Способ изготовления галогенидосеребряных фотоматериалов

оедине п зая осударстеенный номнтетСовета Мннистроа СССРпо делам нэебретеннйн открытей(54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ГАЛОГЕНИДОСЕРЕБРЯНоХ ФОТОМА ТЕРИА ЛОВ Иэобретени ния галогенид для вакуумной е касается способа иэгоговл осеребряных фотоматериалов ультрафиолетовой области няющихся для диагностики турной плазмы, иэучени а и других звезд, спектрал рудновозбудимых элементов спектра, примвысокогемпераспектров солного анализа и г,д енищийектив томава тра,Известен способ изготовления галогдосеребряных фотоматериалов, заключаюся в том, что фотоэмульсию подвергаюпервому созреванию, осаждают твердуюэу эмульсии, проводят второе созреванив присутствии анионныхповерхностно-аных веществ, вводят обычные добавки,ле чего эмульсию наносят на основу,Цель изобретения - изготовление фотериала с высокой чувствительностью ккуумной ультрафиолетовой области спек высокой разрешающей способностью и хорошими физико-механическими свойства ми,Предлагаемый способ изготовления фотоматериала состоит в том, что фотоэмульсиюсодержащую свыше 906 галогенида серебра,дисперсностью 0,3 мк, подвергают первомусозреванию, осаждают твердую фазу эмульсии, проводят второе созревание, в присутствии анионных поверхностно-активных вещести соли золота подвергают второму созреванию, вводят обычные добавки, после чегоэмульсию наносят на основу и полученныйофотоматериал нагревают при 80-100 С.В табл, 1 приведено повышение чувстбдительности к вакуумной ультрафиолетовойобласти спектра мелкозернистых высококонцентрированных фотопленок типа Уф ссодержанием галогенида серебра свышео90%при прогреве их при 80-100 С в течение 1 2. ч,+ ПАВ92 То же 0,25 4 0,04 0,55 4 То же 0,06 0,04 Тип УфЧтредлагаемый способ) Регистрация вакуумного Уф-излучения 200 ОА 92 - ф - 0,32 4 0,03 Ов 9 4 0 ОЗ Тип УфТ, Экспери(без золотой ментсенсибилизвции) Примечание: Размер микрокристаллов у всех типов пленок ЗО мк 1 толщина эмульсионного слоя 15-17 мкИз табл, 1 видно, при термическом про- Э 5 греве чувствительность в вакуумной ультрафиолетовой области возрастает в 2-2,5 рава при практически низкой чувствительности к видимой области спектра. Рост чувствительности достигается путем прогрева плен и при высокой температуре без сопутствующего роста вуали, что обеспечивается частичной заменой желвтины поверхностно- активными веществами, создающими высокую коллоидную стабильность фотослоя, В то же 4 время при прогреве светочувствительных слоев, содержащих только желатину, резко возрастает вауль. (В таблице в качестве примера приведены данные о прогреве пленок типа Р, на которых при тридцатиминутном прогревании слой чернеет),П р и м е р . Первое созревание эмуль сии проводят по аммиачному или безаммиачному методу при концентрации галогенидв серебра в 1-ом созревании, равной 4-4,5%55 при молярном избытке бромистого калия 17-19%. Концентрация желвтины 0,5-1%,Освждение твердой фазы после 1-го созревания проводят на сепараторе или применением -имических осадителей. Перед осаж -дением величину рй эмульсии доводят уксусной кислотой до значения 4,7, Осадокгалогенидов промывают в две стадии и вначале диспергируют с бромистым калием, азатем с желатиной. Желатину вводят в эмуль-сию из расчета получения отношения весажелатины к весу металлического серебра,равного или меньше . 0,1 8. После этого.