Способ изготовления основы кинофотоматериалов

(6) Дополнительное к авт, синд-ву 2Кл.3 С 1 22) Заявлено 13.05.76 (21) 2 1 925/23-04 нсоединеннем заявкиасударстеенный камнтетСовета етнннатраа СССРаа делам изабретеннйи открытий) УДК 771.5 (088.8) Дата опубликования описаннФ 29.03.7(7 ) Заявитель Всесоюзный государственный научно-исследовательский и проектный институт химико-фотографической промышленности(54) СПОСОЬ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ОСНОВЫ К ИНОФОТОМА ЧЕРИА ЛОВ 1Изобретение относится к способам изготовления основы кинофотоматериалов, применяемых ддя улучшения адгезин основы к гидрофидьным .фотографическим слоям,Известен способ изготовленияосновы 5 кинофотоматериалов путем нанесения на полиэтилентерефталатную подложку адгезионного полимерного подслоя, включающего органический растворнтель, смесь бутадиена и сополимера винилиден - или винилхлорида, то гидрофильного монемера с этиленовымн связями (например М -винилпирролидона, итаконовой, метнлметакрнлатовой и др. кнс. лоты и гидрофобного мономера с этиленовыми связями(например эфиры акриловой,метакри- т 5 ловой, маленковой кислот, И -алкилмалеинимнд и др,)душки и специальной обработки полученной основы коронным разрядом 11 .Однако, полученная таким способом осно ва имеет недостаточную адгеэию к наноси- М мому на нее светочувствительному желагинс вому слою. Для проведения известного способа требуется специальная сложная установ;,ка, состоящая из нескольких преобразователь. но расположенных коронагоров с нсточы- Ю анряжения, Кроме того, наову следует немедленновсгвнтельный слой, гак какболее 24 ч, обработкаом не дает улучшения адге кама высокого н обработанную осать светоч по истечении не коронным разряд зии. полив свойств сского процесовышен адгезионных хнологнче у способу алатную и новы и упрощения ге са, по предлагаемомнаносимый одложку адгечесгве полнтанового кананата общей на полиэгнлентереф евонный полимерныи мера содержит смес учука и блокнрованн формулы слой в ка полиуре го дниэоцгде и - фенилен,С -Салифатическ2соотношении ог 9но, а специальнуюнагревания получеОбразующийсянагреванием до 1 голуилен, гексаметнлен; фенола, днэтилвмнна; илн огоспирта,: взятых в 1 до 1: 9 соотвегс обработку проводят пу нной основы до 100-1 после обработки основы 00-180 С адгезнонный35 3слой, являющийся продуктом взаимодейсгвия подиуретаноаого каучука и диизоцианата, имеет хорошую адгезию к полиэтилентерефталатыой подложке и к светочувствительному жепатиновому слою.Изготовление основы кинофотоматериаловпредложенным способом позволяет значительно упростить технологический процесс.Полиуретан оный каучук и блокированныйдиизоцианат растворяют в подходящем раст 3 Оворителе, например ацетоне, метиденхпориде, дихлоратане, этилацетате и др., наносятна ПЭТФ-пленку, высушивают при температуре 50-70 С и пропускают через термокамеру при температуре 100-180 С, Количество блокированного дииэоцианата поотношению к полиуретановому каучуку составляет 50 - 100 вес.%, Далее наПЭТФпленку с подспоем наносят обычным способом гапогенсеребряную эмульсию. Адгезия фотографического жвлатинового слоя к. основе хорощая, как в сухом, тах и вовлажном состоянии фотографического споя.Подслой не оказывает вредного влияния нафотографические свойства эмудьсионногослоя,П р и м е р 1, На двухосноориентирьванную и закристаллизованную ПЭТФ-пленку наносят из кюветы с помощью купанмщего или ногружного вадика подслой спе- З 0. дующего состава;Полиуретан овыйкаучук СКУ 8 ГП 40 г2,4- топуипендии зоциана тфе н оп 20 гАцетон 800 млДихлорэтан 200 мпПленку высушивают при 60-65 С и заотем подвергают термообработие цри 180 Св течение 5 мин. На обработанную основунаносят обычным способом фотографическийэмульсионный слой, Держание эмупьсионного слоя до и после фотообработки оценивается баллом 4 +,Прочность эмульсионного эадубпенного45споя, определяемая на приборе ПИЭС составляет 400 г до фотообработки и 170 гпосле фотообработки.