Способ изготовления рельефных форм

(5) ПИСАНКЕ ИЗСБРЕТ ВИДЕТЕЛЬСТВУ СКО К АВ ОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯРИ ГКНТ СССР(56) Авторское свидетельство СССР ч 645990, кл. С 25 О 1/10, 1977.Авторское свидетельство СССР М 1221256, кл. С 25 О 1 ЛО, 1983.(54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ РЕЛЬЕФНЪХ ФОРМ(57) Изобретение относится к гальванопластике, в частности к изготовлению рельефных форм с разновысокими элементами,Изобретение относится к гальванопластике и может быть использовано во всех отраслях народного хозяйства, занимающихся изготовлением рельефных форм, преимущественно формообразующих элементов технологической оснастки, предназначенных для формообразования изделий, имеющих разновысокие элементы (фактуры поверхностей, шрифты, эмблемы, . товарные знаки и т,п.).Цель изобретения - расширение ассортимента получаемых изделий.П р и м е р 1. Изготовляют рельефную форму (матрицу пресс-формы) для литьяпод давлением изделий "Ученический трафарет" из полистирольного пластина марки ПСМД-А. Толщина изделия 1,4 мм, при этом геометрические фигуры высотой 1,4 мм, надписи и цифры 0,30 мм, риски шкал линейки и транспортира 0,20 мм. Для того что,Ц.16966 предназначенных для получения изделии различного назначения, Цель изобретения - расширение ассортимента получаемых изделий, На металлическую подложку наносят фотополимеризующуюся композицию, Экспонирование через фотошаблон соответствующего рельефа и проявление фотополимерного слоя на разную глубину в зависимости от требуемого рельефа изделия осуществляют исходя из соотношения С= 2,3 а, где С - глубина проявления, а -2минимальная ширина непрозрачных элементов фотошаблона. После проявления производят гальваническое осаждение металла необходимой толщины и отделение полученной формы. бы получить модели с такой высотой элементов, определяют по формуле С=2,3 а минимальную ширину непрозрачных элементов фотошаблона а, необходимую для проявления фотополимерного слоя на требуемую СЬ глубину(С). Для геометрических фигур высо той 1,4 мм минимальная ширина непрозрач- О ного элемента должна быть на фотошаблоне 0, 0,79 мм; для надписей и цифр высотой Ср 0,30 мм соответственно 0,35 мм, для рисок шкал линеек и транспортира высотой 0,15 мм соответственно 0,25 мм. Зная соотношение глубины и роя вления фотопол и- мерного слоя модели и минимальной ф ширины непрозрачных элементов, изготовляют фотошаблон, Металлическую подложку (основа - хромированная жесть маркй ХЛЖК) с термоотвержденным адгезионнопротивоореольным слоем (необходимымдля связи материала подложки и фотополиме 1696602ризующейся композиции и уменьшения отражения света от подложки) устанавливают на верхней полукассете (магнитной) установки экспонирования ФЛЭ - 66, а на нижнюю полукассету накладывают последовательно фотошаблон, ростовую ограничительную планку с толщиной 1,4 мм, полиэтилентерефталатную пленку, после чего включают вакуумный насос-компрессор и создают разрежение (до 1,0 мм рт.ст.- остаточное давление), При этом фиксируют положение фотошабпона, ростовой ограничительной планки на кварцевом стекле (основании нижней полукассеты). Затем опускают верхнюю полукассету на нижнюю (создают замкнутый обьем с щелью 1,4 мм), обеспечив прижим полукассет давлением 10-12 МПа от гидросистемы установки.В полученную полость заливают фотополимеризующуюся композицию на основе ненасыщенных полиэфиров (Ликофот-Т 22), Состоящую из ненасыщенной полиэфирной смолы ПН - 37 фотоинициатора 2,2-диметокси-фенилацетофенона, фотоингибитора К-нитрозодифениламина, взятых при концентрациях соответственно 99,23 0,75 и 0,02 . Затем включают источник УФ-излучения с длиной волны 320 - 400 нм (лампа ДРГТ) и экспонируют изображение детали через фотошаблон, после чего разбирают установку и проявляют (на машине вымывной ФВФ - 55 К) неаблученные участки композиции водным раствором (10 г/л) кальцинированной соды.