Композиция подслоя для полиэтилентерефталатной основы

Союз СоветскккСоцкапмсткческыкРеспублик ОП ИСАЙИ ЕИЗОБРЕТЕНИЯКАВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ 1 и 934441Се ивков,(72) Авторы изобретен н,1) Заявит сковский технологи 54) КОМПОЗИЦИ НТЕРЕфТАЛАТНО ВЛЯ ПОЛИОСНОВЫ ся к раэрабо вухосноориен анной попиэт ПЖФ-осно е указанной композиции является то, чтосушку указанной композиции, нанесенной н- нв полиэтилентерефталатную подложку од- необходимо проводить при высокой температуре (130 оС) в течение дпитепьноа- го времени( 10 мин),что усложняет процесс.Цепь изобретения - повышение адгеэии эмупьсионного слоя материала к ос-. лед- нове и упрощение процесса.ЮПоставленная цель достигается тем,что композиция вдгезионного подслоя, ей. включающая пленкообразующий компонент,активный рвстворитепь и ацетон, в качестве пленкообразующего компонента о- содержит сополимер вкриламида винил 15Ф л- пнрролидона и этилакрилата общей струкс;с-,1 Р осос,ввм с о - 60 мол.ь;11 - 20 моп.%; р - 20 мол.%,де Изобретение относиттк адгезнонного подслоя д тированной и термофиксиров иле терефталатной основы ( вы) послойным подслоем и может быть использовано при производстве кинофотом териалов со светочувствительной жела новой эмульсией.Пленки из попиэтнпентерефталата вс ствие их высокой гидрофобности и крис талличн ости тру цно скрепляются с желатиновой светочувствительной фотоэмульсиИзвестна композиция адгезионного подслоя полиэтилентерефталатной основы кинофотоматеривпов, включающая ппенк образующий компонент-сополимер метиметакрипвтв и маленнового ангидрида(70130), ацетон и активный раствори-.тепь - хлор-метакрезол 13.Недостатком указанной композиции является то, что она не обеспечивает удовлетворительной адгезии эмупьсионногослоя кинофотомвтериала к попиэтилентерефтвлатной подложке, другим недостатком турной формулы сн,- сн - 1 - 1-ж;сносны, - м ызс со 1 1934441 3моп, вес, 200000-250000, в качествеактивного растворителя феноп, и дополнительно содержит метипенхлорид приследующем соотношении компонентов,вес.%; 5Сополимер структурнойформулы0,3-1,0фенол 5,0-1 5,0Ацетон 10,0-25,0Метиленхлорид Остальное 1 ОУкаэанный подслой наносят в количестве 10-100 мг/м и сушат при 7080 оС в течение 4-5 мин, ПЭТФ-подложка с однослойным подслоем, выполненнымиз предлагаемой композиции имеет ловышенную прочность скрепления с фотоэмуль-сионным слоем в сухом и мокром виде,меньшее время и температуру подслоировайия.Предлагаемая композиция пригоднадля подслоирования ЦЭТФ-основы тошциной от 40 до 200 мкм при изготовлении рентгеновских фототехнических итехнических фотоматериалов; на фотографические характеристики фотоматериалов 2 Звлияния не оказывает.Композиция подслоя обладает химической и физической стабильностью в диапазоне температур (-10)-(+120)С, Смомента нанесения на ПЭТФ-основу втечение 6 мес. хранения при +25 оС нетеряет своих свойств к подложке,Методом косого разрыва" установлено, что адгеэия фотоэмупьсии к основе впроцессе хранения пленки в течение го да не ухудшается как до, так и послехимико-фотографической обработки,Поскольку, прочность держания фотоэмульсионного слоя на подложке, обработанной рекомендуемой композицией подспоя, в мокром виде несколько ниже, чемдля серийного двухслойного подспоя, рекомендуется вести ручную химико-фотографическую обработку,П р и м е р 1, 0,6 вес.% сополимера акрипамида, винилпирролидона и этилакрипата структурной формулы 1 растворяют в 10,0 вес.% фенола при 80 С. Затем полученный вязкий раствор при перемещивании растворяют в 74,4 вес.% метипенхлорида. Для получения дисперсии,0при активном перемешивании в системутонкой струей вводят 15,0 вес.% ацетона.Полученную дисперсию наносят неПЭТФ-основу и сушат при 70 оС 5 мин.