П р и м в р 2, На дьухосноориентированную и закристаллиэованную ПЭТФ-пленкунаносит следующий подслойПолиуретановый каучукСКУ 8 ГП 40 г5-Хлор,4-толуиле ндиизо 55цианатфен оп ЗОгМетиленхпорид 700 мл, Дихлорэтан ЗООмпПпенку со слоем высушивают при50-60 С и подвергают термообработкепри 105-.10 С в течение 2 мин. После30 г700 мл300 мл Ппенку высушивают при 60-70 оС и проопускают через термокамеру при 120-140в течение 5 мин. Адгеэия эмулы:ионногослоя 4 балла до и поспе обработки, прочность эмупьсионного слоя 350 г до обработки и 170 г после обработки.П р и м е р 5. На двухосноориентировавную и .захристадлизованнуюПЭТФ-ппенкунаносят из кюветы с помощью купающегоили погружного вадика подссдой следующегос,остава:Полиуретановый каучук ,8 ГП 10 г2,4-Топуилендииэоцианатфеног 90 гАцетон 400 м 3 гДихлорэтан 100 мпоПленку высушив;ют при 60-65 С, а эаотем погвергают термообработке при 180 Св течение 5 минНа обработанчую основу наносят обычным способом фотографический эмульсионный спой, Держание эмульсионного слоя дои после фотообработки оценивается баддом3+,Прочность эмульсионного эадубленногослоя, определяемого на приборе ПИЭС,составдяет 350 г до фотообработки и 160 гпосле фотоабработкиП р и м е р 6 Еа двухосноориентчрованную и закристаппизоввнную ПЭТФ-пленкунаносят следующий подспой: 4нанесени эмупьсионного слоя, содержащего дубитепь, адгеэия до и после обработки 4 балла,Прочность задубленного эмупьсионного слоя до фотообработки 420 г, после фото- обработки 180 г.П р и м е р 3. На двухосноориентирован. ную и закристаллизованную ПЭТФ-пленку наносят следующий подслой:Полиоетановый каучукСКУ 8 ГП 30 г2,4-Топуице ндии зопианатдиэтиламин 30 гМетиленхлорид . 700 мрДихпорэтан ЗОО мпПленку высушивают при 50-60 оС и подо вергают термообработке при 160 С. Адгеэия эмульсионногослоя 4 - до и послефотообаботки. Прочность эмульсионного слоя ЗОО г до и 130 г носпе фотообработки.П р и м е р 4, На ориентированную и эакрис талан зованную ПЭТФ-пленку нан сят следующий подслой:Полиуретановый каучук 30 гГексаметипендиизоцианабутан опМе типе нллоридДихлорэтанЗаказ 1846/43 ;Тираж 564 Подписное ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж 35, Рвушсквя набд. 4/5филиал ППП "Патент, г. Ужгород, ул. Проектная, 4 Пленку со слоем высушивают при 70-80%:о и подвергают термообработке при 180 С в течение 5 мин. На обработанную основу наносят обычным способом фотографический Из таблицы следует, что основа, изготовленная предложенным способом, имеет более прочное скрепление желатинового светочувствительного слоя с полиэтилентерефтвлатной подложкой н, кроме того, предложенный способ отличается простотой технологическотъ Ьформления и обслуживания. формула изобретенияСпособ изготовления основы кинофотоматериалов путем нанесения на поли,этилентерефтвлатную подложку адгезионного полимерного подслоя в виде раствора в органическом растворителе, сушки и специальной обработки полученной основы, о т л и ч а ю ш и й с я тем, что с целью повышения адгезионных свойств основы и амульсионный слой. Держание амульсионнбго слоя до и после фотообрвботки оценивается баллом 4 -,Прочность амульсионного звдубленногослоя, определяемая на приборе ПИЭС, состввляет 390 г до фотообработки и 170 гпосле фотообработки., Результаты испытаний образцов основы,изготовленной предложенным и известнымспособами, сведены в таблицу,упрощения технологического процесса, адгезионный подслой в качестве полимера содержит смесь полиуретанового каучука иблокированного диизоцианата общей формулы 1- Р- со),.Н ОИгде Й -фенилен, толуилен, гексаметилей,Я- остаток фенола, диэтиламина, илиСй- С 4 алифатического спирта, взятых всоотношении от 9:1 до 1:9 соответственно,а специальную обработку проводят путемнагревания основы до 100-180 С.Источники информйции, принятые во внимание. при акспертизе:1, Патент СССР Ии 398051,кл. ( ОЗС 1/80 1969.