Эмаль

Номер патента: 1371499

Опубликовано: 30.01.1988

Авторы: Отто, Рейнхард

МПК: C03C 17/23

Метки: металла, непрерывного, оксида, осаждения, покрытия

...было также закаливать в условиях, обычных для нормального стекла. Кроме того, стеклянную пластину с нанесенным 1слоем ЯпО в описанных условиях и качествах можно резать алмазом с обеихсторон без отслаивания слоя.С помощью этого устройства и в рабочих условиях, отличающихся от указанных только скоростью перемещения пластины Ч (причем эта скорость была доведена примерно до 10 м/мин), был получен слой БпО толщиной примерно 10 нм, средней проводимостью (Кп) 1,5 кОм, прозрачностью почти 100 .для видимого излучения и механическими свойствами, практически эквивалентными слоям, полученным при перемещении стеклянной пластины со скоростью 2 м/мин.Предлагаемое устройство может быть также использовано для осаждения химическим путем из газовой фазы...

Номер патента: 1709253

Опубликовано: 30.01.1992

Автор: Андрианов

МПК: G01R 31/12

Метки: диэлектрических, металлических, объектов, покрытий, сплошности

...для контроля сплошности диэлектрических покрытий по предлагаемому способу рассчитано на контроль сплошности покрытий на внутренней поверхности полых цилиндрических изделий, преимущественно труб, и также содержит электроискровой дефектоскоп с источником электрического напряжения и подключенным к нему кольцевым щупом, контактирующим с поверхностью покрытия, детектором и индикатором электрического пробоя. Устройство отличается тем, что щуп размещен на дополнительно введенном поршне, устанавливаемом в начале контроля внутри изделия на одном его конце, в то время как другой конец изделия герметически закрыт дополнительно введенной крышкой так, что сам контролируемый объект образует камеру, внутри которой одним из известных способов...

Номер патента: 957316

Опубликовано: 07.09.1982

Авторы: Гостиев, Малынин, Морозов, Хмара

МПК: H01J 19/30

Метки: антидинатронное, оксида, основе, покрытие, приборов, хрома, электровакуумных, электродов, электролит

...кремнефтористого калия ниже указанного значения приводит к возрастанию содержания в покрытии оксида хрома, что отрицательно сказывается на его стойкости к электронной бомбардировке. Увеличение концентрации кремнефтористого калия выше предельного значения приводит к изменению характера микрорельефа поверхности покрытия в сторону его сглаживания и возрастанию в связи с этим 6 выше допустимых значений. Микрофотографии поверхности антидинатронных покрытий получают методом растровой электронной микроскопии во вторично-электронном изображении с помощью электронного микроскопа типа 15 М - 50 А, Объектом электронномикроскопического исследования являются образцы антидинатронных покрытий на основе хрома и оксида хрома, нанесенных на медную...

Номер патента: 331506

Опубликовано: 01.01.1972

Авторы: Демь, Приходько, Сапко

МПК: F15B 15/00, F27D 11/10, H05B 7/156

Метки: печей, регулятор, режима, электрического, электрогидравлический, электродуговых

...кла11 И с 1 .1 с 033;С 1 ПОМ 31 31 Ц 13 е 3 сбО Гя НТ ТППОВ 1 е дросселц с рсг)лг, рям 3, 3 рме 35 е)Ые в гцд- опрВС)дсХ ря:Л 33 "33 ЫХ М и И 1. ОдНяКО ТПО вые дросселц не 1 рмеццмы дл явтоматическоо рсгулцровяии цсрсмсщеция расходуе.;Ого ЭСКГРОД 3 Т;К К;К ои 3 ЦС ПОЗВОЛЯЮТ СТ;б 3 Л 1 ЗрОВЯ 1 Ь ВССЬМЗ Х)1 Л 1.1 31 сС;(Од Жцд(ОСТ 31, И СтсВКЯ ИРИЦ 5 То 0 31 сСХОДс В ик ПРО. ЦЗ 5)Дт Я ТОЛЬКО ВРУгп) С).3)351 3 олучсц малого расхода неооходцмо во:можно большс умсьшять пе 15 ияд дявле 31351 Ц ИЛОЩДЬ ОКИЯ.3,;53 умс.ньшецця цлощяд проходное Окно ВЫ 30,И 5 сС 5 В ВИДЕ ПРМО)ГО,Ь 3 ОГО КЯЛИОРОВ;3 п;ого паза.1 як кяк выполцсцие окця малых размеров технически очень слс)жцо, я иногда практически цсвозможио, в предлягяе 1 ой коиструкцш...

Номер патента: 793948

Опубликовано: 07.01.1981

Авторы: Крюков, Курило

МПК: C03B 5/02

Метки: печь, стекло-варенная, трехфарная, электрическая

...- повышение качества стекла за счет создания равномерных температурных. полей, полей по горизонтальным уровням и их автономного регулирования.Указанная цель достигается тем, что в трехфазной электрической стекловаренной печи, содержащей варочный бассейн с пристенными электродами, расположенными дргг над дртох, каждая пара электродов последующего горизонтального яруса подключена к фазе, повернутой на 180 относительно каждой пары электродов предыдущего яруса.При такой схеме питания электродов исключается взаимное влияние электродов соседних ярусов, что позволяет располагать электроды этих ярусов близко друг к другу.Для выхода на требуемый режим работы предусмотрсна вольтодобавка, дающая возможность регулировать напряжение на...