Способ получения тестовых изображений

(51) ОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТ ССРЫТИЙ ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯК АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Бюл. У 9осмических исследоваВ шкои 088.8)свидетельство С Н 04 Б 1/10, 19 птика спеклов.(5 ОЛУЧЕНИЯ ТЕСТОВЫХ ИЗО СПОСОБИЙИзо брет ние может быть испольготовлении оптическихенситометрических испыно при и иньев для ний. Цель ласти при зобретения - расширенинения способа за счеттового изображения в в об по ения т Ьае Ю(71) Институт кний АН СССР(56) АвторскоеУ 1061682, кл.Франсон М. 0Мир, 1980, с.32 де оптического клина структурного типа, Пропущенное через поляроид 3 излучение лазера 1 преобразуют микро- объективом 4 в расходящийся пучок. Ограничивают диаметр прошедшего через рассеиватель 5 пучка посредством круглой диафрагмы 6. Измеряют фотоэлектрическим приемником 9 освещенность в плоскости экспонирования, в которую затем помещают маску 7 с окном. Экспонируют с помощью затвора 2 с постоянной величиной экспозиции различные участки фотоматериала 8, изменяя перед каждым последующим экспонированием соотношение диаметра диафрагмы и расстояния до фотоматериала 8. Постоянство величины экспозиции обеспечивается путем изменения яркости источника или времени экспонирования. 3 з,п.ф-лы, 2 ил.ЮИзобретение относится к сенситометрии, в частности к способам изготовления оптических клиньев для сенситометрических испытаний.Цель изобретения - расширение области применения за счвт получениятестового изображения в виде оптического клина структурного типа.На Фиг.1 изображена схема устрой 10ства для получения тестовых изображений клина структурного типа; нафиг,2 - четыре поля клина структурного типа (с шагом изменения структуры в два раза).На схеме (Фиг.1) обозначены лазер 1, затвор 2, поляроид 3, микрообъектив 4, матовое стекло (рассеиватель) 5, диафрагму 6, маску с окном7, светочувствительный материал 8,фотоэлектрический приемник 9, измерительный прибор 10, электрически связанный с приемником 9,Сущность изобретения заключаетсяв том, что формируют расходящийся пучок когерентного излучения лазера,рассеивают его диффузным, матовымрассеивателем, ограничивают размеррассеянного пучка диафрагмой диаметром П и изображение спекловой картины многократно последовательно экспонируют на разные участки Фотоматериала, изменяют соотношения размерадиафрагмы 0 и расстояния Е при каждом последующем экспонировании и изменяют условия экспонирования для обеспечения постоянства экспозиции.Способ осуществляют следующим образом,Пучок излучения лазера 1 при открытом затворе 2 пропускают через поляроид 3 и преобразуют в расходящийся пучок микрообъективом 4, Затем расходящийся пучок за микрообъективом 4пропускают через рассеиватель 5, например матовое стекло и непосредственно за ним ограничивают диаметр 0пучка круглой диафрагмой 6. В плоскости предполагаемого экспонирования нарасстоянии 1 от диафрагмы 6 измеряют50освещенность с помощью фотоэлектрического приемника 9, электрически свя.занного с измерительным прибором 10,Затем помещают в эту плоскость фотоматериал 8 и непосредственно перед55ним помещают маску 7 с окном, котороеограничивает размер экспонируемогоучастка, а затем осуществляют экспонирование фотоматериала 8 с помощью затвора 2, При этом величина экспозипии Н пропорциональна величине освещенности Е Фотоматериала, создаваемой источником излучения, и времени экспонирования 1, т,е. Н=ЕС.Перед каждым последующим экспонированием изменяют соотношение размера диафрагмы и расстояние РЬ . При этом масштаб спекловой структуры изменяется пропорционально этому соотношению, но одновременно изменяется также и освещенность Е в плоскости фотоматериала 8, Эти изменения можно компенсировать изменением яркости излучения источника или изменением времени экспонирования. Яркость излучения изменяют разворотом поляроида 3 в своей плоскости. При этом пропускание для поляризованного излучения лазера меняется, и при измерении фотоприемником 9 в плоскости предполагаемого экспонирования добиваются восстановления на пр;,боре 10 прежнего значения. Во втором случае измеряют изменение освещенности и затемкомпенсируют его соответствующим изменением времени экспонирования для получения постоянства экспозиции. Затем перемещают фотоматериал 8 или маску 7 на величину, равную размеру окна, и затвором 2 производят очередное экспонирование на фотоматериал 8. Число экспонирований определяется необходимым числом полей изготавливаемого оптического клина, т,е, требуемой точностью испытаний. После выполнения заданного числа экспонирований производят Фотохимическую обработку фотоматериала 8.Оптический структурный клин, изготовленный предлагаемым способом, позволяет осуществлять сенситометрические испытания и исследования эфФективности структурометрической видеоинформационной аппаратуры. Для удобства обработки результатов испытаний целесообразно задавать масштабизменения структуры от поля к полю клина с постоянным шагом или отношением, Это условие выполняется при изменении соотношения П/1, с постояннымшагом или отношением,Формула изобретения1. Способ получения тестовых изображений, включающий Формирование расходящегося пучка когерентного излуче 1295361ния лазера, рассеивание его диффузным рассеивателем, ограничение диаметра пучка рассеиваемого излучениядиафрагмой и экспонирование рассеянным излучением расположенного на рас-стоянии от диафрагмы фотоматериала споследующей его фото-химической обработкой, о т л и ч а ю щ и й с ятем, что, с целью расширения областиприменения за счет получения тестового изображения в виде оптического клина структурного типа, экспонируют различные участки фотоматериала, причемперед каждым последующим экспонированием изменяют соотношение диаметра ди афрагмы и расстояние до фотоматериала, а величину экспозиции поддерживают постоянной,2. Способ по п,1, о т л и ч а ю - щ и й с я тем, что величину экспозиции поддерживают постоянной путем изменения яркости источника. 3. Способ по п,1, о т л и ч а ю ш и й с я тем, что величину экспо - зипии поддерживают постоянной путем изменения времени экспонирования,4, Способ по п,1, о т л и ч а ющ и й с я тем, что диаметр диафрагмы и расстояние до плоскости экспонирования меняют с постоянным шагом илиотношением.