Проекционный растр
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 1725178
Автор: Ганиев
Текст
СОЮЗ СОВЕТСКИХСОЦИАЛИСТИЧЕСКИРЕСПУБЛИК ОЗЕ 5 ИСАНИЕ ИЗОБРЕТ Я растрового фотографического изображения за счет формирования по полю изображения распределения освещенности, постоянного в пределах периода растра. Растр состоит из двух стеклянных пластин 1 и 2 с нанесенными на одну из плоскостей каждой из них одинаковыми линейными решетками 3 и 4 абсолютного контраста. Пластины 1 и 2 соединены решетками 3 и 4 внутрь. Направление линий решеток 3 и 4 взаимно перпендикулярно, Пластины 1 и 2 выполнены из фотохромного стекла на основе хлорида серебра. 2 ил. но тв ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМПРИ ГКНТ СССР ТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТ(71) Омский политехнический институт(56) Синяков Н.И. Технология изготовлефотомеханических печатных форм. -Книга, 1966.(57) Изобретение относится к проекциому растру и позволяет повысить каче Ж( 1725178Изобретение относится к фоторепродукционным системам, включающим проекционное растрирование.Целью изобретения является повышение качества растрового фотографического изображения за счет формирования по полю изображения распределения освещенности, постоянного в пределах периода растра.На фиг,1 и 2 изображен проекционный растр,Проекционный растр состоит из двух стеклянных пластин 1 и 2 с нанесенными на одну из плоскостей каждой из них одинаковыми линейными периодическими решетками 3 и 4 абсолютного контраста, соединенных решетками вовнутрь, при этом направление линий решеток взаимно перпендикулярно. Пластины выполнены из фотохромного стекла на основе хлорида серебра.Растр устанавливают в растродержатель фоторепродукционного аппарата. В качестве оригинала служит равномерно освещенный прозрачный нейтрально серый квадрат, имеющий постоянное пропускание по всей площади, Такой оригинал экспонируют Уф-излучением.На плоскость растра падает обусловленный действием обьектива неравномерно распределенный поток излучения.Участки растра, выполненного из фотохромного стекла, подвергшиеся засветке УФ-излучением в большей степени, имеют большую оптическую плотность, и наоборот. Таким образом, растр содержит ячейки 5, сформированные перекрещиванием линейных решеток, различной прозрачности, причем прозрачность возрастает от центра к периферийным участкам растра. При этом в плоскости фотографического слоя создают периодически изменяющееся распределение освещенности, постоянное в пределах периода растра для всего поля изображения.П р и м е р. Пусть максимальная оптическая плотность фотохромных пластин, являющаяся результатом воздействия максимального Уф-излучения, будет равна 0,7 ед. оптической плотности. Приняв во внимание, что характеристическая кривая фотохромного стекла из хлорида серебра является практической прямой, а также условно приняв время воздействия освещенности на фотохромный растр за единицу, можно записать следующее соотношение:Н 1 Нг(3) можно определить величины световых25 потоков, прошедших через центр изображения на фотохромном растре и через его периферийный участок: 19" = 9 Ро 1-01= 9100 - 0,7= л 30= 1,845-0,525=1,32 Р =20,9.лРезультаты приведенного приближенного расчета показывают, что предлагаемый растр позволяет значительно компенсировать различия освещенности по полю изображен ия и улучшить качество фотографического растрированного изображения.45 Формула изобретенияПроекционный растр, состоящий издвух стеклянных пластин с нанесенными на одну из плоскостей каждой из них одинаковыми линейными периодическими решетками абсолютного контраста, соединенных решетками вовнутрь, при этом направление линий решеток взаимно перпендикулярно, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что, с целью повышения качества растрового фотографического изображения за счет формирования на поле изображения распределения освещенности, постоянного в пределах периода растра, пластины выполнены из фотохромного стекла на основе хлорида серебра,где Н 1 - экспозиция, воздействующая на 5 центр фотохромного растра;Н 2 - экспозиция, воздействующая напериферию фотохромного растра;01 - оптическая плотность от воздействия максимального (100 о) УФ-излучения;10 02 - оптическая плотность от воздействия 75 величины Уф-излучения.С помощью выражения (2) можно определить численное значение 02=0,525 ед. оптической плотности. Приняв во внимание, 15 что световые потоки, падающие на центр икрая изображения на фотохромном растрепри экспонировании фотослоя видимымсветом, равны соответственно 100 и 75, ииспользуя известную формулу 201725178 Составитель Д,Ганиевактор О.Юрковецкая Техред М.Моргентал Корректор М.Шароши роизводственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул. Гагарина, 101 Заказ 1175 Тираж ВНИИПИ Государственного комитета по 113035, Москва, ЖПодписноеобретениям и открытиям при ГКНТ ССРаушская наб., 4/5
СмотретьЗаявка
4769208, 25.10.1989
ОМСКИЙ ПОЛИТЕХНИЧЕСКИЙ ИНСТИТУТ
ГАНИЕВ ДЖЕЙМАРС ХАМАТХАНОВИЧ
МПК / Метки
МПК: G03F 5/00
Метки: проекционный, растр
Опубликовано: 07.04.1992
Код ссылки
<a href="https://patents.su/3-1725178-proekcionnyjj-rastr.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Проекционный растр</a>
Предыдущий патент: Фиксатор световода
Следующий патент: Цифровой измеритель несимметричности сигналов
Случайный патент: Система обработки цветового телевизионного сигнала