Патенты с меткой «268843»

Номер патента: 268843

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Гусев, Китаев, Куйбышевский, Лекарев, Никифоров, Цидулко

МПК: C23C 4/12

Метки: 268843

...напыления покрытий с созданием кольцевого газового пото ка вокруг плазменной струи.По предлагаемому способу на плазменную струю накладывают спутный эжектирующий поток газа, который взаимодействует с плазменной струей и увеличивает ее ядро, что прн водит к повышению коэффициента использования наносимого материала и качества покрытия.Предлагаемый способ закгпочается в следующем. 15На плазменную струю накладывают кольцевой поток газа, распространяющийся в том жс направлении, что и плазменная струя, имеющий с ней контакт со среза сопла и скорость не менее 0,0 б - 0,1 от скорости плазменной 20 струи.Результатом воздействия такого спутного эжектирующего потока является увеличение размеров ядра плазменной струи, что способствует...