ZIP архив

Текст

обыкновенным и необыкновенным составляю- шими пучками лучей.Обыкновенный составляющий пучок лучей проходит через кристалл 3 в качестве необыкновенного, а необыкновенный составляющий пучок лучей - в качестве обыкновенного составляющего пучка лучей, так как кристалл 3 повернут относительно кристалла 2 на 90 вокруг оси 4. Разность хода между обоими составляющими пучками лучей поэтому выравнивается в кристалле 3, благодаря чему обе точки фокусировки теперь лежат в одной плоскости,Так как из-за сферичеакой аберрации точки фокусировки,параксиальных лучей для обоих составляющих пучков лучей для разных плоскостей падения не совпадают, то пятна, полученные при помощи устройства 1 в качестве изображения, обладают еще значительной протяженностью. Наибольшее отклонение наблюдается между точкой фокусировки параксиальных лучей для плоскости падения, которая совпадает с главным сечением кристалла 2, и точкой фокусировки для плоскости падения, перпендикулярной к этому главному сечению.Однако, так,как повернуты на 90 и устройство 5,вокруг оси 4 и плоскость поляризации обоих составляющих пучков лучей при помощи пластинки 8, то плоскость падения, которая совпадает с главным сечением кристалла 2, расположена перпендикулярно к главному сечению кристалла 6. Плоскость падениякоторая лежит перпендикулярно к главному сечению кристалла 2, совпадает соответственно с главным сечением кристалла 6. Тем самым у обоих составляющих.пучков лучей разность положений между точечками фокусировки параксиальных лучей для раеоматриваемых плоскостей падения имеет в уетройстве 7 знак, противоположный знаку в устройстве 1. Результирующая разность положений тем самым становится равной нулю, и протяженность пятна изображения каждого из обоих составляющих пучков лучей после прохождения обоих составляющих йучков через йластинку 8 и устройство 7 сильно снижена.Коррекция разности хода между обыкновенным и необыкновенным составляющими 5 пучками лучей осущеспвляется в устройстве 7с помощью кристалла 6 аналогично коррекции в устройстве 1,Благодаря значительному снижению лротяженности пятна изображения каждого из обо их составляющих пучков лучей расстояниеобоих пятен изображения, т, е. величина отклонения света, может быть снижено, Поскольку это расстояние пропорционально толщине кристаллов 2, 3, 5 и 6, то она одновре менно может быть снижена, Тем самым достигается дальнейшее снижение протяженности обоих пятен изображения, поскольку,протяженность пятен изображения также пропорциональна толщине кристаллов 2, 3, 5 и 6.20 Предложенное устройство дает в ф 2 разбольшее отклонение света по сравнению с известным нескорректированпым устройством при равной толщине кристаллов, так как в устройствах 1 и 7 отклонение света происходит перпендикулярно друг,к другу. Если увеличение отклонения света нежелательно, его можно избежать уменьшением толщины 1 всех двоякопреломляющих кристаллов 2, 3, 5 и 6130 на Предмет изобретения35 Устройство для преломления лучей, содержащее двоякопреломляющие кристаллы, отл и ч а ю щ е е с я тем, что,с целью снижения сферической аберрации путем коррекции разности хода, между обыкновенным и необыкно венным лучами, каждый двоякопреломляющий кристалл дополнен таким же, но повернутым вокруг оси на 90 кристаллом; а между обоими кристаллами, расположен элемент для вращения плоскости поляризации состав.45 ляющих пучочков лучей на 90.419059 Рог 7 Риг 1 Составитель И. Гореловедактор Л. Утехина Техред Е. Борисова орректор Е, Селезнева одписное аказ 1516/15ЦНИИПИ Типография, пр. Сапунов Изд. М 586дарственного по делам изо Москва, Ж.З 5 Тираж 537 комитета Совета Министр бретений и открытий Раушская наб., д. 4/5

Смотреть

Заявка

1379801, 25.11.1969

МПК / Метки

МПК: G02F 3/00

Метки: 419059

Опубликовано: 05.03.1974

Код ссылки

<a href="https://patents.su/3-419059-419059.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">419059</a>

Похожие патенты