Микрообъектив для отраженного света

Союз Советских Социалистических РеслубликОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ н 11871127 ВТОРСКОМУ . СВИДЕТЕЛЬСТВ 1) Дополнительное к авт. св 22) Заявлено 07.01,80 (2 с присоединением заявки й 23) Приоритет 1) 2862810/18-10 М. Кл. С 02 В 2 арственный омнтеСССРеаам изобретенийи открытий ллетень МЗ 3 публиковано 07.108 ата опубликования оп) МИКРООБЪЕКТИВ ДЛЯ ОТСВЕТА к областиборостроенияо, например,удных микро 5 ективы, ых повы короткоме ультИзвестны линзовые микрообьразрешающая способность которшается за счет использованияволновой части спектра, напри ррафиолетовые объективы (1 .Однако эти объективы отличаютсясложностью конструкции, недостаточнисправлением аберраций для внеосевыточек объекта. Кроме того, в этихмикрообъективах могут быть использоны лишь специальные материалы - прорачные в ультрафиолетовой областиспектра. Все это, а также трудностипри Ереобраэовании ультрафиолетовогизлучения в видимое, ограничивают вможности применения этих микрообъек а 2 зи ешаюется 25 вов,Известны микрообъективы,.раэщая способность которых повышза счет введения иммерсии,наприммикрообъективы для рудных и петфических микроскопов 2 1.При введении иммерсии устранрефлексы от фронтальной поверхн гр ютсясти 30 Изобретение относитс оптико-механического пр и может быть испольэова в металлографических иобъектива. Но неудобства работы, вызванные малым рабочим расстоянием и наличием иммерсии, недостаточная коррекция аберраций для внеосевых точек объекта не позволяют широко использовать объективы данного типа.Наиболее близким по технической сущности к изобретению является микрообъектив для отраженного света, содержащий мениск, обращенный вогнутостью к объекту, и два расположенные за ним двухсклеенные иэ положительной и отрицательной линз компонента (3 .Однако апертура объектива не обеспечивает воэможности наблюдения мелких структур; теоретическая разрешающая способность равна 1,5 мкм. Он обладает значительными рефлексами от оптических поверхностей, что приводит к ухудшению качества изображения, Микрообъектив имеет недостаточную коррекцию хроматических аберраций осевой точки объекта. Минимальная разность волновых аберраций в спектральном интервале от Г дсь С достигает -0,67 1 при апертуре объектива 0,20.Целью изобретения является повышение разрешающей способности и улучше-, ние качества изображения.указанная цель достигается тем,что в микрообъективе для отраженногосвета, содержащем мениск, обращенныйвогнутостью к объекту, и два расположенные за ним двухсклеенные из положительной и отрицательной лийз компонента, положительная линза первого5,двухсклеенного компонента расположена перед отрицательной линзой, приэтом оптическая сила мениска составляет по абсолютной величине 0,2-0,4оптической силы объектива, разностькоэффициентов дисперсий стекол линзвторого двухсклеенного компонента сос-,тавляет не менее 25, а поверхностьмениска и последняя поверхность отрицательной линзы первого двухсклеенного компонента выполнены апланатическими.На чертеже представлена оптическая схема микрообъектива для отраженного света. 20Микрообъектив для отраженного све- .та состоит из отрицательного мениска1, обрашенного вогнутостью к объектуи расположенных за ним двухсклеенныхположительных компонентов 2 и 3,разделенных воздушным промежутком.Поверхности 4 и 5 мениска 1 выполненыапланатическими апертурному лучу.Линза б склеенного компонента 2 выполнена в виде положительной двояковыпуклой линзы. Линза 7 склеенного 30компонента 2 выполнена в виде отрицательной линзы, причем поверхность8 - апланатическая апертурному лучу,Склеенный положительный компонент3 включает отрицательную линзу 9 и 35положительную линзу 10. Разность коэффициентов дисперсий стекол 10 и 9равна 31,7.Фронтальный отрицательный мениск1 проецирует изображение объекта, расположенного в плоскости объекта сувеличением 1", первый склеенный положительный компонент 2 проецирует изображение объекта с увеличением 2.5"в переднюю фокальную плоскость второго склеенного положительного компонента 3. Второй склеенный положительный компонент 3 и дополнительнаясистема, не показанная на чертеже,создают изображение в задней фокальной плоскости дополнительной сиатемы, которое регистрируется приемником излучения.При наблюдении непрозрачных объектов в режиме светлого поля пучок света осветительной системой и микро,объеативом направляется на изучаемый объект. При этом часть световогопотока отражается от оптических поверхностей линз 1, б, 7, 9 и 10 инакладывается на свет, отраженный отобъекта. Световой поток, отраженный оптическими поверхностями 4 и 5 мениска 1 и наружными поверхностямилинз б и 7, рассеивается в значительном телесном угле, что позволяет достигнуть существенного снижения коэффициентом засветки.Микрообъектив отраженного светаимеет достаточно высокое качествоизображения по всему полю зрения,максимальная разность волновых аберраций осевой точки в спектральноминтервале от Гдо С не превышает 0,203и значительно уменьшенный коэффициентзасветки.1Применение предлагаемого объектива обеспечит, при удобстве эксплуатации, возможность наблюдения и исследования мелких структур ряда слабоотражающих объектов,Известно, что теоретическая разрешающая способность равна 1,2 мхм,За счет увеличения апертуры объектива повышается освещенность изображения примерно в 1,5 раза, что дает возможность при эксплуатации приборов использовать менее мощные источники света. Кроме того, благодарямалой чувствительности к ошибкамизготовления и децентрировке фронтального мениска, объектив обладает большей эффективностью для серийного производства.Формула изобретенияМикрообъектив для отраженногосвета, содержащий мениск, обращенныйвогнутостью к объекту, и два расположенных за ним двухсклеенных из положительной и отрицательной линз компонента, о т л и ч а ю щ и й с я тем,что, с целью повышения разрешающейспособности и улучшения качества изображения, положительная линза первогодвухсклеенного компонента расположена.1 еред отрицательной линзой, при этомоптическая сила мениска составляет поабсолютной величине О, 2-0,4 оптической силы объектива, разность коэффициентов дисперсий стекол линз второгодвухсклеенного компонента составляетне менее 25, а поверхность мениска и последняя поверхность отрицательнойлинзы первого двухсклеенного компонента выполнены апланатическими.Источники информации,принятые во внимание при экспертизе1, Скворцов Г.Е. и др. Микроскопы, Л., "Машиностроение", 1969,с.207.2. 1 ам же, с.210.3. Там же, с.501-502 (прототип)..Лебедев Корректор О.Бил Редак О.филиппова аказ 84 19Тираж 542 ПодНИИПИ арственного комитета СССРпо дел зобретений и открытий13035, ква, Ж, Раушская наб., д.4/5шщ ешилиал ППП "Патент", г.ужгород, ул.Проектная,4 писное Госудам иМос