Устройство для контроля качества материала

(19 3/06 51)5 0 И о-исследователь- ности лубяных воорогов, А. Р. ЕвсН. В. Юмашев и ство СССР /06, 1983. КОНТРОЛ ЧЕие функ т блок измерен фотометр, сост Устроиство содючающий актив ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМПРИ ГКНТ СССР ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕ 0 РС КОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВ(71) Центральный научский институт промышлелокон(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯСТВА МАТЕРИАЛА Изобретение относится к устройствам для контроля качества материала и может быть использовано для определения технологических характеристик материала,Известно устройство для контроля качества материала, содержащее измерительную интегрирующую сферу с расположенными в разных полусферах относительно центральной диаметральной оси отверстиями, фотоприемник и источник излучения, установленный в отверстии одной из полусфер,Недостатком известного устройства являются невысокие функциональные возможности.Цель изобретения - расширен циональных возможностей,На чертеже изображено устройство, об 1701762 А 1(57) Изобретение может быть использовано для определения технологических характеристик материала и позволяет расширить технологические возможности устройства, Устройство содержит измерительную сферу, приемник отраженного от поверхности материала излучения, источник излучения, В данном устройстве измерительная сфера выполнена из двух полусфер с зазором, дополнительные источник излучения и фото- приемник расположены в одной полусфере, а осветитель установлен с возможностью освещения диаметрально противоположного участка той же полусферы, в которой он размещен. 3 з,п, ф-лы, 1 ип. щий из интегрирующей измерительной сферы, выполненной из двух полусфер 1 и 2, установленных одна относительно другой с зазором 3 дпя раэмеще ия контролируемого материала 4.В отверстиях полусферы 1 установлены источник 5 излучения (например, лазер) со среДством расфокусировани , его излучения (не показано) и фотоприемник 6 для восприятия излучения, отраженного от поверхности материала и интегрируемого ону;ренней поверхностью полусфер 1 и 2. Г 1 ри этом направление светового потока от осветителя расположено под углом 90 .+. 5 к оптической оси фотоприемников, которая, в свою очередь, перпендикулярна направлению перемещения материала 4, Оотоприемник 6 закрыт экраном 7, расположеннымна диаметрально противоположном относительно осветителя 5 участке полусферы для избежания засветки светом, исходящим не 1701762посредственно от осветителя и отраженным от поверхности полусферы.В полусфере 2 установлен фотоприемник 8 для восприятия излучения, прошедшего сквозь материал и неоднократно отраженного о 1 поверхностейполусфер 1 и 2. При этом оптическая ось фооприемника 8 соосна с оптической осью фотоприемника б.Вполусфере 2 может быть установлен ,дополнительный источник излучения осве,титель 9), аналогичный осветителю в полусфере 1,Устройство работает следуощим обра,зом.Излучение от источника 5 попадает на противоположную стенку полусферы 1 и после многократных отражений от стенки полусферы и контролируемого материала 4 попадает на фотоприемник б, которцй регистрирует суммарнцй коэффициент отражения, Часть излучения проникает червз материал 4 в полусферу 2 и после многократных отражений попадает на фотоприемник 8, который регистрирует суммарный коэффициент пропускания.П р и м е р. Полусфера с внутренним диаметром 60 мм с отверстиями, расположенными под углом 90 5 О один к другому. Внутренняя поверхность полусферы имеет покрытие, обеспечивающее диффузное рассеивание. В качестве источника излучения используется полупроводниковый лазер с длиной волны 0,89 лям, в качестве фотоприемника - фотодиод ФДК.При этом облучение большой поверхности материала диффузионно рассеянньм светом, равномерно распределенным по асей этой поверхности, при многократном отражении от стенок полусфер позволяет повысить точность контроля таких показателей свойств материала, как белизна, структура, за счет обеспечения возможности усредненной оценки показателейсвойств материала с неравномернымисвойствами по его площади.Использование изобретения расширяет5 функциональные возможности устройства.Формула изобретения1. Устройство для контроля качества материала, содержащее измерительную интегрирующую сферу с расположенными в10 разных полусферах относительно центральной диаметральной оси отверстиями, фотоприемник и источник излучения, установленный в отверстии одной из полусфер, о тл и ч а ю щ е е с я тем, что; с целью расши 15 рения технологических возможностей, полусферы измерительной интегрирующейсферы расположены с зазором относительно центральной оси, в одной из полусфер вточке пересечения оси, проходящей через20 геометрический центр измерительной интегрирующей сферы перпендикулярно цен тральной диаметральной оси, и поверхности измерительной интегрирующей сферы выполнено дополнительное отверстие, в25 котором установлен фотоприемник.2, Устройство по и, 1, от л и ч а ю щ е ес я тем, что оно снабжено дополнительнымфотоприемником, а в другой полусфере диаметрально противоположно первому до 30 полнительному отверстию в первойполусфере выполнено второе дополнительное отверстие, в котором установлен дополнительный фотоприемник.3, Устройство по пп. 1 и 2, о т л и ч а ю 35 щ е е с я тем, что оно снабжено дополнительным источником излучения, установленным аналогично основному источникуизлучения первой полусферы в основное отверстие второй полусферы,40 4. Устройство по пп. 1 - 3, о т л и ч а ющ е е с я тем, что оно снабжено экраном,расположенным на диаметрально противоположном относительно источника излучения участке первой полусферы.1701762 оставитель С,Алексанехред М,Моргентал Редактор А.Огар рректор; М.Шаров пр роизводственно-издательский комбинат "Патент", г, Ужгород, ул,Гагарина, 10 Заказ 4513 Тираж ВНИИПИ Государственного комитета по из 113035, Москва, Ж, Р