Скрепление обработанной подслоем ПЭТФ-основы с желатиновой фотоэмупьсией оценивается общепринятой методикой "косого разрыва, сущность которой состоит в том, что высушенная после полива фотоэмульсии ПЭТФ-основа надреэается под углом 45 к параллельным надорезам эмульсионного слоя и разрывается. Величина "усов" фотоэмульсионного слоя (в мм) оценивается при этом по пятибалльной системе, Наилучшее скрепление фотоэмульсионного слоя с подложкой характеризует отсутствие "усов", которое оценивается 5 баппами.Скрепление ПЭТФ-основы с фотоэм сией с помощью подслоя, приведенного в примере 1, равно 3 баллам.П р и м е р 2. 0,3 вес.% сополимера акриламида, винилпирролидона и этипакрилата структурной формулы Г растворяют в 5 вес.% фенола в условиях,аналогичных примеру 1. Раствор полимера в феноле растворяют в 84,7% метиленхлорида и при перемешивании вводят 10 вес.% ацетона. Полученную дисперсию наносят на ПЭТФ-основу и сушат при 80 оС 4 мин.Скрепление ПЭТф-основы, обработан ной подспоем, с желатиновой фотоэмульсией равно 3 баллам.П р и м.е р 3. 1 вес,% сополимера акриламида, винилпирролидона и этилакрилата структурной формулы 1 растворяют в 15 вес,% фенола. Аналогично примерам 1 и 2 вводят метиленхлорид (59 вес.%) и ацетон (25 вес.%). Дисперсию наносят на ПЭТФ-основу и сушат при 80 оС 5 мин, Скрепление ПЭТФ-основы, обработанной подслоем, с желатиновой фотоэмульсией равно 3.Сравнительные испытания прочности скрепления ПЭГФ-основы с фотоэмульсией цредлегаемым и известным способами и фотосвойств композиций приведены в табл. 1-3,Из приведенных в табл. 1-3 денных следует, что предлагаемая композиция позволяет увеличить прочность скрепления ПЭТФ-основы с желатиновой фото.- эмульсией наряду с улучшением технологических параметров процесса подспоироцания при сохранении фотографических ха рактеристик фотоматериала. Производительность поцслоирования при этом может быть увеличена в 2 раза,934441 Температура сушк 3 7 0 ремин ки п г в л в Светочувстввтвдьвость (0,20 8 5 встВвте 0,85 4 50 4 0,09 0,1 15 О,й 5 О Э Аагезвя но косому рвзрмву (вбялявх) Ф3 3 600/450 700 3 и Светочувствит ность (0,2 Светочувстви те ость ( 5 0,85"Косой разрыв" (по пятибаппьной системе) Онтвческея нвоъвость нуае (Юо) 0,09 оПрочвос 1 ь эмульсвонвого слоя ао хвмвко-фотоерввческой обрвботви идоелв, г (мокров состоявве) 800/50 О/300 650/400 550/300 550/300 450/25934441 7 Проаолжение табл. 3 РТэмульсия фТэмульсия Эмульсия, нанесенная через 6 мес,после аослоированияосновы Эмульсия, нанесенная насвежий поаслой Эмульсия, нанесенная через 6 мес,после аослоировання основы Эмульсия нанесенная насвежий поаслой Показатели Оптическая плотность вуали( Р) О,О 9 0,09 0,15 0,15 Адгезия по "косому разрыву" (вбаллах) Прочность эмупьсионного слоя в мокром состоянии дохимнко-фотографической обработкин после, г 700/400 Составитель Е. Головлева Редактор Е, Папп Техред Е,Харитончик " Корректор О. БилакЗаказ 3933/43 Тираж 488 ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета СССРпо делам изобретений и открытий113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5 филиал ППП "Патент, г, Ужгород, уп. Проектная, 4 ф орму па изобретениядКомпозиция подущфлууфииэтипентерефталатно 9 у основы, кинофотоматериалов, включающая ппенкообразующий компонент, активный растворитель и ацетон, о т - личающаяся тем,что,сцелью повышения адгеаии эмульсионного своя материала к основе н упрощения процесса, в качестве пленкообразующего компонента она содержит сопопимер акриламида, винилшрролидона и зтипакрилата общей структурной Формулы И- З- - -СИГ СЯ- - -СН - СНосжй ф осос 2 нц".он,с с% 700/400 650/300 550/300 где- 60 мол,%;щ - 20 мол,%;р - 20 мол.%,мол,вес, 200000-250000,в качестве30 активного растворителя фенол, и дополнительно содержит метиленхлорид при следующем соотношении компонентов, вес.%:Сополимер общейфоРмУлы0,3-1,0ЗЗ феноп 5,0-1 5,0Ацетон 10,0-25,0Метиленхлорна Остальное"ФИсточники информации,принятые во внимание при экспертизеф 1, Патент ГОР116940,кл. ( 03 С 1/80, опубпик, 1975 (прототин).