Способ записи информации на фототермопластическом материале

ОПИСАНИЕИЗОБРЕТЕНИЯК АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Союз СоветскихСоциалистическихРеспублик п 11959024 еФфФ,(61) Дополнительное к авт. свид-ву(22) Заявлено 24.10. 80 (21) 3223133/28-12 Р 1) М,Кп,с присоединением заявки. 88 С 03 С 65/00 Государственный комитет СССР по делам изобретений и открытий(71) Заявител Киевский ордена Ленина государтвенним. Т.Г.Шевченко. (54) СПОСОБ ИСИ ИНФОРМАЦИИ МАТЕРИАЛЕль ФТПМ.Наиболее блиЭким к предлагаемому является способ записи информации на ФТПМ, в котором скрытое изображение Формируется в результате Фотосен сибилизированного окисления эргостерина в термопластической полимерной матрице, протекающего при экспонировании ФТПМ видимым светом при комп натной температуре Проявление скрытого изображения осуществляется .нагревом экспонированного ФТПМ до .температуры размягчения полимерной матрицы или в растворителях, например петролейном эфире 21. Чувствительность ФТПМ ограничена квантовым выходом фотосенсибилиэированного окисления эргостерина в термопластической полимерной матрице. Для повышения чувствительности ФТПМ необкодимо увеличить квантовый выход Фотоокисления.Однако изве й способ записи не позволяет полу квантовый выход фотоокисления стерина для оптиального соотн ия компонентов олее 25.Целью и ния является повыение. каче писи на ФТНМ за счет 10 стнычить эрго ошен б ,эобрете ства за Изобретение относится к регистрации информации, а именно к способу записи информации на фототермопластическом материале (ФТПМ),Известен способ записи информации на Фототермопластнческом материале (ФТПМ), в котором скрытое изображение создается в результате фотосенсибилизированного окисления абиетиновой кислоты в термопластической полимерной матрице при экспонировании видимым светом. Проявление скрытого иэображения осуществляется погружением экспонированного ФТПМ в петролейный эфир 1.11.При таком способе записи квантовый выход фотосенсибилизированного окисления не превышает 0,13 для свежеприготовленного ФТМП и падает по мере хранения последнего из-за увеличения содержания продуктов окисления абиетиновой кислоты, что приводит к понижению чувствительности ФТПМ. Кроме того, значительно возрастает время проявления скрытого иэображения (от 1-2 мин для свежеприготовленного ФТПМ до нескольких часов для ФТПМ, экспонированного на 8-10 день его хранения), т.е, при таком способе записи можно ра 5 отать ФОТОТЕРМОПЛАСТИЧЕСКОМ а свежеприготонленпоувеличения квантового выхода фотосенсибилизированного окисления эргостерина в термопластической полимерной матрице.Поставленная цель достигаетсятем, что согласно способу записи 5информации, вкУпочающему экспонирование фототермопластического, материалана основе винилового сополимера, эргостерина и сенсибилизатора видимымсветом и проявление, экспонированиеведут при температуре на 2-10 вышеТемпературы стеклования виниловогоСополимера,При экспонировании ФТПМ видимымсветом, поглощаемым сенсибилиэатором,5ЛРотекает реакция фотосенсибилизирсванного окисления эргостерина.ПРИ этом наблюдаются необратимыеИзменения в области собственного поГлощения эргостерина (Уф областьСпектра),.а именно понижается оптиЧеская плотность Квантовый выходфотоокисления зависит от скоростиизменения оптической плотности в области собственного поглощения эргостерина.25. Способ поясняется чертежом, гдекривой 1 представлено изменение оптической плотности ФТПМ в максимумепоглощения эргостерина при Х =- 271 нм при сенсибилизированномметиленовым голубым окислении эргостерина в термопластической полимерной матрице от температуры, при которой ведется экспонирование. Поптическая плотность необлученного 35образца при = 271 нм. Экспонирование проводится лампой ПРКчерезстеклянный светофильтр ОС. Времяэкспонирования 1 мин, 1 = 10 вт/смТемновое,разложение эргостерина в 40исследуемом интервале температурнезначительно (кривая 2) . Как видноиз кривой 1, фотокисление идет наиболее интенсивно, если экспонирование проводить при ТТ, Для исполь,эуемого в качестве матрицы термопластического полимера (сополимер винилбутилового эфира, бутилметакрилатаи метакриловой кислоты) Тс 57 С.