Устройство для измерения малых деформаций волокон материала конструкции

Номер патента: 1670330

Опубликовано: 15.08.1991

Автор: Романов

МПК: G01B 5/02, G01B 5/30

Метки: деформаций, длины, определении, остаточных, пластины

...и высокая прочность, указанный радиус может быть 1-3 мм, Если в структуре материала пластины содеркится распределенная пористость по ширине, материал имеет незначительную прочность на сжатие, то для определения относительной длины пластины и устраиваемых слоев должны использоваться измерительный наконечник 5 и рабочая часть упора б с радиусом 3,5 - 5 мм, В этом случае резко уменьшается удельное давление измерительного наконечника 5 или упора б на уча. стке контакта с материалом, при этом онине углубляются в поры, что способствует снижению разрушающего воздействия и повышению проводимых определений остаточных деформаций.Измерительное устройство работает следующим образомНа устройстве измеряется длина контролируемой пластины 16 в...

Номер патента: 1710203

Опубликовано: 07.02.1992

Авторы: Архипов, Кравченко

МПК: B23B 27/16

Метки: перетачиваемой, пластиной, резец, сборный

...пластин из минералокерамики и сверхтвердых материалов при работе на режимах с большими сечениями среза,Цель изобретения - повышение стойкости за счет увеличения надежности крепления перетачиваемой режущей пластины,Поставленная цель достигается тем, чторезец, содержащий державку, в продольном пазу которой с возможностью взаимо-.действия с регулировочным элементом5 установлена подвижная планка с гнездомдля упомянутой пластины, закрепляемой спомощью прихвата и крепежного винта,расположенного между носком прихватаиего опорной частью, снабжен регулировоч 10 ным элементом в виде клина, установленного в поперечном пазу, выполненном вдержавке, при этом дно поперечного пазасовпадает с дном продольного, а опорнаячасть прихвата размещена с...

Номер патента: 188864

Опубликовано: 01.01.1966

Авторы: Аксенов, Каралюс, Кибрик, Пдтт

МПК: G08B 23/00

Метки: деформации, конвейера, отсутствия, пластин, пластинчатого, полотне

...подаются одинаковые по величине, но сдвинутые по фазе на 180 переменные напряжения Г,и У", . Поэтому в течение одного полупериода оба транзистора в одном плече (например, б и 7) открыты, и через них проходит ток в направлении, определяемом полярностью (фазой) выпрямляемого напряжения, а в другом плече один из транзисторов 8 или 9 (в зависимости от полярности выпрямляемого напряжения) заперт. В следующем полупериоде проводящее и непроводящее плечи меняются ролями. Через нагрузку протекает двухполупериодный выпрямленный ток.Принципиальная схема аппаратуры блока усиления и преобразования 3 приведена на фиг. 3, Она содержит полупроводниковое ре. версивное реле с коллекторной обратной связью (Я, - сопротивление обратной связи). За счет...

Номер патента: 696281

Опубликовано: 05.11.1979

Автор: Щербаков

МПК: G01B 11/16

Метки: деформаций, пластин, формы

...во времеи формхмации пластин из-за цеобходцмостго фотографирования.Целью изобретения является повышение производ.тельости и точности измерений.Поставленная цель достигается тем, что устройство снабжено плоским цолуцрозрачцым зеркалох 1, рдсцложен 1 кулярно оптической осц междх .1 ср 11 тсль 1 ых Зеркалм, в,1 з тц последнегоНа чертеже показа н д опт устройства.Устройство содержит экрд цым нд цсго растром, фог 1 ш мешеный зд отверстием в и узел 3 нагруженця исследуем закрепленное на поверхност 11 пластины. Устройство работает следуюпи м образом.Растр с экрана 1 цри еготрдженцц т поверхности измерительного зеркдла 6 фиксируется фотоаппаратом 2. Одновреме 1 ц 1 изображение опорного растра, отражене от цедеформируемго полуцрозрдчцогзеркала...

Номер патента: 1292059

Опубликовано: 23.02.1987

Авторы: Александров, Афанасьев, Иванов, Трифонов, Якунин

МПК: H01H 31/02

Метки: аппарата, высокого, конструкция, опорно-изоляционная

...формы 1,2/50 (кривые 1,2 и3 - светлые точки) и отрицательной(кривые 1, 2 и,З - зачерненныеточки),При малых величинах Кп (фиг.2) разрядные напряжения при грозовых импульсах, отрицательной полярности меньше, чем при положительной. Это обусловлено тем, что при отрицательной полярности импульсов искровой разряд развивается не с отрицательно заряженного высоковольтного экрана, а с положительно заряженного экрана подножника. Увеличение К при постоянных Н и Кт приводит к уменьшению разрядных напряжений положительной полярности. При этом существует опти,мальный радиус заземленного экранаоптподножника К , при котором разрядные напряжения на положительной и отрицательной полярности импульса одинаковыоптОтношение К /К, является функцией...