полупроводниковой пластине методом двойной диффузии с проведением на одном этапе локальной диффузии в подконтактные области через маску, а на другом - диффузии по всей поверхности пластины, отличающийся тем, что, с целью упрощения технологии изготовления, после проведения на первом этапе диффузии по всей поверхности полупроводниковой пластины создают маску для локальной диффузии в подконтактные области на втором этапе нанесением пленки из пятиокиси ниобия или тантала толщиной 0,04 - 0,24 мкм, а локальную диффузию осуществляют при температуре не выше 1100oС, при этом нанесенную пленку из пятиокиси...