Из-за малой подвижности полимернойматрицы в стеклообраэном состояниидиффузия реагентов затруднена. ПриТТ энергия теплового движениявозрастает настолько, что возникаетвоэможность движения отдельных сегментов молекул полимера. Увеличениеподвижности матрицы приводит к ускорению диффузии реагентов и возрастанию скорости фотоокисления,Предпочтительный интервал температур для экспонирования ФТПМ выше 60Тс на 2-10 С. При дальнейшем повышенйи температуры скорость фотоокисле ЭргостеринМетиленовыйголубойСополимерРастворитель 1,0 0,510,0 Остальное Экспонирование осуществляют монохроматическим светом Л = 630 нм. Пять образцов экспонируют при комнатной температуре, остальные пять при 60 С.На спектрофотометре измеряют изменение оптической плотности при271 нм в результате фотосенсибилизированного метиленовым голубым окисления эргостерина в термопластической полимерной матрице и определяют квантовый выход процесса,В табл. 1 представлено влияние температуры экспонирования на квантО- вый выход сенсибилизированного метиленовым голубым окисления эргостерина в различных термопластических матрицах.Как видно из табл. 1, экспонирование ФТПМ по предлагаемому способу приводит к возрастанию квантового выхода фотосенсибилизированного окисления эргостерина.В табл. 2 приведены значения чувствительности ФТПМ при экспонировании известным и предлагаемыми способами.Использование предлагаемого способа записи информации по сравнению с известным позволяет увеличить чувствительность ФТПМ за счет увеличения более чем вдвое квантового выхода фотосенсибилизированного окисления эргостерина в термопластической полимерной матрице, расширить температурные границы применения ФТПМ путем подбора термопластического полимера с ТС в интересующем интервале температур. ния не меняется, но несколько возрастает темповое разложение зргостерина,П р и м е р, Приготовление образцов ФТПМ осуществляется следующимобразом,В 5,0 толуольный раствор сополимера винилбутилового эфира, бутилметакрилата и метакриловой кислоты1:1,5:5 в молях) вводят рассчитанноеколичество эргостерина и сенсибилизатора (метилеювый голубой) . Полученный раствор наносят на кварцевуюподложку в количестве, определяемомповерхностью подложки и толщинойслоя (5-6 мк), Затем образцы сушатпри комнатной температуре 10 мин ив сушильном шкафу 1 ч при 80 С.Изготовлена партия образца ФТПМ959024 Т а б л и ц а Способ Предлагаемый Известный,Таблица 2 Т, ОС Чувствительность на 3 д 632,8 нм при Ч = 1, Дж/смСополимер винилбутилового эфира, бутилметакрилата и метакриловой кислоты (1:1,5:5 в молях), Т = 57 дС 59 62 67 6.10 2 10 67 2 10 70 2 10 75,20 75 83 Термопластическая матрица Сополимер винилбутилового эфирабутилметакрилата и метакриловойкислоты (1;1,5 г 5 в молях), Тс57 С Сополимер винилиденхлорида, акрилонитрила и метилметакрилата (1:1,5:5 в молях), Т 65 С Сополимер винилбутилового эфира ибутилметакрилата (1;2 в молях),Т=73 С Термопластическая матрица Сополимер винилиденхлорида, акрилонитрила и метилметакрилата(1:1,5:5 в молях), Т = 65 С Сополимер винилбутилового эфира и бутилглетакрилата (1:2 в молях), Тс = 73 С 5 101,5 . 10 1,5 10 1,510 6 10 2 10 2 10 2 1 К959024 Формула изобретения Составитель Л,Мальцеваор Л.Авраменко Техред Т.фанта, Корректор Е,Рошк е 7013/б 3 Тираж 488 ВНИИПИ Государственного коми по делам изобретений и от 113035, Москва, Ж, РаушскаяодписнР ака ета Сытийб.р д ал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная Способ записи информации на фототермопластическом материале, включающий экспонирование фототермопластического материала на основе винило вого сополимера, эргостерина и сенсибилиэатора видимым светом ипроявление,о тл ич ающи йс я тем,что, с целью повышения качества записи,экспонирование ведут при температуре на 2-10 С выше температуры стеклования винилового сополимера,Источники информации,принятые во внимание при экспертизе1. Авторское свидетельство СССР9424499, кл, С 03 С 1/00, 1973.2. Авторское свидетельство СССР9594478, кл. С 03 С 1/00, 1975 (прототип),