После проявления рельефа модели проводят задубливание ее светочувствительного слоя (дпя повышения гальваностойкости), Для этого модели помещают в установку дополнительной обработки ФЛ 0-66, где одновременно проводят облучения УФ-излучением в течение 7 мин (лампа ЛУФмощностью 40 Вт, количество ламп в панели 12 шт,) и термообработку при 105-115 С. Полученную фотополимерную модель (для создания жесткости) наклеивают клеем ПУ - 2 на пластину из оргстекла толщиной 8- ,10 мм, Дпя придания модели токопроводящих свойств поверхность ее металлизируют сульфидом меди, Металлизация включает следующие операции (последовательно): сорбцию поверхности модели в водном растворе, состоящем из сернокислой меди 10 - 100 г/л, сернокислого цинка 50-100 г/л, 25%-ного водного аммиака 200 мл/л; гидролиз модели в холодной воде и сульфидирование в водном растворе сернистого натрия концентрацией 10- 50 г/л, Подготовленные модели завешивают в гальваническую установку, где осаждают последовательно слой сплава ни 15 - 202 - 4 0,7 - 1,0 30-40 3,0-3,5 200-260 80 в 1 1 - 2 кель-кобальта толщиной 2,0 мм и медь тол щиной 5-6 мм из сульфаминовокислых электролитов следующих составов, г/л:Сульфаминовокиспый электролит осаж дения сплава никель-кобальтаСульфаминовокислыйникель 330-340Сульфаминовокислыйкобальт10 Двухлористый никельНатрийлаурилсульфатБорная кислотарНКатодная плотность15 тока, А/дм 5,0Температура электролита С 40-55Сульфаминовокислый электролит осаждения меди20 СульфаминовокислаямедьСерная кислотаПирофосфорнокислыйкалий 2,8-5,0 25 рН 0,3-0,8Катодная плотностьтока, А/дмТемпература электролита, С 25-30 30 После получения требуемой толщинымодель с гальванопластическим осадком извлекают из гальванопластической установки, обрабатывают осадок относительнобазовой поверхности модели на металлоре жущем оборудовании и извлекают модельна ручном винтовом прессе. В полученныхматрицах (после установки их в пресс-форму) отливают пластмассовые иэделия "Ученический трафарет", при этом качество 40 изделий (четкость рельефа) хорошее,П р и м е р 2. Изготовляют гальванопластикой рельефную форму (состоящую . . из двух симметричных полуматриц) длялитья изделий "Расческа" из этрола АПЦЭ 15 - 5. Ручка расчески имела фактурированную поверхность. Полумодели (левая иправая в зеркальном отображении) получают из фотополимерной композиции "Ликофот - Т 22", Толщина полумоделей (с учетом 50 технологического припуска) 2,4 мм. Высотарельефа фактуры на ручке 0,25 мм, Тип фактуры крупный, номер 1593 по каталогу фактур,поверхностей, Для того, чтобы получитьполумодели с такой высотой элементов по формуле С = 2,3 а 2. минимальная ширина.непрозрачных элементов на фотошаблонедля тела и зуба модели 1,02 мм, для фактуры0,33 мм. Зная соотношения глубин и роя вления фотополимерного слоя модели и минимальной ширины непрозрачных элементов,1696602 Ф о р мула изобретен ия Способ изготовления рельефных форм,преимущественно деталей технологической Составитель О,Лангин Редактор С.Патрушева Техред М.Моргентал Корректор Н,РевскаяЗаказ 4283 Тираж Подписное ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Москва, Ж, Раушская наб 4/5 Производственно-издательский комбинат Патент", г. Ужгород, ул,Гагарина, 101 изготовляют фотошаблон. Композицию "Ликофот-Т 22" заливают в полость установки ФЛЗс щелью 2,4 мм и далее изтотовляют полумодели, а по ним полуматрйцы гальванопластикой аналогично примеру 1, В полученной форме отливают изделия "Расческа". Изделия получают с четким профилем тела зубьев и фактуры на ручкс. оснастки, включающий нанесение на металлическую подложку фотополимеризующейся композиции, экспонирование через фотошаблон соответствующего рельефа, 5 проявление фотополимерного слоя и последующее гальваническое осаждение металлического слоя, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что, с целью расширения ассортимента получаемых изделий, проявление фотополи мерного слоя осуществляют на разнуюглубину С в зависимости от минимальной ширины непрозрачных элементов фотошаблона а при их соотношении С = 2,3 а.