Устройство для юстировки электронно-оптической системы

69 00 СОЮЗ СОВЕТСКИХ00 ЦЮЛамкнииРЕСПУБЛИК ЗСЯ) Н 013 29 54 ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ,К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССРГЮ ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ(56) 1. Миллер В.А., Куракин Л.А.Приемные электроннолучевые трубки,М.-Л., фЭнергия, 1964, с201-202,2. Авторское свидетельство ССОРпо заявке У 2862724/18-21,кл. Н 01 Ю 29/54, 04.01.80(54)(57) УСТРОЙСТВО ДЛЯ О.ТИРОВКИЭЛЕКТРОННО-ОПТИЧЕСКОЙ СИСТЕМЫ,содержащее две юстирукщие диафрагмы с отверстиями, которые смещены относительно оси электронно-оптическойсистемы и ориентированы под прямьюуглом, о т л и ч а ю щ е е с я тем,что, с целью повышения чувствительности юстировки и ее упрсщения присохранении разрешающей способности,между юстирукщими диафрагмами введены две дополнительные диафрагмы, отверстия в которых одинаковы по форме с отверстиями юстирующих диафрагми смещены по отношению к соседнейюстирукщей диафрагме в противололожные стороны, при этом дополнительныедиафрагмы электрически соединенымеяду собой,Изобретение относится к электронной технике, в частности к электронно-оптическим системам (ЭОС) электроннолучевых трубок с электростатической фокусировкой и усилением отклонения, которые подлежат юстировке, 5Известные электростатЪМеские отклоняющие системы, которые можноприменять как устройства юстировки,образованы пластинами, вытянутымивдоль оси системы Г 1 110Однако такие системы сложны в изготовлении и сборке, а также значительно увеличивают длину ЭОС.Наиболее близким техническим решением к предложенному является 15устройство для юстировки ЭОС, Содержащее две юстирующие диафрагмы с отверстиями, которые смещены относительно оси ЭОС и ориентированы подпрямьва углом 2 3. Каждая из диаФрагмимеет самостоятельный вывод, и регулировкой их потенциалов обеспечивается юстировка в двух перпендикуляр"ных плоскостях,Недостатком этОГО устрОйства ЯВЛЯ- р 5ется то, что оно имеет малую чувствительность, дефокусирует луч и вноситтакие искажения, как поворот пятна,причем с увеличением поданного напряжения юстировки дефокусировка и искажения нарастают.30В известном устройстве отклонениев каждом направлении осуществляетсянесимметричньм полем одной юстирующей диафрагмы, на которую поданоположительное или отрицательное на- З 5пряжение, при этом отверстие диафрагмы, сквозь которое проходит электронный луч, воздействует на этотлуч подобно круглому отверстию вобычной Осесимметричной линзе-диафрагме, т,е. в данном случае производит дефокусировку луча. Инымн словами, имеет место электронная линза,обладакщая определенной оптическойхсилОЙр кОторая эависит От величины45приложенного юстирунзцего напряжения,в связи с чем и возникает дефокусировка электронного луча. С другойстороны, две рядом расположенныедиафрагмы с взаимно перпендикулярньгми отверстиями поворачивают луч относительно первоначального положенияблагодаря взаимному проникновению полей, что также нарущает фокусировку.Величина поворота определяется разностью потенциалов соседних диафрагм.Таким образом, в процессе юстировки ЭОС необходимо постоянно корректировать фокусировку луча, что вызывает дополнительные трудности, таккак ЭОС, в которых используются рассматриваемые устройства, состоят иэтрех, четырех и более несимметричныхлинз, и в некоторых случаях вообщене удается получить хорошо сфокусированный луч. 65 ФЦелью изобретения является повыцение чувствительности юстировки и ееупрощение при сохранении разрешающей способности,Цель достигается тем, что в устройстве для юстировки ЭОС, содержащем две юстирукщие диафрагмы с отверстиями, которые смещены относительно оси ЭОС и ориентированы подпрямьм углом, между юстирукщими ди"афрагмами введены две дополнительныедиафрагмы, отверстия в которых одинаковы по форме с отверстиями юстирукщих диафрагм и смещены по отношению к соседней юстирукщей диафрагме в противоположные стороны, приэтом дополнительные диафрагмы электрически соединены между собой.На чертеже показано предлагаемоеустройство для юстировки.устройство юстировки содержит двеюстирукщие диафрагмы 1 и 2, отверстия которых имеют вытянутую форму исмещены относительно электронно-оптической оси 3. Между юстирукщимидиафрагмами 1 и 2 введены дополнительные диафрагмы 4 и 5, которые установлены так, что каждая из них, например дополнитель.ная диафрагма 5,вместе с соседней юстирукщей диафрагмой 1 образует пару, причем Отверстия диафрагм каждой пары одинаковы по форме и смещены в противоположные стороны от электронно-оптической оси 3, образуя в центрещель. На юстирукщие диафрагмы пода-.ны напряжения юстировки О и Ог, ана дополнительные диафрагмы поданоодинаковое напряжение 0. В частноислучае напряжение .О может быть равно нулю,Устройство для юстировки работает следукщим Образом.Электронный луч проходит поочередно сквозь каждую пару диафрагм, например диафрагмы 2, 5, и отклоняется в направлении, перпендикулярном направлению щели, благодаря поданно му напряжению юстировкина диафрагму 1 и образованию поперечной составлякщей поля в пространстве между юстирукщей 1 и дополнительной 5 диафрагмами (на последнюю подано напряжение О ). В другой плоскости луч отклоняется парой диафрагм 2 и 4, Таким образом, меняя величину и полярность напряжений О и О отг носительно О , осуществляют отклонение луча юстирукщим устройством в любом требуемом направлении.Введение дополнительных диафрагм позволяет увеличить напряженность поля в пространстве между соседними диафрагмами пары, при этом электростатическое поле внутри отверстий диафрагм 1 и 5 распределяется неравномерно, С увеличениам расстояЗаказ 10636/7 Тираж 703 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035 Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5Филиал ППП фПатент, г.ужгород, ул.Проектная, 4 ния от оси ЭОС напряженность поля вплоскости дополнительной диафрагмы 5 убывает, а затем меняет знак,что приводит к компенсации дефокусировки, вызванной отклонякщим полемюстирукщей диафрагмы 1. Оптическаясила дефокусировки у данной конструкции устройства значительно меньше, чем у известной, а чувствительность благодаря созданию поперечнойсоставлякщей поля виае в 2,5 раза. Кроме того, внутренние дополнительные диафрагмы 4 и 5, на которые подано одинаковое напряжение, экранируют взаимное проникновение полей внешних юстирукщих диафрагм 1 и 2, 5 и,поворот луча и его искажения ненаблюдаются. В результате отсутствия дефокусировки и искажений исключается коррекция в процессе настройки ЭОС, а юстировка в целом 1 О упрсщается.