Вакуумная установка

ОП ИСАНИЕИЗОБРЕТЕНИЯК АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Союз Советски кСоцианистичвснииреспублик(53) УДК 621, .528.1(088.8) Дата опубликойання описаны 2.07.82(5 Й) ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА 1Изобретение относится к вакуумной технике, а именно, к установкедля обработки изделий в многокомпонентной газовой среде.Известна вакуумная установка, содержащая рабочую камеру с датчикомдавления, подключенную к вакуумномунасосу посредством вакуумпровода, иустройство для подготовки и подачигазовой среды в рабочую камеру, имеюощее канал регулирования в виде трубопровода с натекателем 1 11,Однако при работе известной вакуумной установки обязательна периодическая разгерметизация рабочей камеры и остановка технологическогопроцесса на время подготовки газовойсреды, что снижает производительность установки.Кроме того, в ней невозможна авто. 20матизация процесса подготовки газовойсреды,Цель изобретения- повышение произв дительности установки с одновременной автоматизацией процесса подготовки газовой среды,Цель достигается тем, что устройство снабжено коллектором, имеющим проводимость, не превышающую проводимость вакуумпровода, и присоединенным к трубопроводу, и по меньшей мере одним соединенным с коллектором дополнителным трубопроводом с натекателем, причем оба натекателя снабжены механизмами управления, а на дополнительномтрубопроводе установлены диафрагма с проводимостью, не превышающей 1/1 О проводимости коллектора, и расположенный между диафрагмой и натекателем датчик давления, механизм управления натекания, первого трубопровода подключен к датчику давления рабочей камеры, а другой механизм - к датчику дополнительного трубопровода. На чертеже показана схема предлагаемой установки.Формула изобретения 3 9454Вакуумная установка содержит рабочую камеру 1 с датчиком 2 давления,подключенную к вакуумному насосу 3посредством вакуумпровода 4, и устройство для подготовки и подачи газо"вой среды в рабочую камеру 1, имеющее канал регулирования в виде трубопровода .5 с натекателем 6. Устройст"во снабжено коллектором 7, имеющимпроводимость, не превышающую проводимость вакуумпровода 4, и подсоединенным к трубопроводу 5, и по меньшей мере одним соединенным с коллеНтором 7 дополнительным трубопроводом8 с натекателем 9, причем оба натека- ителя 6 и 9 снабжены механизмами 10и 11 управления, а на дополнительномтрубопроводе 8 установлены диафрагма12 с проводимостью, не превышающей1/10 проводимости коллектора 7, и рас положенный между диафрагмой и натекателем датчик 13 давления, механизм 10управления натекателя 6 первого трубопровода 5 подключен к датчику 2 давления рабочей камеры 1, а другой механизм 11 - к датчику 13 дополнительного трубопровода 8,Установка работает следующим образом,Производится откачка рабочей камеры 1 до заданного давления, затемвключается устройство для подготовкии подачи газовой среды в рабочую камеру 1, Для этого подается поток одного иэ газов смеси через основнойтрубопровод 5 с натекателем 6, приэтом заданное давление в камере поддерживается путем управления натекателем 6 сигналами от датчика 2, установленного в камере 1.46Дополнительный канал регулированияработает аналогичным образом, но величина потока через натекатель 9 устанавливается в зависимости от сиг"налов датчика 13, установленного натрубопроводе 8.Высокая точность регулированияобеспечивается за счет исключениявзаимного влияния каналов регулирования. 95 4Таким образом, такое выполнение вакуумной установки обеспечивает автоматическое поддержание заданной величины давления и заданных расходов каждого из компонентов газовой среды непрерывно без необходимости прерывания технологического процесса на время ее подготовки,Вакуумная установка для обработки иэделий в многокомпонентной газовой среде, содержащая рабочую камеру с датчиком давления, подключенную к вакуумному насосу посредством вакуум- провода, и устройство для подготовки и подачи газовой среды в рабочую камеру, имеющее канал регулирования в виде трубопровода с. натекателем, О т л и,ч а ю щ а я с я тем, что, с целью повышения производительности с одновременной автоматизацией процесса подготовки газовой среды, оно снабжено коллектором, имеющим прово- димостЬ, не превышающую проводимость вакуумпровода, и подсоединенным к трубопроводу, и по меньшей мере одним соединенным с коллектором дополнительным трубопроводом с натекателем, причем оба натекателя снабжены механизмами управвения, а на дополнительном трубопроводе установлены диафрагма с проводимостью, не превышающей 1/1 О проводимости коллектора, и расположенный между диафрагмой и натекателем датчик давления, механизм управления натекателя первого трубопровода подключен к датчику давления рабочей камеры, а другой механизм - к датчику дополнительного трубопровода. Источники информации,принятые во внимание при экспертизе945495 Составитель Н, ЮшинТехред Т. Маточка Корректс ономаоен Редакт о Заказ 529 тл. Проектная, 4 лиал ППП "Патент д тираж 678 ВНИИПИ Государственног по делам изобретений 113035, Москва, Ж, Ра