Устройство для облучения матери-алов

(51)М, Кл. 6 21 Н 5/00 Веудерстееииый комитет СССР во девам изебретеиич и открытий(72) Авторы изобретения Н.А.Асеев, Р.Р.Мельдер и В,Н.Иулимов явител 4) ОЙСТВО ДЛЯ ОБЛУЧЕНИЯ МАТЕРИАЛОВ гихтем Изобретени зкспери тносит ментальной яд ности к устро материалов, п рых реакторах теплоносителе хинке, в частдля облучения н т твенно жидкометаллическим проводят,пс устройстриментальных реакторои образцовтся необходоэ потокдостигаемыхаботы реак в оОд ия мним из основных условий териалов является подд ой температуры образцо чностью. В. ходе облуче изменения параметров риэ-за выгорания топли расхода теплоносителя ржание с высоия воз боты реа, измекои т актор кения у Облучение материало ка 9 правило, в ампульнь вах, помещаемых в зксп каналы исследовательск Процесс облучения парт длителен, что определя димостью набора больших реакторного излучения, за несколько кампаний причин, что вызывает отклонениепературы облучения от заданной.Известно. устройство для облучения материалов в исследовательских ядерных реакторах, в котором температуру облучения образцов регулируют с помощью электронагревателей1.Известно также устройство для облучения материалов в быстром реакторе с жидкометаллическим теплоносителем, содержащее коническую ампу" лу для образцов, концентричио расположенную в наружном коническом корпусе с переменным по величине зазором между ними 12,Однако в таких устройствах вели" чина газового зазора может изменяться только с помощью подъемного устройства ампулы, йанесенного из зоны облучения, как правило, на крышку реактора. Такое устройство не может использоваться для облучения материалов в быстрых реакторах с жидкометаллическим теплоносителем, так как одО 15 20 25 30 35 40 45 50 55 ним из условий облучения материаловв быстрых реакторах является необходимость размещения устройства для облучения в чехле штатного пакета, исключающего вывод коммуникаций черезкорпус реактора, в данном случае -вывод коммуникаций подъемного устройства ампулы,Цель изобретения - автономное иавтоматическое перемещение ампулыдля поддержания заданной температурыоблучаемых материалов.Зто достигается тем, что нижнийторец ампулы и корпус соединены через сильФон, полость которого сообщена с полостью ампулы, а ампулазаполнена средой, расширяющейся принагревании.На чертеже схематично изображенопредлагаемое устройство для облученияматериалов,Устройство содержит коническую ампулу 1 для образцов 2, концентричнорасположенную в наружном коническомкорпусе 3 с газовым зазором 4 междуними. Ампула 1 и корпус 3 в нижнейчасти соединены между собой сильФоном 5. Соединение выполнено так,чтобы обеспечивалась возможность расширения сильфона 5 вверх, Для этогонижняя заглула 6 сильФона 5 жесткоскреплена, например, сваркой, с корпуФсом 3, который в устройстве в целомявляется неподвижным, а в верхнейчасти сильФон 5 жестко соединен, например, сваркой, с нижним. торцом ампулы 1, образуя общий экспериментальный объем, заполненный рабочей средой,обеспечивающей при расширении сильФона перемещение ампулы 1 в крайнееверхнее положение, а при сжатии - вкрайнее нижнее положение. В активнуюзону реактора устройство при помощиоп"ры 7 устанавливают в чехле 8 штатного тепловыделяющего пакета проточным теплоносителем, имеющим головку9 и хвостовик 10 для установки в активной зоне реактора,Устройство работает следующим образом вВо время работы реактора при номинальньж параметрах требуемую температуру облучения обеспечивают расчетной величиной газового зазора 4,изменения параметров работы реактораприведут к изменению температуры ра 6 4бочей среды, заполняющей ампулу 1 и сильФон 5. Увеличение температуры, а следовательно, и объема рабочей среды вызовет удлинение сильфона 5 и перемещение ампулы 1 вверх, тем самым уменьшая газовый зазор 4, что улучшит теплопередачу от образцов 2 к теплоносителю реактора и уменьшит температуру облучения до расчетной.Снижение температуры рабочей среды приведет к уменьшению объема ее,сильФон 5 уменьшится по длине, ампула 1 переместится вниз, тем самымувеличивая газовый зазор 4, что уменьшит теплопередачу от образцов и соответственно увеличит температуру облучения до расчетной,Такое автономное перемещение подвижной ампулы обеспечивает автоматическое регулирование температуры облучения в заданных пределах.Предлагаемое устройство позволитоблучать материалы в быстром реакторе, так как оно не содержит внешних средств изменения велйчины термического сопротивления. Устройствообеспечивает автономное поддержаниезаданной температуры облучения.Формула изобретенияУстройство для облучения материалов в быстром реакторе с жидкометаллическим теплоносителем, содержащееконическую ампулу для образцов,концентрично расположенную в наружном коническом корпусе с переменнымпо величине зазором между ними,о т л и ч а ю щ е е с я тем, что,с целью автономного автоматического перемещения ампулы для поддержания заданной температуры облучаемыхматериалов, нижний торец ампулы соединен с корпусом через сильФон,полость которого сообщена с полостьюампулы, а ампула заполнена средой,расширяющейся при нагревании.Источники инФормации,принятые во внимание при экспертизе1. Патент ВеликобританииР 1094290, кл. Н 5 й, опублик. 1968.2. Авторское свидетельство СССРИ 305804, кл, С 21 С 9/20, 971.625486 О.Иркова е Подписикомитета СССРи открытийаушская набд.4 Л тент ,каз 5836 4 НИИПИ по 1303ставитель Е.Мяхред А.Ач Тираж 476 осударственного елам изобретений Москва, Ж, Р д, ул. Проектная,орректор С.Щомак