вводят хлорное золото и роданистый калий,а затем раствор анцонного поверхностноактивного вещества, В случае низкомолекулярных поверхностно-активных веществ отношение веса вещества к весу желатинысоставляет 0,8, а в случае высокомолекулярных - О, 35,Проводят 2-е созревание. После окончвнмя второго созревания вводят 16-ныйраствор стабилизатора; и 3%-ный раствор286690 Таблица фотографические характеристики в области спектравакуумной после прогрева при 100 оС в течение 2 ч при А,без прогрева при 1084 1215 18 1215 1830 584 1084)" 4 я. У Ьтк ек, У боем. ек. )" 2,0 0,45 1,6 0,7 Сильная вуаль (Эо) 3) 3,0 0,60 2,3 0,8 ---- 6,5 0,50 7,0 0,75 3,5 0,8 12 вО 1900 100 193 ЗЭО 112 6 эО 1 и 3 240 Оз 9 22 юО 1 ю 2 80 11 1 1 1 О 6,0 0,65 5,0 0,7 1,3 0,8 2,1 0,8 прогрев практически ие изменил чувствительность слоев ацегага хрома, затем наносят эмульсию тонким слоем на триацетатную основу мегодом купающего валика в гермосгатированоной кювете при 38 С. Скорость полива 3-4 мlмин. Политый эмульсионный слойосушат при 20-25 С без специальной вентиляции. Высушенную пленку перфорируюг на 40 обычном перфораторе. Пленку 35 мм ширины тщательйо визитируюг и сматывают в десяг:метровые рулоны. 45Готовые рулоны осторожно разматывают и укладывают в специальные металлические коробки с воздушными зазорами между витками и помещают в воздушно-сухой гермосгаг с гемцературой 100-110 С на50 1,5-2 ч. Продолжительность прогрева определяется исходной чувствительностью непрэгретого фотослоя. Коробки с прогретой пленкой переносят в затемненное помещение и охлаждают до комнатной температуры в55 течение часа, затем вынимают пленку иэ коробки, сматывают в рулон, упаковывают в два слоя неактиничной бумаги и запаивают в полиэтиленовый мешок. Пленка"охранится при 5-8 С. Гарантийный срок хранения 1 год.Наибольшее применение при фотографировании вакуумного Уф-излучения находят пленки французской фирмы "Кодак ЗСи ЗС 7. Сравнительные характеристики фотографических свойств пленки УФТ и пленок ЗСи 6 Сприведены в 1 абл. 2.Чувствительность пленки УФТ в вакуумной Уф-обласги принята за единицу. Чувствительность пленок Си ЬСпересчигана относительно пленки УфТ, Эксдонированные образцы проявлялись в проявителеойпри - =20 С. Время обработки пленки УФТмин, пленок 3 Си ЗСю 7-4 мин.Заказ 4988/2 7 Тираж 574 ПодписноеШ 1 ИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССРпо делам изобретений ии открытии113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5 Филиал ПГ 1 П "Патент г. Ужгород, ул. Проектная, 4/5 Как следует из табл. 2, чувствительность пленок 8 Си ЬСк вакуумной области в 6-10 раз выше, чем у пленки УФТ. Однако фотоматериалы фирмы "Кодак - Ра 1- Ье" имеют следующие недостатки: очень высокая чувствительность в видимой области спектра ( у 8 Си .5 С в 150 раз выше, чем в УФТ) которая не позволяет избавиться от рассеянного света при съемке. горячих" объектов; разрешающая способность пленок ЗСи ЗСв 3,5 раза ниже разрешающей способности УФТ. 40 Пленки Си зСзначительно уступают по своим физико-механическим свойствам Оленке У ФТ; из-за высокой чувствительности и фракционным воздействиям и малой длинЫ эти пленки нельзя перематывать. Пленка УФ-Т успешно используется в аппаратуре, предусматриваюшей перемотку пленки. Формула изобретения Способ изготовления галогенидосеребряных фотоматериалов последовательным проведением стадий первого :озревания фотоэмульсии, осаждения твердой фазы, второго созревания в присутствии анионных поверхностно-активных вешеств, введения обычных добавок и нанесения эмульсии на основу, о т л и ч а ю ш и й с я тем, что, с целью повышения чувствительности фотоматериала к вакуумной ультрафиолетовой области спектра, получения фотоматериала с высокой разрешающей способностью, хорошими физико-механическими свойствами и перематываюшегося при экспонировании,применяют фотоэмульсию, содержашую свыше 90% галогенида серебра и дисперс костью 0,3 мк, сенсибилизированную солями золота, а полученный фотоматериал наогревают при 80-100 С.